[發明專利]生成具有可測濃度的氧化汞的方法及裝置

無效

• 申請號: 200680023885.0
• 申請日: 2006-05-02
• 公開（公告）號: CN101272843A
• 公開（公告）日: 2008-09-24
• 發明（設計）人: 詹姆斯·H·格拉西;戴特爾·基塔
• 申請（專利權）人: 熱費希爾科學公司
• 主分類號: B01D47/00
• 分類號: B01D47/00
• 代理公司: 上海恩田旭誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 洪磊

1.一種生成已知濃度的氧化汞的方法，包括：

傳送第一濃度的單質汞給反應器；

傳送氧化組分給所述反應器，所述反應器可操作以將所述氧化組分與至少一部分所述單質汞化合；以及

基于所述氧化組分與至少一部分所述單質汞的所述化合，生成具有第二濃度的單質汞的輸出；所述輸出具有的氧化汞的已知濃度，是基于單質汞的所述第一濃度和單質汞的所述第二濃度之間的濃度差得出的。

2.如權利要求1所述的方法，包括計算單質汞的所述第一濃度和所述輸出中單質汞的所述第二濃度之間的濃度差，從而確定所述輸出中氧化汞的濃度。

3.如權利要求1所述的方法，其中傳送第一濃度的單質汞包括傳送第一已知濃度的單質汞給所述反應器。

4.如權利要求1所述的方法，包括加熱所述反應器以促進所述氧化組分與所述至少一部分所述單質汞化合以形成所述輸出。

5.如權利要求4所述的方法，包括調節所述反應器的溫度，以調節所述氧化組分與所述單質汞的化合速度。

6.如權利要求1所述的方法，其中，傳送氧化組分到所述反應器包括加熱氧化金屬以將氧化組分與金屬組分相分離。

7.如權利要求6所述的方法，包括調節所述氧化金屬的溫度，以調節所述氧化金屬分解成所述金屬組分和所述氧化組分的速度。

8.如權利要求1所述的方法，其中計算進一步包括：

將所述輸出中氧化汞的所述濃度與閾值相比較；以及

基于所述比較，對到所述反應器的氧化組分的所述傳送進行調節，從而調節所述輸出中氧化汞的所述濃度。

9.如權利要求1所述的方法，其中計算進一步包括：

將所述輸出中氧化汞的所述濃度與閾值相比較；以及

基于所述比較，調節傳送到所述反應器的所述單質汞的體積，從而調節所述輸出中氧化汞的所述濃度。

10.一種汞監測系統校準器，包括：

反應器；

與所述反應器成流體連通的單質汞源，所述單質汞源設置成傳送第一濃度的單質汞給所述反應器；以及

與所述反應器成流體連通的氧化組分源，所述氧化組分源設置成傳送氧化組分給所述反應器，所述反應器可操作以將所述氧化組分與至少一部分所述單質汞化合，從而形成輸出，所述輸出中具有第二濃度的單質汞并具有已知濃度的氧化汞，所述氧化汞的已知濃度是基于單質汞的所述第一濃度和單質汞的所述第二濃度之間的濃度差得出的。

11.如權利要求10所述的汞監測系統校準器，其中所述單質汞源可操作以傳送已知濃度的單質汞給所述反應器，作為上述的第一濃度。

12.如權利要求10所述的汞監測系統校準器，其中所述反應器包括加熱器，所述加熱器設置成加熱所述反應器以促進所述氧化組分與所述至少一部分所述單質汞化合以形成所述輸出。

13.如權利要求11所述的汞監測系統校準器，其中所述加熱器可操作以調節所述反應器的所述溫度，從而調節所述氧化組分與所述單質汞化合的速度。

14.如權利要求10所述的汞監測系統校準器，其中所述氧化組分源包括加熱器，所述加熱器設置成加熱由所述氧化組分源載送的氧化金屬，以將氧化組分與金屬組分相分離。

15.如權利要求14所述的汞監測系統校準器，其中所述加熱器可操作以調節氧化金屬的溫度，從而調節所述氧化金屬分解成所述金屬組分和所述氧化組分的速度。

16.如權利要求10所述的汞監測系統校準器，包括與所述反應器成電連通的控制器，所述控制器設置成：

檢測所述輸出中單質汞的第二濃度；以及

計算單質汞的所述第一濃度和所述輸出中單質汞的所述第二濃度之間的濃度差，以檢測所述輸出中氧化汞的濃度。

17.如權利要求16所述的汞監測系統校準器，其中所述控制器與所述單質汞源成電連通，并且當計算時，所述控制器可操作以：

將所述輸出中氧化汞的所述濃度與閾值相比較；以及

基于該比較，調節傳送到所述反應器的所述氧化組分的體積，從而調節所述輸出中氧化汞的所述濃度。