[發明專利]粘土薄膜基板、帶電極的粘土薄膜基板、及使用上述基板的顯示元件有效
| 申請號: | 200680034442.1 | 申請日: | 2006-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN101267940A | 公開(公告)日: | 2008-09-17 |
| 發明(設計)人: | 井上智仁;津田統;茂木克己;蛯名武雄;水上富士夫 | 申請(專利權)人: | 株式會社巴川制紙所;獨立行政法人產業技術綜合研究所 |
| 主分類號: | B32B18/00 | 分類號: | B32B18/00;C23C14/06;C23C16/42;G02F1/1333;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/10;H05B33/22 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 | 代理人: | 楊宏軍 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 粘土 薄膜 電極 使用 上述 顯示 元件 | ||
技術領域
本發明涉及具有粘土薄膜上層合有無機層的結構的粘土薄膜基板、用于顯示元件的帶電極的粘土薄膜基板、及使用上述基板的顯示元件。?
背景技術
從可移動性、省空間方面考慮,顯示器正在迅速地由現有的布勞恩管方式轉變為液晶方式(LCD)。進而,作為新一代顯示器,正開始生產作為一種自發光裝置的、在亮度、鮮艷度、耗電量方面也很優異的有機EL方式的顯示器。上述顯示器與現有的布勞恩管方式的顯示器相比,在可移動性、省空間方面格外優異,但是由于使用玻璃作為基板,所以也存在比較重且易碎的缺點。?
為了解決上述問題,在液晶方式的一部分使用膜基板(稱為“plastic?cell”)。但是,對于目前作為主流的可適應動畫的TFT驅動方式的膜基板,尚不存在可實用的膜基板。理由是不存在能夠耐受形成TFT電路的溫度、且高透明的膜基板。另外,作為新一代顯示器,為受到關注的有機EL顯示器時,為了保護有機EL元件,除了上述特性外,還必須具有非常高的阻氧性能。?
作為能夠滿足上述要求的材料,粘土薄膜受到關注。粘土薄膜具有優異的撓性,具有粘土粒子致密地層狀取向形成的結構,所以是阻氣性優異、并且耐熱性、阻燃性也優異的材料(參見專利文獻1)。但是,用作液晶或有機EL顯示器用膜基板時,還存在一些問題。?
其中之一是表面平坦性的問題。以有機EL顯示器為例,基板表面不平坦的情況下,無法均勻地制作透明導電膜,導致疵點部分的導電?性降低。進而也可能損壞有機EL元件。為了防止上述問題,使透明導電膜或有機EL元件為由數十nm~數百nm的極薄的薄膜層,故要求該基材具有數nm~數十nm的低粗糙度。但是,現有的粘土薄膜無法滿足上述要求。原因在于粘土薄膜的制造方法。目前,粘土薄膜是如下制作的:通過將分散在以水為主成分的分散介質中形成的粘土的分散液水平靜置,使粘土粒子緩慢沉積,同時蒸發分散介質,制作粘土薄膜。此時,膜表面可以說是自然形成的,所以現實情況中難以將表面粗糙度Ra抑制在亞微米級以下。?
另一個問題是對水蒸氣的阻隔性問題。由于粘土是親水性的材料,所以為吸濕性,具有易透過水蒸氣的性質。如果粘土薄膜包含大量水蒸氣,則粘土薄膜具有的粘土粒子的致密的層狀取向結構被破壞,所以粘土薄膜具有的阻氣性降低,同時耐熱性、機械強度也降低。這一問題是由粘土具有的性質本身所引起的,因此很難改善。?
專利文獻1:特開2005-104133號公報?
發明內容
如上所述,為了將具有優異的阻氣性、耐熱性、阻燃性、透明性、撓性的粘土薄膜用作液晶或有機EL顯示器用膜基板,必須顯著提高表面平坦性和對水蒸氣的阻隔性。因此,本發明的目的在于提供一種賦予粘土薄膜上述特性、可用作EL顯示器用膜基板的粘土薄膜基板。本發明的其他目的在于提供使用上述粘土薄膜基板的顯示元件。?
本發明粘土薄膜基板的第1方案的特征在于,是在具有粘土粒子取向并層合形成的結構的粘土薄膜的至少一側表面上層合阻氣無機物質層而構成的。本發明粘土薄膜基板的第2方案的特征在于,是在具有粘土粒子取向并層合形成的結構的粘土薄膜的至少一側表面上層合平坦化無機物質層、在所述平坦化無機物質層上層合阻氣無機物質層而構成的。本發明粘土薄膜基板的第3方案的特征在于,是在具有粘土粒子取向并層合形成的結構的粘土薄膜的至少一側表面交替層合多層阻氣無機物質層和多層平坦化無機物質層而構成的。?
本發明粘土薄膜基板的第4方案的特征在于,是在具有粘土粒子取向并層合形成的結構的粘土薄膜的至少一側表面上層合有機聚合物層及阻氣無機物質層而構成的。本發明粘土薄膜基板的第5方案的特征在于,是在具有粘土粒子取向并層合形成的結構的粘土薄膜的至少一側表面上交替層合多層有機聚合物層和多層阻氣無機物質層而構成的。?
本發明的上述第1~第5方案的粘土薄膜基板中的阻氣無機物質層由含氮的氧化硅膜或硅的氮化膜構成,其膜厚優選為10~200nm。另外,阻氣無機物質層可以通過噴鍍法形成。?
本發明的上述第2及第3方案的粘土薄膜基板中的平坦化無機物質層由含碳的氧化硅膜構成,其膜厚優選為100~5000nm。另外,平坦化無機物質層可以通過CVD法形成。?
本發明的帶電極的粘土薄膜基板的特征在于,在上述第1~第5方案的粘土薄膜基板的任一面上層合透明導電膜而構成。在帶電極的粘土薄膜基板中,可以在與層合有透明導電膜的面相反側的面上設置防眩層。另外,可以在與層合有透明導電膜的面相反側的面上設置防反射層。進而,還可以在與層合有透明導電膜的面相反側的面上設置硬膜層。?
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