[發明專利]基于硅、碳、氫和氮的耐腐蝕涂層無效
| 申請號： | 200680036545.1 | 申請日： | 2006-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN101278076A | 公開（公告）日： | 2008-10-01 |
| 發明（設計）人： | P·莫蘭－皮瑞爾;C·埃奧;Y·加雄 | 申請（專利權）人： | H.E.F.公司 |
| 主分類號： | C23C30/00 | 分類號： | C23C30/00;C23C28/04;C23C16/36 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 張力更 |
| 地址： | 法國昂德雷*** | 國省代碼： | 法國;FR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 腐蝕 涂層 | ||
1.用于可腐蝕金屬材料部件的防腐蝕的薄層涂層，所述涂層基本上由硅、碳、氫和氮組成，所具有的組成是：
-通過ERDA技術測定的氫的原子含量是20±5原子％，
-通過盧瑟福背散射(RBS)技術測定的硅的原子含量是15-28原子％，
-氮和碳的原子濃度的比率(N/C)大于0.9，
-材料的硬度小于或等于2100daN/mm2。
2.權利要求1的薄層涂層，其特征在于氮和碳的原子濃度的比率(N/C)大于1。
3.權利要求2的薄層涂層，其特征在于氮和碳的原子濃度的比率(N/C)至少等于1.2。
4.權利要求1-3中任一項的薄層涂層，其特征在于它包含最大5原子％的可能的雜質。
5.權利要求1-4中任一項的薄層涂層，其特征在于其厚度大于0.1μm但小于5微米。
6.權利要求5的薄層涂層，其特征在于其厚度為0.5-2.5微米。
7.權利要求1-6中任一項的薄層涂層，其特征在于氮的原子含量大于硅、碳和氫的原子含量中的每一種原子含量。
8.權利要求7的薄層涂層，其特征在于氮的原子含量至少等于29原子％。
9.權利要求8的薄層涂層，其特征在于氮的原子含量至多等于40原子％。
10.權利要求9的薄層涂層，其特征在于氮的原子含量至多等于33原子％。
11.權利要求1-10中任一項的薄層涂層，其特征在于硅和碳的原子含量是15原子％-26原子％。
12.權利要求1-11中任一項的薄層涂層，其特征在于硬度至少等于800daN/mm2。
13.權利要求1-12中任一項的薄層涂層，其特征在于其涂覆有摻雜或未摻雜的無定形碳的層。
14.機械部件，其至少一個表面層由可腐蝕金屬材料制成并且其涂覆有權利要求1-13中任一項的薄層。
15.權利要求14的部件，其特征在于該薄層涂覆有摻雜或未摻雜的無定形碳的層。
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