[發明專利]包括吸收涂層的像素化的透明光學部件，其生產方法和在光學元件中的用途

無效

• 申請號: 200680034348.6
• 申請日: 2006-07-13
• 公開（公告）號: CN101268405A
• 公開（公告）日: 2008-09-17
• 發明（設計）人: 熱羅姆·巴萊;讓－保羅·卡諾
• 申請（專利權）人: 埃西勒國際通用光學公司
• 主分類號: G02C7/08
• 分類號: G02C7/08;G02C7/10;G02F1/1333
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所
• 代理人: 樓仙英

1.透明光學元件的生產方法，包括生產透明光學部件，該部件具有至少：

-一組單元，平行于該部件表面并列設置，每個單元被密封并包含具有光學性能的物質，這些單元由壁分隔；

-至少一個吸收涂層，設置在壁上平行于所述部件表面延伸的一側上。

2.根據權利要求1所述的透明光學元件的生產方法，還包括切割光學部件的步驟，所述切割沿著與光學元件的預定形狀相對應的在所述表面上限定的輪廓進行。

3.根據前述權利要求中任一所述的方法，其中，所述光學性能選自著色、光致變色、偏振和折射率。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，包含在至少一些單元中的具有光學性能的物質是液體或凝膠形式。

5.根據前述權利要求中任一所述的方法，其中，所述光學部件的所述單元組直接形成在剛性透明支撐件上，或直接形成在柔性透明膜中，然后轉移到剛性透明支撐件上。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述剛性透明支撐件在接收所述單元組的那一側上是凸起的、凹入的或平坦的。

7.根據前述權利要求中任一所述的方法，其中，所述吸收涂層的至少一個波長吸收帶為400nm～700nm。

8.根據權利要求7所述的方法，其中，吸收涂層在整個可見光譜區具有吸收帶。

9.根據權利要求8所述的方法，其中，所述吸收涂層的光譜吸收帶在近紅外區中，即在700nm以上和/或在近紫外區中，即在400nm以下。

10.根據前述權利要求中任一所述的方法，其中，所述吸收涂層通過金屬化工藝形成。

11.根據前述權利要求中任一所述的方法，其中，所述吸收涂層在形成所述壁之前沉積，或在形成所述壁之后沉積。

12.根據前述權利要求中任一所述的方法，包括如下步驟：

-在剛性透明支撐件或柔性透明膜的整個表面上沉積均勻的吸收涂層；

-沉積一層構成壁的透明材料層，并在所述透明材料層內生成單元網絡，以獲得平行于所述表面并列設置的所述單元組；

-在每個單元內進行吸收涂層的化學或物理化學刻蝕。

13.根據前述權利要求中任一所述的方法，包括如下步驟：

-通過掩模沉積吸收涂層，所述掩模具有要得到的網絡中的單元分布圖案；

-通過進行正光刻工藝沉積構成壁的透明材料層，同時相對于所述吸收涂層的圖案對準所述透明材料層。

14.根據前述權利要求中任一所述的方法，包括如下步驟：

-在剛性透明支撐件或柔性透明膜的整個表面上沉積均勻的構成壁的透明材料層；

-在所述均勻的構成壁的透明材料層上沉積金屬層；

-經由掩模通過對所述金屬層以及所述透明材料層進行刻蝕工藝生成所述單元，以獲得平行于所述表面并列設置的所述單元組。

15.根據前述權利要求中任一所述的方法，其中，所述單元網絡通過進行一種選自下面的方法獲得，這些方式是熱印刷、熱壓印、微成型、光刻、微沉積、絲網印刷以及噴墨印刷。

16.根據權利要求12或13所述的方法，其中，金屬層用RIE(反應離子刻蝕)工藝刻蝕。

17.根據權利要求12到15中任一所述的方法，其中，所述構成壁的材料的吸收全部或部分可見光譜。

18.根據前述權利要求中任一所述的方法，包括在基板上形成壁網絡以結合平行于所述部件表面的單元，平行于所述壁的表面形成至少一個吸收涂層，該步驟在形成所述壁網絡之前和/或之后進行，用具有光學性能的液體或凝膠形式的物質集中或個別地填充所述單元，以及在所述單元的相對于基板的側面上密封所述單元。

19.根據前述權利要求中任一所述的方法，其中，所述吸收涂層包括選自鋁、銀、鉻、鈦、鉑、鎳、銅、鐵、鋅、錫、鈀和金的金屬。

20.根據權利要求19所述的方法，其中，所述吸收涂層包括選自銀、鋁、鈦、鉻和金的金屬。