[發明專利]帶電束收集和粒子吸引器

有效

• 申請號: 200680028442.0
• 申請日: 2006-06-02
• 公開（公告）號: CN101233597A
• 公開（公告）日: 2008-07-30
• 發明（設計）人: J·范德波特;黃永燦
• 申請（專利權）人: 艾克塞利斯技術公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/244
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉杰;王小衡

1.一種用于減少離子注入系統中的污染的裝置，包括：

粒子收集器，具有界定于其中的收集區域；

粒子吸引器，通常設置在該粒子收集器的收集區域中；以及

屏蔽，其可操作以將與該粒子吸引器有關的電位限制于該粒子收集器的收集區域中。

2.如權利要求1所述的裝置，其中該粒子收集器包括通常為凹的殼體，其中，該殼體的內部區域通常界定該收集區域。

3.如權利要求2所述的裝置，其中該殼體是由導電材料構成。

4.如權利要求3所述的裝置，其中該導電材料包括金屬。

5.如權利要求2所述的裝置，其中該殼體包括襯里，所述襯里通常覆蓋該殼體的內表面。

6.如權利要求5所述的裝置，其中該襯里包括碳。

7.如權利要求6所述的裝置，其中該襯里是由石墨和碳化硅的一個或多個所構成。

8.如權利要求1所述的裝置，進一步包括絕緣體，其中該絕緣體通常將該離子注入系統的粒子收集器、粒子吸引器、屏蔽以及壁的一個或多個彼此電隔離。

9.如權利要求1所述的裝置，其中該粒子吸引器包括抑制電極。

10.如權利要求9所述的裝置，其中該抑制電極包括柵、網、多孔板、鐵絲柵欄、以及并行線中的一個或多個。

11.如權利要求1所述的裝置，其中該屏蔽包括電接地多孔材料。

12.如權利要求11所述的裝置，其中該屏蔽包括柵、網、多孔板、鐵絲柵欄、以及并行線中的一個或多個。

13.一種離子注入系統，包括：

離子源；

終點臺；以及

質量分析器，設置于該離子源與終點臺之間，其中該質量分析器包括離子束收集組件，其中該離子束收集組件包括：粒子收集器、設置于該粒子收集器中的粒子吸引器、以及屏蔽，該屏蔽可操作地將該粒子吸引器的電位限制于粒子收集器中。

14.如權利要求13所述的離子注入系統，其中該粒子吸引器包括抑制電極。

15.如權利要求13所述的離子注入系統，其中該屏蔽包括電接地且多孔材料。

16.如權利要求15所述的離子注入系統，其中該多孔材料包括包含碳的接地柵。

17.如權利要求13所述的離子注入系統，其中該離子束收集組件與質量分析器的一個或多個壁連接。

18.如權利要求13所述的離子注入系統，其中該粒子收集器包括導電且通常為凹的殼體，所述殼體具有界定于其中的收集區域。

19.如權利要求18所述的離子注入系統，其中該殼體包括碳襯里，該碳襯里覆蓋該殼體的內表面。

20.如權利要求13所述的離子注入系統，進一步包括絕緣體，該絕緣體設置于該射束收集組件與質量分析器的壁之間，其中將該射束收集組件與質量分析器電絕緣。

21.如權利要求13所述的離子注入系統，進一步包括泵，該泵以流體方式耦接至射束收集組件，其中可操作該泵以將污染粒子實質上從射束收集組件中抽出。

22.一種用于控制離子注入系統中的污染的方法，包括以下步驟：

對離子束進行質量分析，其中界定了期望的離子束與一個或多個廢離子束；

在沿著該一個或多個廢離子束的路徑所設置的粒子收集器中施加電位；

將該粒子收集器電屏蔽，其中該粒子收集器中的電位并不會大幅影響期望的離子束的路徑；以及

在該一個或多個廢離子束進入粒子收集器后，通過粒子收集器中的電位，夾帶與該一個或多個廢離子束有關的污染粒子。

23.如權利要求22所述的方法，其中在該粒子收集器中所施加的電位通常與離子束的電位相反。

24.如權利要求22所述的方法，進一步包括將該污染粒子從粒子收集器中以泵抽出。

25.如權利要求22所述的方法，其中將該粒子收集器電屏蔽包括沿著該一個或多個廢離子束路徑，將設置在該粒子收集器前面的屏蔽電接地。