[發(fā)明專利]具有變跡壁的像素化光學(xué)構(gòu)件及其制造方法和在制造透明光學(xué)元件中的用途

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680034140.4
• 申請(qǐng)日: 2006-07-13
• 公開（公告）號(hào): CN101268404A
• 公開（公告）日: 2008-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 克里斯蒂安·博韋;讓－保羅·卡諾;吉勒·馬蒂厄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 埃西勒國(guó)際通用光學(xué)公司
• 主分類號(hào): G02C7/08
• 分類號(hào): G02C7/08;G02C7/10;G02F1/1333;G02F1/1339
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所
• 代理人: 樓仙英

1.?一種生產(chǎn)透明光學(xué)元件的方法，包括生產(chǎn)透明光學(xué)構(gòu)件的步驟， 該透明光學(xué)構(gòu)件具有至少一個(gè)平行于所述構(gòu)件的一個(gè)表面并置的單元陣 列，每個(gè)單元被密封并含有具有光學(xué)特性的物質(zhì)，這些單元由具有變跡輪 廓的壁隔開。

2.?如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓是在所述壁 的至少一個(gè)邊緣的平滑步驟過(guò)程中獲得。

3.?如權(quán)利要求1和2中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述壁的變跡輪 廓是在所述壁的底部和/或頂部進(jìn)行的平滑步驟過(guò)程中獲得。

4.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述平滑步驟在所述 壁的頂部的至少一個(gè)邊緣上進(jìn)行。

5.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述平滑步驟在所述 壁的頂部的兩個(gè)邊緣上進(jìn)行。

6.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓還 包括所述壁的生成，其中，所述壁的兩個(gè)側(cè)面的每個(gè)都具有平行于襯底表 面的相同的斜率。

7.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓還 包括所述壁的生成，其中，所述壁的兩個(gè)側(cè)面的每個(gè)都具有平行于襯底表 面的不同的斜率。

8.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述壁邊緣的平滑是 對(duì)稱的或不對(duì)稱的。

9.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述邊緣的平滑提供 了具有高斯輪廓的壁。

10.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述邊緣的平滑通過(guò) 化學(xué)的或物理化學(xué)的蝕刻工藝來(lái)進(jìn)行。

11.?如權(quán)利要求10所述的方法，其中，所述工藝是等離子蝕刻。

12.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓在 所述壁的生產(chǎn)過(guò)程中通過(guò)在所述生產(chǎn)方法中利用掩模來(lái)直接獲得，所述掩 模被放置在與構(gòu)成所述壁的材料相距可變且可控的距離處。

13.?如權(quán)利要求12所述的方法，其中，生產(chǎn)所述壁的工藝選自于熱 印、熱模壓、微模塑、光刻、微沉積、絲網(wǎng)印刷或噴墨印刷。

14.?如權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述生產(chǎn)工藝選自于微模塑 和光刻。

15.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓通 過(guò)在掩模下將蝕刻工藝與壁生產(chǎn)工藝相結(jié)合來(lái)獲得。

16.?如權(quán)利要求1所述的方法，其中，還包括沿所述表面上定義的輪 廓切割所述光學(xué)構(gòu)件的步驟，所述輪廓與所述光學(xué)元件的定義的形狀相對(duì) 應(yīng)。

17.?如權(quán)利要求1-16中任一項(xiàng)所述的方法，其中，還包括穿過(guò)所述光 學(xué)構(gòu)件鉆孔的步驟，用以將所述光學(xué)元件緊固到定位支撐件。

18.?如前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中，所述光學(xué)構(gòu)件的所述單 元陣列直接形成在剛性透明支撐件上，或形成在隨后被轉(zhuǎn)移到剛性透明支 撐件上的柔性透明膜內(nèi)。

19.?如權(quán)利要求18所述的方法，其中，所述剛性透明支撐件被選擇 為在容置所述單元陣列的側(cè)面上是凸起的、凹入的或平坦的。

20.?如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法，包括在襯底上形成具有變跡 輪廓的壁的陣列，以限定平行于所述構(gòu)件的所述表面的單元；用液體或凝 膠形式的具有光學(xué)特性的物質(zhì)集中地或單個(gè)地填充所述單元；以及在所述 單元的遠(yuǎn)離所述襯底的相對(duì)側(cè)密封所述單元。

21.?一種光學(xué)構(gòu)件，包括至少一個(gè)平行于所述構(gòu)件的一個(gè)表面并置的 透明單元陣列，每個(gè)單元由具有變跡輪廓的壁隔開，每個(gè)單元被密封并含 有至少一個(gè)具有光學(xué)特性的物質(zhì)。

22.?如權(quán)利要求21所述的光學(xué)構(gòu)件，其中，包含在至少一些所述單 元中的具有光學(xué)特性的所述物質(zhì)是液體或凝膠形式。