[發(fā)明專利]微光刻投影光學(xué)系統(tǒng)、用于制造裝置的方法以及設(shè)計(jì)光學(xué)表面的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680033544.1
• 申請(qǐng)日: 2006-09-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101263430A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H－J·曼恩;W·烏爾里希;M·普萊托里爾斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所
• 代理人: 楊曉光;于靜

1.一種微光刻投影光學(xué)系統(tǒng)，包括：

多個(gè)元件，其被設(shè)置為將來(lái)自物平面的波長(zhǎng)為λ的光成像到像平面，至少一個(gè)所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋轉(zhuǎn)非對(duì)稱表面，

其中，在至少一個(gè)位置，所述旋轉(zhuǎn)非對(duì)稱表面從最佳擬合旋轉(zhuǎn)對(duì)稱表面偏離至少λ。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述最佳擬合旋轉(zhuǎn)非對(duì)稱表面從對(duì)應(yīng)于下面的公式的表面偏離小于或等于約0.1λ：

z=cr21+1-(1+k)c2r2+Σj=2αCjxmyn]]>

其中

j=(m+n)2+m+3n2+1,]]>

z是平行于軸的表面的垂度，c是頂點(diǎn)曲率，k是錐體常量，C_j是單項(xiàng)式x^myⁿ的系數(shù)，以及α是整數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，在一個(gè)或多個(gè)位置，所述旋轉(zhuǎn)非對(duì)稱表面從所述最佳擬合旋轉(zhuǎn)對(duì)稱表面偏離大于或等于約10λ。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，在一個(gè)或多個(gè)位置，所述旋轉(zhuǎn)非對(duì)稱表面從所述最佳擬合旋轉(zhuǎn)對(duì)稱表面偏離大于或等于約20nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述多個(gè)元件定義子午面，并且所述元件相對(duì)于所述子午面是鏡面對(duì)稱的。

6.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述多個(gè)元件包括兩個(gè)反射元件，所述反射元件具有位于光路上的旋轉(zhuǎn)非對(duì)稱表面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述多個(gè)元件包括不超過(guò)兩個(gè)的反射元件，所述反射元件具有正的主光線角度放大率。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述多個(gè)元件包括不超過(guò)一個(gè)的反射元件，所述反射元件具有正的主光線角度放大率。

9.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述微光刻投影光學(xué)系統(tǒng)具有大于或等于約0.2的像側(cè)數(shù)值孔徑。

10.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述光學(xué)系統(tǒng)在像平面上具有矩形場(chǎng)，并且，其中，在正交方向的每個(gè)方向上，所述矩形場(chǎng)在彼此正交的兩個(gè)方向上都具有大于或等于約1mm的最小尺寸。

11.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，在所述像場(chǎng)處的靜態(tài)畸變?yōu)樾∮诨虻扔诩s10nm。

12.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，在所述像場(chǎng)處的波前誤差是小于或等于約λ/14。

13.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述主光線在物平面上彼此發(fā)散。