[發明專利]氟系氣體產生裝置有效
| 申請號： | 200680030920.1 | 申請日： | 2006-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN101248216A | 公開（公告）日： | 2008-08-20 |
| 發明（設計）人： | 田中則之;吉本修;平巖次郎;早川宏;東城哲朗 | 申請（專利權）人： | 東洋炭素株式會社 |
| 主分類號： | C25B9/00 | 分類號： | C25B9/00;C25B1/24;C25B15/08 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 溫大鵬 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氣體 產生 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種氟系氣體產生裝置，在具備陽極室和陰極室的電解槽內具有由含有氟化氫的混合熔融鹽構成的電解浴，通過對前述電解浴進行電解來產生含氟的氣體，其特征在于，具有：
原料供給配管，在前述電解槽中到達電解浴中，用于供給電解用原料；
常閉型閥，設置在前述原料供給配管的中途；和
設置有常開型閥的迂回用配管，將比前述常閉型閥靠向下游側的前述原料供給配管與前述電解槽的氣相部分連接，
在前述原料供給配管的中途設置的前述常閉型閥關閉時，在前述迂回用配管的中途設置的前述常開型閥打開。
2.根據權利要求1所述的氟系氣體產生裝置，其特征在于，
前述原料供給配管設置在前述電解槽的陰極室側。
3.根據權利要求1或2所述的氟系氣體產生裝置，其特征在于，
前述原料供給配管內的壓力與前述電解槽內的壓力均衡。
4.根據權利要求1或2所述的氟系氣體產生裝置，其特征在于，
所產生的氣體是氟或三氟化氮。
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