[發明專利]靜電圖像顯影用調色劑的制造方法和篩裝置

有效

• 申請號: 200680030752.6
• 申請日: 2006-08-23
• 公開（公告）號: CN101248394A
• 公開（公告）日: 2008-08-20
• 發明（設計）人: 石山慎吾;青柳伸之
• 申請（專利權）人: 三菱化學株式會社
• 主分類號: G03G9/087
• 分類號: G03G9/087;B03B5/00;B07B1/28;B07B1/46;B07B1/48
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 丁香蘭

技術領域

本發明涉及靜電圖像顯影用調色劑的制造方法和篩裝置。更詳細地說，本發明涉及能夠高效且高產率地制造在圖像特性、畫質和顯影裝置的耐劃傷性等方面優異的靜電圖像顯影用調色劑的靜電圖像顯影用調色劑的制造方法以及可連續過篩而不會堵塞篩眼的篩裝置。?

背景技術

利用電子照相法形成可見圖像時，通常，首先在感光鼓上形成靜電潛像，然后利用調色劑使該靜電潛像顯影后將其轉印到轉印紙等上，并利用熱等對其進行定影。對于此時的靜電圖像顯影用調色劑來說，通常以在利用所謂熔融混煉粉碎法所得到的調色劑母粒的表面上附著有為了賦予其流動性等各種性能而使用的外添劑的形態來使用，所述熔融混煉粉碎法是指，在粘合劑樹脂和著色劑中根據需要干式混合帶電控制劑、防粘劑、磁性體等后，用擠出機等進行熔融混煉，然后進行粉碎、分級。?

近年，高畫質成為復印機、打印機等應具備的性能，為了實現該性能，所述調色劑母粒必須滿足體積平均粒徑為4μm～8μm左右且粒度分布窄的條件。但是，上述的熔融混煉粉碎法中，難以控制調色劑母粒的粒徑，并且要得到體積平均粒徑為4μm～8μm左右的調色劑母粒時，存在必然會產生大量所需粒徑以下的微粉并且難以在分級工序中將其分離的問題。?

作為改善熔融混煉粉碎法中上述問題的方法，提出了下述方法等：(a)懸浮聚合法，其中，將聚合性單體、聚合引發劑、著色劑等在水系介質中懸浮分散后，使其聚合來制造調色劑母粒；(b)乳液聚合凝聚法，其中，在含有聚合引發劑、乳化劑等的水性介質中對聚合性單體進行乳化，并在攪拌下使聚合性單體聚合，在如此得到的聚合物一次顆粒的分散液?中添加著色劑等，然后使上述聚合物一次顆粒凝聚、熟化，從而制造調色劑母粒；(c)溶解懸浮法，其中，預先將聚合物、著色劑等溶解分散在溶劑中，將該溶解分散液(調色劑成分的溶解分散液)分散到水系介質中，對其進行加熱或減壓以除去溶劑，由此制造調色劑母粒。?

根據這樣的濕式法，能夠得到粒徑小且粒度分布較窄的調色劑母粒。但是，僅采用這些方法時，在控制調色劑母粒的形狀和使粒徑更均勻方面尚不充分。?

另外，近年的復印機、打印機等在進一步要求高度的圖像特性、畫質的同時，還需要一種對構成成像裝置的部件在劃傷和磨耗等方面沒有不良影響的調色劑。因此，需要更精確地控制調色劑粒徑，特別重要的是粗粒(大粒徑)調色劑要少。?

與利用熔融混煉粉碎法制造的調色劑母粒相比，利用濕式法制造調色劑母粒時得到的調色劑母粒中的粗粒的含有率的確小，但是，濕式法依然不能充分消除粗粒。據認為，其原因是多方面的，其中，利用濕式法制造調色劑母粒的情況中，在調色劑分散在水系介質中的狀態下，調色劑母粒彼此在凝聚、聚合時或者溶解時向容器內的附著是其中的一個原因。?

因此，以往采用了下述方法，例如如專利文獻1所述那樣，對調色劑母粒進行干燥，使外添劑附著在調色劑母粒表面上后，過篩除去調色劑母粒中的粗粒。但是，僅利用這樣的外添后的干式過篩工序時，由于容易引起篩的堵塞而導致產率差，并且效率也低，另外，由于外添前的調色劑母粒的階段中存在粗粒，從而存在促進外添時的凝聚的問題。?

另一方面，利用濕式法制造調色劑母粒時，有時制造工序中包括過濾工序，該過濾工序的目的是除去懸浮穩定劑、乳化劑、雜質、副產物或者小粒徑微粒等，目前通常不包括為了除去比調色劑母粒大的粗粒的工序。?

因此，專利文獻2和3中記載了除去該調色劑母粒中的粗粒的工序。但是，這些專利文獻中記載的技術存在下述問題：連續供給調色劑分散液時，篩的篩眼被粗大顆粒堵住，而在粗粒去除工序中，調色劑分散液?發生由篩溢出的問題。?

另外，專利文獻4～6記載了消除該粗大顆粒堵塞篩眼的技術。但是，利用這些技術雖然能連續排出對篩的篩眼來說是非常大的顆粒，但是，粒徑與篩眼直徑相近的顆?；蛘吲c篩眼直徑相當的顆粒堵住了篩的篩眼，以致不能連續過篩。?

因此，也開發了專利文獻7所述那樣的過篩方法，其中反向供給調色劑母粒的分散液而不會發生篩眼堵塞，但是由于該方法導致了調色劑母粒的滯留等，所以其不是生產上的方法。?

如上所述，現在尚不清楚如何有效地從基于濕式法所得到的調色劑中除去粗大顆粒，以得到在圖像特性、畫質、顯影裝置的耐劃傷性等方面優異的靜電圖像顯影用調色劑，也不存在實現該目的的篩裝置。?

專利文獻1：日本特開2001-249491號公報?

專利文獻2：日本特開2000-172007號公報?

專利文獻3：日本特開2002-196534號公報?

專利文獻4：日本特開2004-198793號公報?