[發明專利]有機膜熱轉印于其上的轉印體的制造方法、有機膜熱轉印于其上的轉印體

有效

• 申請號: 200680036619.1
• 申請日: 2006-07-31
• 公開（公告）號: CN101277822A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發明（設計）人: 大畑浩;宮口敏
• 申請（專利權）人: 日本先鋒公司
• 主分類號: B41M5/382
• 分類號: B41M5/382;B41M5/46;H01L51/50
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 陶鳳波

技術領域

本發明涉及一種有機膜熱轉印于其上的轉印體的制造方法以及有機膜熱轉印于其上的轉印體；且具體而言涉及一種有機膜熱轉印于其上的轉印體的制造方法，其中熱能施加至在其表面上形成有有機膜的有機膜形成體，形成的有機膜從有機膜形成體的表面熱轉印至熱轉印受體的表面以制造有機膜熱轉印于其上的轉印體，以及有機膜熱轉印于其上的轉印體。

背景技術

有機EL裝置是一種在基板上包括電極和有機固體層的器件，該有機固體層至少包括在電極之間的發光層，其中電子和空穴從兩側上的電極注入到有機固體層的發光層中以在該有機發光層中引起光發射。該有機EL裝置能夠獲得高亮度發光。而且，由于使用來自有機化合物的光發射，所以有機EL顯示裝置具有的特征為發光顏色的選擇范圍寬，因此，有機EL顯示裝置等被期待作為光源。具體而言，有機EL顯示裝置在寬視場、高對比度、高速響應、以及可視度方面通常是優異的，因此，期望作為薄、輕質且功耗低的平板顯示器。

作為設有該有機EL裝置的有機EL顯示器中使用的有機材料的圖案化方法，可以列舉其中稱為陰影掩模并具有細開口的金屬掩模設置在基板的前面并且在真空下加熱并沉積有機材料以形成期望圖案的方法(陰影掩模方法)，以及其中通過使用噴墨印刷方法圖案化可溶于有機溶劑的有機材料的方法。

近年來，如在下面的非專利文獻1和2中所示，報道了所謂的LITI(LaserInduced?Thermal?Imaging，激光誘導熱成像)技術，按照施主板(有機膜形成體)的有機膜面向其上待形成有機膜的基板(熱轉印受體)的方式，有機材料一次性地形成在所謂施主板的構件的期望區域的整個表面上，從其上未形成施主板的有機膜的表面側發射預定寬度的激光，并且將其受照射部分的光轉換成熱，以將有機膜從施主板熱轉印到基板。據報道，與陰影掩模方法相比，該技術在轉印性能方面優異，而噴墨印刷法在有機EL顯示裝置的高清晰度像素化方面是優選的。

非專利文獻1：SID?02Digest?21.3?p784?to?787

非專利文獻2：FPD?International?Seminar?2004，“Production?Technology?ofLarge?Size?Organic?EL?Device(6)”Text?E-6

發明內容

本發明要解決的技術問題

然而，當發明人根據LITI法將有機膜從施主板轉印到基板，并檢查其上已轉印有有機膜的有機膜熱轉印基板時，發明人發現，在某些情況下，轉印性能不好。

即，發現，當根據LITI技術熱轉印有機膜時，在某些情況下，有機膜也被轉印到除了與對基板照射激光的部分施主板相對應的部分之外的部分上，即，有機膜不利地轉印到期望部分之外的部分上，其中有機膜不應被轉印在該部分，并且轉印性能不好(在說明書中，也稱作“質量轉印(masstransfer)”)。

而且，作為發明人的研究結果，發現質量轉印的不便不僅在用于有機EL顯示裝置的有機膜中發生，而且還在通常的有機膜中發生，并且進一步地，不僅當熱轉印受體是基板時發生而且當其是通常的熱轉印受體時也發生。還進一步地，在某些情況下，質量轉印不僅在LITI方法中發生，而且在其中有機膜形成體如施主板用于熱轉印到有機轉印受體上的通常方法中發生。

考慮到上述問題而完成了本發明，并且本發明的一個目的是提供一種有機膜熱轉印于其上的轉印體的制造方法，該方法可以更優選地抑制質量轉印的發生，以及有機膜熱轉印于其上的轉印體。

解決問題的方式

根據權利要求1的本發明涉及一種有機膜熱轉印于其上的轉印體的制造方法，包括：

將熱能施加在其表面上形成有有機膜的有機膜形成體上，以將所形成的有機膜從該有機膜形成體的表面熱轉印到熱轉印受體的表面以制造有機膜熱轉印于其上的轉印體，

其中，對于該熱轉印受體的表面，形成為高于該熱轉印受體的位置外緣的臺階結構在該熱轉印之前至少部分地設置在等于或超出該熱轉印受體的位置的外緣的外部上；以及

該有機膜熱轉印在熱轉印受體的表面上，以形成有機膜熱轉印于其上的轉印體。

根據權利要求7的本發明涉及一種有機膜熱轉印于其上的轉印體，該轉印體是通過在其表面上形成有有機膜的有機膜形成體上施加熱能，以將所形成的有機膜從該有機膜形成體的表面熱轉印到熱轉印受體的表面來形成，