[發明專利]束阻擋件和束調整方法

有效

• 申請號: 200680028482.5
• 申請日: 2006-06-02
• 公開（公告）號: CN101238538A
• 公開（公告）日: 2008-08-06
• 發明（設計）人: J·范德波特;Y·Z·黃
• 申請（專利權）人: 艾克塞利斯技術公司
• 主分類號: H01J37/244
• 分類號: H01J37/244
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉杰;王小衡

1.一種用于質量分析器的射束阻擋組件，該射束阻擋組件包括：

進入射束阻擋件，其通常沿著離子束路徑、靠近質量分析器的入口設置，該進入射束阻擋件相對于離子束選擇性地設置，其中該進入射束阻擋件操作成根據該進入射束阻擋件相對于離子束的位置，以選擇性地防止離子束進入質量分析器。

2.如權利要求1所述的射束阻擋組件，其中該進入射束阻擋件包括可滑動地耦接至質量分析器的板。

3.如權利要求1所述的射束阻擋組件，包括可操作地耦接至該板的致動器，其中該致動器可操作成選擇性地將該板定位。

4.如權利要求3所述的射束阻擋組件，其中該致動器包括旋轉致動器，該旋轉致動器可被操作以經由離子束路徑選擇性地旋轉該板。

5.如權利要求3所述的射束阻擋組件，其中該致動器包括線性致動器，該線性致動器操作成經由離子束路徑選擇性地線性平移該板。

6.如權利要求2所述的射束阻擋組件，其中該板包括以碳為主的材料。

7.如權利要求6所述的射束阻擋組件，其中該以碳為主的材料包括石墨。

8.如權利要求1所述的射束阻擋組件，進一步包括測量裝置，該測量裝置設置在進入射束阻擋件的上游，其中該測量裝置可操作成檢測該離子束的一個或多個性質。

9.如權利要求8所述的射束阻擋組件，其中該測量裝置包括測量孔徑、測量電極、以及線掃瞄器的一個或多個。

10.如權利要求1所述的射束阻擋組件，進一步包括射出射束阻擋件，其通常沿著離子束路徑、靠近質量分析器的出口設置，其中該射出射束阻擋件相對于離子束選擇性地設置，其中該射出射束阻擋件可操作成根據該射出射束阻擋件相對于離子束的位置，選擇性地防止離子束從該質量分析器射出。

11.如權利要求10所述的射束阻擋組件，進一步包括設置在射出射束阻擋件上游的測量裝置，其中該測量裝置可操作成檢測該離子束的一個或多個性質。

12.如權利要求11所述的射束阻擋組件，其中

該測量裝置包括測量孔徑、測量電極、以及線掃瞄器的一個或多個。

13.一種離子注入系統，包括：

具有射出孔徑的離子源，其中該離子源可操作成經由射出孔徑形成離子束；

質量分析器；

射束阻擋組件，其中該射束阻擋組件包括進入射束阻擋件，該進入射束阻擋件通常沿著離子束路徑、靠近質量分析器的入口設置，其中該進入射束阻擋件相對于離子束選擇性地設置，其中該進入射束阻擋件可操作成根據該進入射束阻擋件相對于離子束的位置，以選擇性地防止該離子束進入該質量分析器；以及

控制器，該控制器可操作成控制該進入射束阻擋件的位置，其中該控制是根據由離子源所形成離子束的穩定性而定。

14.如權利要求13所述的離子注入系統，包括可操作地耦接至進入射束阻擋件的致動器，其中該致動器可操作成至少部分根據該離子束的穩定性，而將該進入射束阻擋件選擇性地定位。

15.如權利要求14所述的離子注入系統，其中該致動器包括旋轉致動器，該旋轉致動器可操作成經由離子射束路徑選擇性地旋轉該進入射束阻擋件。

16.如權利要求14所述的離子注入系統，其中該致動器包括線性致動器，該線性致動器可操作成經由離子射束路徑選擇性地線性平移該進入射束阻擋件。

17.如權利要求13所述的離子注入系統，其中該進入射束阻擋件包括石墨板。

18.如權利要求13所述的離子注入系統，進一步包括測量裝置，該測量裝置設置在進入射束阻擋件的上游，其中該測量裝置可操作成檢測該離子束的一個或多個性質，其中控制器操作成根據該一個或多個性質而確定離子束的穩定性。

19.如權利要求18所述的離子注入系統，其中該測量裝置包括測量孔徑、測量電極、以及線掃瞄器的一個或多個。