[發明專利]濾色片的制造方法及濾色片以及液晶顯示裝置

無效

• 申請號: 200680028618.2
• 申請日: 2006-07-25
• 公開（公告）號: CN101238398A
• 公開（公告）日: 2008-08-06
• 發明（設計）人: 兒玉知啟
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G03F7/004;G02B3/00;G03F7/20;G02F1/1335
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 朱丹

1.一種濾色片的制造方法，其特征在于，

包括曝光工序，其對于由感光性組合物構成且位于基材的表面的感光層，使至少具備光照射機構及光調制機構的曝光頭、和所述感光層的至少任一個移動，同時利用所述光調制機構根據圖案信息調制從所述光照射機構射出的光，并從所述曝光頭照射，從而對所述感光層進行曝光，

所述感光性組合物包含：粘合劑、聚合性化合物、著色劑、及光聚合引發劑，所述著色劑中含有的顏料的數均粒徑最大為100nm，且該顏料的所述感光性組合物的固態成分中的含量至少為30質量％。

2.根據權利要求1所述的濾色片的制造方法，其中，

光調制機構具有n(其中，n為2以上的自然數)個排列為二維狀的描繪像素部，該描繪像素部接受并射出來自光照射機構的光，并且基于圖案信息可以控制所述描繪像素部。

3.根據權利要求1或2所述的濾色片的制造方法，其中，

光照射機構是射出由半導體激光器元件生成的激光的激光源。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的濾色片的制造方法，其中，

曝光頭具備：聚光透鏡系，其將來自光照射機構的光聚光，并向光調制機構照射；成像透鏡系，其使利用所述光調制機構調制的光形成的像在感光層的被曝光面上成像。

5.根據權利要求4所述的濾色片的制造方法，其中，

成像透鏡系包括：微透鏡排列為陣列狀而成的微透鏡陣列。

6.根據權利要求4或5所述的濾色片的制造方法，其中，

成像透鏡系包括：孔陣列，其是配置孔而成的，該孔以僅使經過了該微透鏡的光入射的方式排列在微透鏡的聚光位置附近。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的濾色片的制造方法，其中，

利用聚光透鏡系使從光照射機構向光調制機構照射的光的照射區域內中的光量具有分布，并修正利用所述光調制機構調制的光的感光層的被曝光面上的光量分布，使該光量分布均勻。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的濾色片的制造方法，其中，

曝光是使用焦點調節機構進行的，該焦點調節機構改變利用光調制機構調制的光的光程長，從而調節成像于感光層的被曝光面的曝光光的焦點。

9.根據權利要求8所述的濾色片的制造方法，其中，

使利用光調制機構調制的光僅成像于包括成像透鏡系的中央部的大致矩形狀區域。

10.根據權利要求8或9所述的濾色片的制造方法，其中，

焦點調節機構具有：以使利用光調制機構調制的光的光軸方向的厚度變化的方式形成的楔型棱鏡組，通過使構成該楔型棱鏡組的各楔型棱鏡移動，調節在將所述調制的光成像于感光層的被曝光面上時的焦點。

11.根據權利要求5～10中任一項所述的濾色片的制造方法，其中，

微透鏡陣列的各微透鏡具有：對由描繪像素部的面的變形引起的像差進行修正的非球面。

12.根據權利要求11所述的濾色片的制造方法，其中，

非球面為復曲面。

13.根據權利要求5～10中任一項所述的濾色片的制造方法，其中，

微透鏡陣列的各微透鏡具有對所述像素部的面的變形引起的像差進行修正的折射率分布。

14.根據權利要求5～10中任一項所述的濾色片的制造方法，其中，

微透鏡陣列的各微透鏡具有不使來自所述像素部的周邊部的光入射的透鏡開口形狀。

15.根據權利要求1～14中任一項所述的濾色片的制造方法，其中，

使用：描繪像素部的列方向相對于掃描方向呈規定的設定傾斜角度θ地配置而成的曝光頭，

對于所述曝光頭，利用使用描繪像素部指定機構指定：能夠使用的所述描繪像素部中用于N重曝光(其中，N為2以上的自然數)的所述描繪像素部，

對于所述曝光頭，利用使用描繪像素部控制機構控制所述描繪像素部，使只有由所述使用描繪像素部指定機構指定的所述描繪像素部參與曝光，

對于所述感光層，使所述曝光頭相對于掃描方向相對移動，從而進行曝光。