[發明專利]電化學設備以及阻擋層保護的基板有效
| 申請號: | 200680029643.2 | 申請日: | 2006-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN101243563A | 公開(公告)日: | 2008-08-13 |
| 發明(設計)人: | S·W·斯奈德;B·J·紐德克爾 | 申請(專利權)人: | 無窮動力解決方案股份有限公司 |
| 主分類號: | H01M2/02 | 分類號: | H01M2/02;B05D5/12 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 陳哲鋒 |
| 地址: | 美國科*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電化學 設備 以及 阻擋 保護 | ||
1.一種電化學設備,其包括:
a)基板,選自金屬、聚合物、或者摻雜或未摻雜的硅材料,所述基板具有第一側面;
b)位于所述第一側面上的第一電化學活性電池,其具有負性部分和正性部分,所述這些部分還包括一個或多個端子;
c)位于所述第一側面上的第一阻擋層,該阻擋層將所述第一電化學活性電池和所述基板化學上隔離;
d)其中,所述第一阻擋層進一步包括多個亞層。
2.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述設備還包括位于所述基板的所述第一側面上的多個電化學活性電池。
3.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述第一阻擋層包含對于所述第一電化學活性電池和所述基板為化學惰性的材料;在所述基板上制造所述第一電化學活性電池過程中以及在所述電化學設備的工作和儲存條件下,第一阻擋層適合于阻止向所述第一電化學活性電池和所述基板發生的擴散。
4.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述亞層選自導電性、電絕緣性或半導體的材料,其中:
a)所述第一電化學活性電池的所述正性部分不與所述第一電化學活性電池的所述負性部分發生電接觸;
b)所述第一電化學活性電池的所述正性部分至少包括正陰極、陰極集電極和正端;
c)所述第一電化學活性電池的所述負性部分至少包括負陽極、陽極集電極和負端。
5.如權利要求4所述的電化學設備,其特征在于,所述陰極集電極包括所述正端。
6.如權利要求4所述的電化學設備,其特征在于,所述陽極集電極包括所述負端。
7.如權利要求4所述的電化學設備,其特征在于,所述陽極集電極包括所述陽極。
8.如權利要求4所述的電化學設備,其特征在于,所述陽極集電極包括所述陽極集電極、所述陽極和所述負端。
9.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述亞層都具有相同的形狀和面積尺寸。
10.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述亞層中至少一個亞層與所述亞層中的另一個亞層具有不同的形狀和面積尺寸。
11.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述第一阻擋層僅部分覆蓋所述基板,使得所述第一電化學活性電池的至少正性部分與所述基板化學上隔離。
12.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述第一阻擋層僅部分覆蓋所述基板,使得所述第一電化學活性電池的至少負性部分與所述基板化學上隔離。
13.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述第一阻擋層的厚度為0.01微米-1毫米。
14.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述第一阻擋層的厚度為0.1-100微米。
15.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述第一阻擋層的厚度為0.5-5微米。
16.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述基板的厚度為0.1微米-1厘米。
17.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述基板的厚度為1微米-1毫米。
18.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述基板的厚度為10-100微米。
19.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述亞層包含選自以下的化合物:
a)金屬、半金屬、合金、硼化物、碳化物、金剛石、金剛石樣碳、硅化物、氮化物、磷化物、氧化物、氟化物、氯化物、溴化物、碘化物;
b)由硼化物、碳化物、硅化物、氮化物、磷化物、氧化物、氟化物、氯化物、溴化物和碘化物組成的任何多元化合物;或
c)高溫穩定的有機聚合物和高溫穩定的聚硅氧烷。
20.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,至少一個所述亞層包含單相的晶體、納米晶體、非晶形或玻璃態材料,或者它們的多相混合物或復合物。
21.如權利要求1所述的電化學設備,其特征在于,所述至少一個亞層包含單相的非晶形或玻璃態材料。
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