[發明專利]雙波長正性工作輻射敏感元件

無效

• 申請號: 200680030303.1
• 申請日: 2006-06-08
• 公開（公告）號: CN101243127A
• 公開（公告）日: 2008-08-13
• 發明（設計）人: J·W·古丁
• 申請（專利權）人: 加拿大柯達圖形通信公司
• 主分類號: C08K5/00
• 分類號: C08K5/00;C08K5/23;B41C1/10;G03F7/022
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 趙蘇林;韋欣華

1.一種輻射敏感性組合物，其包含：

a.至少一種含至少一個縮醛基團的縮醛聚合物，其中至少一個縮醛基團與酚基團直接連接，和

b.含有至少一種以下物質的輻射敏感性物質：

i.醌二疊氮化物基團，和

ii.鹽。

2.權利要求1的輻射敏感性組合物，進一步包含紅外光-熱轉化物質。

3.權利要求2的輻射敏感性組合物，進一步包含能提高顯影能力的物質。

4.權利要求3的輻射敏感性組合物，進一步包含水洗脫性阻滯物質。

5.權利要求1的組合物，其中縮醛聚合物具有以下結構：

其中R¹是-C_nH_2n+1，其中n＝1-12，

R²是

其中R⁴＝-OH；

R⁵＝-OH或-OCH₃或Br-或-O-CH₂-C≡CH；和

R⁶＝Br-或NO₂，和

R³＝-(CH₂)_t-COOH、-C≡CH或

其中R⁷＝COOH、-(CH₂)_t-COOH、-O-(CH₂)_t-COOH，

其中t＝1-4，和

其中

b＝5-40摩爾％，優選15-35摩爾％

c＝10-60摩爾％，優選20-40摩爾％

d＝0-20摩爾％，優選0-10摩爾％

e＝2-20摩爾％，優選1-10摩爾％和

f＝5-50摩爾％，優選15-40摩爾％。

6.權利要求1的輻射敏感性組合物，其中輻射敏感性物質能在加熱時產生氣相。

7.權利要求6的輻射敏感性組合物，其中氣相通過以下至少一種方式產生：

a.輻射敏感性物質的分解；

b.輻射敏感性物質的蒸發，和

c.輻射敏感性物質與在正性工作輻射敏感性組合物中的另一種結構部分反應。

8.一種可成像的元件，包含：

a.基材，和

b.權利要求1的組合物在基材表面上的涂覆且干燥的層。

9.一種可成像的元件，包含：

a.基材，和

b.權利要求2的組合物在基材表面上的涂覆且干燥的層。

10.一種可成像的元件，包含：

a.基材，和

b.權利要求3的組合物在基材表面上的涂覆且干燥的層。

11.一種可成像的元件，包含：

a.基材，和

b.權利要求4的組合物在基材表面上的涂覆且干燥的層。

12.一種可成像的元件，包含：

a.基材，和

b.權利要求5的組合物在基材表面上的涂覆且干燥的層。

13.一種可成像的元件，包含：

a.基材，和

b.權利要求6的組合物在基材表面上的涂覆且干燥的層。

14.一種可成像的元件，包含：

a.基材，和

b.權利要求7的組合物在基材表面上的涂覆且干燥的層。

15.一種輻射敏感性印刷前體，其包含：

a.基底，和

b.在基底表面上的輻射敏感性組合物，該組合物包含：

a.含至少一個與酚基團直接連接的縮醛基團的縮醛聚合物，和

b.含有至少一種以下物質的輻射敏感性物質：

(1)醌二疊氮化物基團，和

(2)鹽。

16.權利要求15的輻射敏感性印刷前體，進一步包含紅外光-熱轉化物質。

17.權利要求16的輻射敏感性組合物，進一步包含能提高顯影能力的物質。