[發(fā)明專(zhuān)利]繪制表面輪廓無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680023184.7 | 申請(qǐng)日: | 2006-06-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101208580A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | W·波澤;W·D·范阿姆斯特 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01B11/24 | 分類(lèi)號(hào): | G01B11/24;G01N21/95;G06T7/00;G01B11/30 |
| 代理公司: | 永新專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 王英 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國(guó)省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 繪制 表面 輪廓 | ||
1.一種用于繪制物體(2)的表面(1)的表面形貌
a)傳感器(3),其用于測(cè)量所述表面上的預(yù)定測(cè)量位置(4)處的表面形貌的梯度
b)計(jì)算實(shí)體(5),其用于處理來(lái)自多個(gè)測(cè)量位置的表面形貌的梯度的測(cè)量值
c)所述計(jì)算實(shí)體適于針對(duì)所述表面的至少一部分計(jì)算所述測(cè)量值的旋度以確定所述測(cè)量值表現(xiàn)出了測(cè)量誤差的表面位置(誤差位置),所述誤差位置的特征在于具有與零之間的偏差超過(guò)閾值的值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括用于使所述測(cè)量值的旋度可視化的顯示器(7)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述計(jì)算實(shí)體適于執(zhí)行自校準(zhǔn),在自校準(zhǔn)期間,對(duì)設(shè)備參數(shù)進(jìn)行修改,從而使所述測(cè)量值的平均平方旋度最小化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述計(jì)算實(shí)體適于確定的值與相鄰表面位置的值的偏差超過(guò)閾值的那些表面位置,由此識(shí)別出具有隨機(jī)缺陷的表面位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述計(jì)算實(shí)體適于執(zhí)行多個(gè)物體(2)的值的比較。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其特征在于,所述比較包括搜索對(duì)于所述多個(gè)物體中的所有物體而言共同的誤差位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其特征在于所述比較包括:
a)搜索對(duì)于所述多個(gè)物體中的所有物體共同的誤差位置,
b)確定在步驟a)中確定的誤差位置處的的幅度是否與制造和/或測(cè)量物體的時(shí)間相關(guān)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述計(jì)算實(shí)體適于針對(duì)系統(tǒng)誤差校正顯示出了測(cè)量誤差的測(cè)量值,其中,為了校正測(cè)量值,使函數(shù)
最小化,其中,所述多個(gè)測(cè)量位置構(gòu)成了物體的表面A,并且由參數(shù)α1,α2...αn表示系統(tǒng)誤差。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述計(jì)算實(shí)體為計(jì)算機(jī)和/或計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。
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