[發(fā)明專利]帶鋸齒的傅立葉濾波器及檢查系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680029168.9 | 申請日： | 2006-06-06 |
| 公開（公告）號： | CN101238362A | 公開（公告）日： | 2008-08-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | H·J·鄭;A·V·希爾;M·S·王 | 申請（專利權(quán)）人： | 恪納騰技術(shù)公司 |
| 主分類號： | G01N21/00 | 分類號： | G01N21/00 |
| 代理公司： | 北京嘉和天工知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人： | 嚴慎 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鋸齒 傅立葉 濾波器 檢查 系統(tǒng) | ||
1.一種被配置來阻擋來自晶片的部分光的傅立葉濾波器，包括：
一個或更多個被配置來阻擋所述部分光的阻擋單元；以及
形成在所述一個或更多個阻擋單元的邊緣的周期性鋸齒，其中所述周期性鋸齒限定所述一個或更多個阻擋單元的過渡區(qū)段，并且其中所述周期性鋸齒被配置為使透射橫跨所述過渡區(qū)段變化，以使得橫跨所述過渡區(qū)段的所述透射的變化基本上是平滑的。
2.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述周期性鋸齒的周期被選擇為使得除零級外所有衍射級被引導(dǎo)到成像平面處的光敏元件之外。
3.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述周期性鋸齒還被配置為實質(zhì)上減少進入到在成像平面處的相鄰光敏元件中的零級光衍射。
4.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述周期性鋸齒還被配置為防止所述傅立葉濾波器所透射的光的信噪比的實質(zhì)性降低。
5.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述透射是平均透射。
6.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述透射的變化包括一個或更多個局部透射的最小值。
7.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述周期性鋸齒的寬度橫跨所述周期性鋸齒的長度大致以正弦的方式變化。
8.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述周期性鋸齒的寬度橫跨所述周期性鋸齒的長度大致以線性的方式變化。
9.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述周期性鋸齒沿所述一個或更多個阻擋單元的所述邊緣對稱地排布。
10.如權(quán)利要求1所述的傅立葉濾波器，其中所述周期性鋸齒沿所述一個或更多個阻擋單元的所述邊緣非對稱地排布。
11.一種被配置來阻擋來自晶片的部分光的傅立葉濾波器，包括一個或更多個被配置來阻擋所述部分光的阻擋單元，其中所述一個或更多個阻擋單元具有過渡區(qū)段，透射橫跨所述過渡區(qū)段變化，其中所述過渡區(qū)段在結(jié)構(gòu)上不是平滑的，并且其中所述過渡區(qū)段在光學(xué)上基本上是平滑的。
12.一種被配置來檢查晶片上的缺陷的檢查系統(tǒng)，包括：
傅立葉濾波器，所述傅立葉濾波器包括形成在一個或更多個阻擋單元的邊緣的周期性鋸齒，其中所述一個或更多個阻擋單元被配置來阻擋從所述晶片返回的光的部分；其中所述周期性鋸齒限定所述一個或更多個阻擋單元的過渡區(qū)段，并且其中所述周期性鋸齒被配置為使透射橫跨所述過渡區(qū)段變化，使得橫跨所述過渡區(qū)段的所述透射的變化基本上是平滑的；以及
檢測器，所述檢測器被配置來檢查所述傅立葉濾波器透射的光，其中所述檢測器生成的信號可以被用來檢測所述晶片上的所述缺陷。
13.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述周期性鋸齒的周期被選擇為使得除零級外所有衍射級被引導(dǎo)到所述檢測器的光敏元件之外。
14.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述周期性鋸齒還被配置為實質(zhì)上減少進入到所述檢測器的相鄰光敏元件中的零級光衍射。
15.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述周期性鋸齒還被配置為防止所述傅立葉濾波器所透射的光的信噪比的實質(zhì)性降低。
16.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述透射是平均透射。
17.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述透射的變化包括一個或更多個局部透射的最小值。
18.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述周期性鋸齒的寬度橫跨所述周期性鋸齒的長度大致以正弦的方式變化。
19.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述周期性鋸齒的寬度橫跨所述周期性鋸齒的長度大致以線性的方式變化。
20.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述周期性鋸齒沿所述一個或更多個阻擋單元的所述邊緣對稱地排布。
21.如權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述周期性鋸齒沿所述一個或更多個阻擋單元的所述邊緣非對稱地排布。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于恪納騰技術(shù)公司，未經(jīng)恪納騰技術(shù)公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200680029168.9/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
