[發明專利]具有一體式集塵系統的研磨制品及其制造方法

無效

• 申請號: 200680034051.X
• 申請日: 2006-09-12
• 公開（公告）號: CN101267915A
• 公開（公告）日: 2008-09-17
• 發明（設計）人: 愛德華·J·吳;托馬斯·W·蘭博塞克;魯弗斯·C·小桑德斯;埃里克·J·布朗施韋格;賽義德·A·安格德吉萬德;蘇雷什·卡拉圖爾;柯蒂斯·J·施密特;查爾斯·R·沃爾德;唐娜·W·班格
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: B24D11/02
• 分類號: B24D11/02;B24D9/08;B24D13/14;B24B55/10
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司
• 代理人: 顧紅霞;何勝勇

1.一種研磨制品，所述研磨制品包括：

具有研磨表面的多孔研磨層，所述多孔研磨層包含基底，該基底包 括第一表面、與第一表面相對的第二表面、用至少一種粘結劑附連 到所述第一表面上的多個磨粒、以及從所述多孔研磨層的所述研磨 表面延伸至所述第二表面的多個開口；

第一過濾介質，其具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表 面，所述第一過濾介質的所述第一表面緊靠所述多孔研磨層的所述 第二表面，所述第一過濾介質包括由多個通道側壁形成的多個分立 通道，所述通道從所述第一過濾介質的所述第一表面延伸到所述第 一過濾介質的所述第二表面，所述第一過濾介質具有1到20毫米范 圍內的高度；

第二過濾介質，其具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表 面，所述第二過濾介質的所述第一表面緊靠所述第一過濾介質的所 述第二表面；以及

附連中間層，其緊靠所述第二過濾介質的所述第二表面；

其中所述開口與所述通道配合，以允許顆粒從所述研磨表面流向所 述第二過濾介質。

2.根據權利要求1所述的研磨制品，其中所述通道側壁包含聚合物薄 膜。

3.根據權利要求2所述的研磨制品，其中所述聚合物薄膜包含聚合 物，該聚合物選自下列物質組成的群組：聚丙烯、聚乙烯、聚四氟 乙烯、以及它們的組合。

4.根據權利要求2所述的研磨制品，其中所述聚合物薄膜具有結構化 表面。

5.根據權利要求1所述的研磨制品，其中所述多個通道的平均有效圓 直徑為至少0.1毫米。

6.根據權利要求1所述的研磨制品，其中所述第二過濾介質包括非織 造過濾材料。

7.根據權利要求1所述的研磨制品，還包括設置在所述多孔研磨層和 所述第一過濾介質之間的第三過濾介質。

8.一種研磨盤，所述研磨盤包括：

具有研磨表面的研磨層，所述研磨層包含基底，該基底具有第一表 面、與第一表面相對的第二表面、用至少一種粘結劑附連到所述第 一表面上的多個磨粒、以及從所述研磨層的所述研磨表面延伸至所 述第二表面的多個開口；

第一過濾介質，其具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表 面，所述第一過濾介質的所述第一表面附連到所述多孔研磨層的所 述第二表面，所述第一過濾介質包括采用堆疊結構且彼此相連的多 個聚合物薄膜構成的多個通道，所述通道從所述第一過濾介質的所 述第一表面延伸至所述第一過濾介質的所述第二表面；

第二過濾介質，其具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表 面，所述第二過濾介質的所述第一表面緊靠所述第一過濾介質的所 述第二表面；以及

附連中間層，其緊靠所述第二過濾介質的所述第二表面；

其中所述開口與所述通道配合，以允許顆粒從所述研磨表面流至所 述第二過濾介質。

9.根據權利要求8所述的研磨盤，其中所述聚合物薄膜具有結構化表 面。

10.根據權利要求8所述的研磨盤，其中所述聚合物薄膜帶有靜電荷。

11.根據權利要求8所述的研磨盤，其中所述多個通道的平均有效圓直 徑為至少0.1毫米。