[發明專利]用于厚膜成像的光致抗蝕劑組合物

有效

• 申請號: 200680025340.3
• 申請日: 2006-07-07
• 公開（公告）號: CN101218541A
• 公開（公告）日: 2008-07-09
• 發明（設計）人: M·A·托克西;盧炳宏;S·K·穆倫
• 申請（專利權）人: AZ電子材料美國公司
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/022;G03F7/023;G03F7/105
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 任宗華

1.一種光致抗蝕劑組合物，它包括在含水堿性顯影劑中不溶但在顯影之前變得可溶的聚合物，一旦輻照則產生強酸的光致產酸劑和在與光致產酸劑相同的輻射線下吸收的可光漂白的染料。

2.權利要求1的光致抗蝕劑組合物，其中可光漂白的染料具有與光致產酸劑相類似或比其低速的光漂白。

3.權利要求1或2的光致抗蝕劑組合物，其中聚合物是用酸不穩定基團保護的含水堿性可溶聚合物。

4.權利要求1-3任何一項的光致抗蝕劑組合物，其中聚合物包括衍生于下述單體的至少一種單元，所述單體選自羥基苯乙烯、用酸不穩定基團封端的丙烯酸酯、用酸不穩定基團封端的甲基丙烯酸酯、用酸不穩定基團封端的羥基苯乙烯、苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、甲氧基苯乙烯及其混合物。

5.權利要求1-4任何一項的光致抗蝕劑組合物，其中一旦輻照，光致產酸劑產生磺酸。

6.權利要求1-5任何一項的光致抗蝕劑組合物，其中光致產酸劑選自锍鹽、肟磺酸鹽、三氯甲基三嗪、酰亞胺及其混合物。

7.權利要求1-6任何一項的光致抗蝕劑組合物，其中可光漂白的染料是重氮萘醌。

8.權利要求7的光致抗蝕劑組合物，其中可光漂白的染料是2，1，5和/或2，1，4-重氮萘醌。

9.權利要求1-8任何一項的光致抗蝕劑組合物，其中組合物進一步包括可溶可熔酚醛樹脂。

10.權利要求1-9任何一項的光致抗蝕劑組合物，其中組合物進一步包括堿。

11.權利要求1-10任何一項的光致抗蝕劑組合物，其中組合物進一步包括增塑劑。

12.使光致抗蝕劑成像的方法，該方法包括下述步驟：

a)在基底上形成權利要求1-11任何一項的光致抗蝕劑組合物的涂層；

b)用輻射線成像式曝光光致抗蝕劑涂層；

c)曝光后烘烤光致抗蝕劑涂層；

d)用含水堿性顯影劑使光致抗蝕劑涂層顯影，形成光致抗蝕劑結構。

13.權利要求12的方法，其中光致抗蝕劑涂層的膜厚大于2微米并小于200微米。

14.權利要求12或13的方法，其中一步曝光光致抗蝕劑涂層。

15.權利要求12-14任何一項的方法，其中用300nm-450nm的輻射線，使光致抗蝕劑成像。

16.權利要求12-15任何一項的方法，其中光致抗蝕劑的結構具有大于3的長寬比。

17.權利要求12-16任何一項的方法，其中光致抗蝕劑結構具有幾乎垂直的側壁。

18.權利要求12-17任何一項的方法，其中基底是銅或衍生自銅。

19.權利要求12-18任何一項的方法，其中顯影劑是四甲基氫氧化銨的水溶液。

20.權利要求1-11任何一項的組合物作為光致抗蝕劑的用途。