[發(fā)明專利]光敏組合物、轉(zhuǎn)印材料、遮光膜及其制備方法、顯示裝置用濾色器、顯示裝置用襯底和顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680033665.6
• 申請日: 2006-09-14
• 公開（公告）號: CN101263424A
• 公開（公告）日: 2008-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 畠山晶
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G02B5/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 陳平

發(fā)明背景

1.發(fā)明領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種優(yōu)選用于制備安置在顯示裝置如等離子體顯示裝置、EL顯示裝置和CRT顯示裝置中的遮光膜的光敏組合物、使用該光敏組合物的轉(zhuǎn)印材料、遮光膜及其制備方法；顯示裝置用濾色器；顯示裝置用襯底和顯示裝置。

2.相關(guān)技術(shù)的描述

在裝置比如液晶顯示裝置、等離子體顯示裝置、EL顯示裝置和CRT顯示裝置內(nèi)，顯示裝置用遮光膜以黑邊緣、像素周圍的點(diǎn)陣圖案、條狀黑邊緣(所謂黑底)、點(diǎn)圖案或線性黑圖案形式，被安置作為用于薄膜晶體管(TFT)的遮光。

例如，黑底是構(gòu)成液晶顯示等的遮光膜的實(shí)例。為了防止由于光泄漏通過在像素之間的空間而引起的對比度下降，通常安置黑底，以使其圍繞著裝備在液晶顯示裝置內(nèi)的濾色器的每一個有色像素(紅色、綠色或藍(lán)色像素)。另一個實(shí)例是在使用TFT并且使用有源矩陣尋址法的液晶裝置中，裝備在TFT上的遮光膜，以防止圖像質(zhì)量因被光引起的來自TFT上的電流泄漏而劣化。

遮光膜通常需要光密度為2以上的遮光性能，并且從顯示裝置的顯示圖像的質(zhì)量考慮，遮光膜優(yōu)選為黑色的。

有人提出了使用金屬制備具有高遮光性能的遮光膜。例如，提出的方法包括通過真空沉積或?yàn)R射制備金屬薄膜；通過將光致抗蝕劑涂布在金屬薄膜上以形成光致抗蝕劑膜；使用圖案掩模(光掩模)將該光致抗蝕劑膜曝光以形成遮光膜；將曝光的光致抗蝕劑膜顯影；蝕刻曝光的薄膜；以及將光致抗蝕劑膜從金屬薄膜上剝離(參見，例如，彩色TFT液晶顯示(ColorTFT?Liquid?Crystal?Display)，218-220頁，由Kyoritsu?Shuppan股份有限公司于1997年4月10日出版)。

有一種技術(shù)是使用炭黑形成具有低反射率的遮光膜(例如，參見日本專利申請公開(JP-A)62-9301)。這種遮光膜是通過如下步驟獲得的膜：將含有炭黑的光敏樹脂組合物涂敷到襯底上，將該組合物干燥，將所得膜曝光以及將該膜顯影。

然而，由于相對于金屬，其每單位量的光密度低，因此不可避免地增加遮光膜的厚度，以確保高的遮光性能和光密度。因此，當(dāng)形成遮光膜之后形成紅、藍(lán)和綠色的像素時，容易產(chǎn)生空氣氣泡，或難于獲得均勻像素。

在另一種方法中，通過無電沉積形成了含有鎳細(xì)粒的黑底(例如，參見JP-A?7-218715)。然而，由于這種方法只獲得平均粒子直徑為30nm以下的粒子，因此難于獲得完美的黑色色調(diào)或難于獲得厚度為0.5μm的薄膜。而且，由于在制備過程中使用了電鍍液體，因此這種方法給環(huán)境帶來了沉重的負(fù)擔(dān)。

鑒于上述方法和技術(shù)，有人提出了使用含有金屬粒子的組合物或使用轉(zhuǎn)印材料形成遮光膜的技術(shù)(例如，參見JP-A?2004-240039)。這種技術(shù)可以解決諸如上述的產(chǎn)生空氣氣泡、難于形成均勻像素、成為差的黑色色調(diào)以及給環(huán)境帶來巨大負(fù)擔(dān)之類的問題，并且可以獲得具有高的光密度和反射率的薄遮光膜。

然而，盡管由于使用了金屬薄膜而甚至在膜厚度薄的情況下也獲得了高的遮光作用，但是由于真空沉積法如氣相沉積和濺射或蝕刻法是必需的，因而生產(chǎn)成本昂貴。此外，具有高的反射率的金屬薄膜使顯示對比度在外部光下低。

盡管在一種技術(shù)中使用了利用低反射鉻膜(比如包含金屬鉻層和氧化鉻層的兩層膜)的現(xiàn)有技術(shù)，但是不可否認(rèn)的是生產(chǎn)成本進(jìn)一步增加。將鉻用于這種膜還可以對環(huán)境帶來了沉重的負(fù)擔(dān)。

當(dāng)使用含有金屬粒子的組合物或轉(zhuǎn)印材料時，所獲得的遮光膜具有反射率在較高的溫度增加的特性。由于為制備濾色器通常使用被稱為烘焙處理的高溫處理，因此近年來在需要高質(zhì)量圖像的濾色器中，需要烘焙不引起反射率增加的遮光膜。

發(fā)明概述

本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的。

本發(fā)明的第一方面提供一種光敏組合物，所述光敏組合物包含含有合金部分和單體的粒子，其中所述光敏組合物形成膜之后，所述膜按每1μm干膜厚度計(jì)具有2.0以上的光密度。

本發(fā)明的第二方面是提供一種轉(zhuǎn)印材料，所述轉(zhuǎn)印材料包含臨時載體和安置在臨時載體上的光敏層，其中所述光敏層包含在臨時載體上的第一方面的光敏組合物。

本發(fā)明的第三方面提供一種遮光膜，所述遮光膜通過將第一方面的光敏組合物涂敷到襯底上而形成。

本發(fā)明的第三方面提供一種遮光膜，所述遮光膜通過將第二方面的轉(zhuǎn)印材料的光敏層轉(zhuǎn)移到襯底上而形成。

本發(fā)明的第五方面提供一種顯示裝置用襯底，所述顯示裝置用襯底包含第三或第四方面的遮光膜。