[發(fā)明專利]光源和提供光束的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680031853.5
• 申請日: 2006-08-24
• 公開（公告）號: CN101253435A
• 公開（公告）日: 2008-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·P·C·M·克里恩;M·C·J·M·維森伯格;P·A·杜恩
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: G02B6/42
• 分類號: G02B6/42;H01L33/00;F21S8/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 龔海軍;譚祐祥

1.光源，包括：

-發(fā)光元件(6)，設(shè)置成通過元件(6)的正面(8)發(fā)射大部分在元件內(nèi)產(chǎn)生的光，以及

-至少一個(gè)用于耦合輸出光的結(jié)構(gòu)(7；18)，具有與元件(6)的正面(8)接觸的基座(11；19)，并設(shè)置成通過與基座(11；19)相對的孔(12；20)發(fā)射光，其中在元件(6)和圍繞基座(11；19)的環(huán)境之間的界面經(jīng)設(shè)置使得至少部分在元件中產(chǎn)生的光被限定在鄰接基座(11；19)的元件(6)至少一層中，其特征在于基座(11；19)在比正面(8)的面積(A₀)小的面積(A₂)上與所述正面(8)接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的光源，其中鄰接基座(11；19)的元件(6)的至少一層具有大于1的折射率。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的光源，包括多個(gè)用于耦合輸出光的結(jié)構(gòu)(18a-18e)，每個(gè)具有在比正面(8)的面積顯著小的面積上與正面(8)接觸的基座(20a-20e)。

4.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求的光源，包括至少一個(gè)用于至少準(zhǔn)直穿過用于耦合輸出光的結(jié)構(gòu)(7；18)之一的光的結(jié)構(gòu)(7；22a-22f)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4的光源，其中至少一個(gè)用于耦合輸出光的結(jié)構(gòu)(7)包括集成在其上的準(zhǔn)直系統(tǒng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4的光源，其中至少一個(gè)微透鏡(22a-22f)提供在與用于耦合輸出光的結(jié)構(gòu)(18)的基座(19a-19e)相對的各個(gè)孔(20a-20e)上。

7.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求的光源，其中所述與基座(11；19)相對的孔(12；20)具有比基座(11；19)大的面積(A₃)。

8.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求的光源，其中用于發(fā)光的部件(6)包括分層器件，其包括：

-一個(gè)或多個(gè)用于把電流轉(zhuǎn)變成光的有源層(9)，

-至少一個(gè)另外層(10)，在元件中產(chǎn)生的光頻率范圍內(nèi)是透明的并且在該范圍內(nèi)具有比有源層(9)更小的吸收系數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8的光源，其中發(fā)光元件包括分層器件，其包括：

-一個(gè)或多個(gè)用于把電流轉(zhuǎn)變成光的有源層(9)，以及

-至少一個(gè)在所述元件的所述正面和所述有源層之間的層，其包括熒光材料。

10.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求的光源，其中所述發(fā)光元件包括分層器件，其中至少一個(gè)用于耦合輸出光的結(jié)構(gòu)與鄰接其基座的元件一層集成在一起。

11.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求的光源，其中與所述發(fā)光元件的正面(8)相對，提供反射面(14)。

12.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求的光源，其中所述發(fā)光元件由發(fā)光二極管管芯形成。

13.提供光束的方法，包括：

-激活發(fā)光元件(6)，其設(shè)置成通過元件的正面(8)發(fā)射大部分在所述元件內(nèi)產(chǎn)生的光，使得在所述元件(6)中生成的光的至少一部分在所述元件的所述正面(8)的至少部分處被反射，其特征在于：

-通過至少一個(gè)具有基座(11；19)的結(jié)構(gòu)(7；18)耦合輸出光，該基座在比所述正面(8)的面積(A₀)小的面積(A₂)上與所述正面(8)相接觸。

14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，包括提供激活元件的環(huán)境，該環(huán)境具有比發(fā)光元件(6)顯著低的折射率。

15.光學(xué)裝置，包括光源(2)和用于接受來自所述光源的光的光學(xué)系統(tǒng)(3)，其中所述光源由根據(jù)權(quán)利要求1-12任意一項(xiàng)的光源形成。

16.根據(jù)權(quán)利要求15的光學(xué)裝置，其中所述光學(xué)系統(tǒng)(3)具有比所述光源(2)的集光率要大的接受能力。