[發明專利]可旋轉印刷頭陣列有效
| 申請號: | 200680022939.1 | 申請日: | 2006-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN101238463A | 公開(公告)日: | 2008-08-06 |
| 發明(設計)人: | P·A·帕克斯;R·D·塔夫;R·M·佩特森;D·阿爾伯塔利;C·李;B·J·賽 | 申請(專利權)人: | 里特雷克斯公司 |
| 主分類號: | G06F19/00 | 分類號: | G06F19/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 崔幼平;廖凌玲 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 旋轉 印刷 陣列 | ||
???????????????????相關申請的交叉參考
本申請要求2005年4月25日提交的美國臨時申請60/674584、60/674585、60/674588、60/674589、60/674590、60/674591和60/674592的權益,上述申請的公開內容在此并入作為參考。
????????????????????????技術領域
本發明涉及一種壓電式微沉積(PMD)裝置,更特別地,涉及一種用于PMD裝置的印刷頭或打印頭對準組件。
????????????????????????背景技術
這個部分中的內容僅僅提供與本發明相關的背景信息,不能構成現有技術。
在工業PMD應用中,滴放置精度是重要的。有各種各樣的原因導致滴放置的不準確,這些原因可包括陣列中的印刷頭之間的失準以及將在其上印刷的基片的失準。印刷頭和/或基片的手動調節可能是代價高、耗時的,并且可能仍然導致錯誤。因而,需要有效地解決和修正滴放置中可能的錯誤源。
?????????????????????????發明內容
根據本發明,印刷機或打印機裝置可包括夾盤、與夾盤隔開的導軌、聯接到導軌的印刷頭滑架框架和可樞轉地聯接到印刷頭滑架框架的印刷頭滑架,所述夾盤構形成將基片支撐在其上。
根據這里提供的說明,別的適用領域將變得顯而易見,應該懂得,說明和具體例子僅僅是用于說明的目的而非用來限制本發明的范圍。
?????????????????????????附圖說明
這里描述的附圖僅僅是用于說明的目的而非用來以任何方式限制本發明的范圍,其中:
圖1是本發明的壓電式微沉積(PMD)設備的透視圖;
圖2是本發明的印刷頭滑架組件的透視圖;
圖3是包括印刷頭對準組件的圖2中的印刷頭滑架組件的局部透視圖;
圖4是圖2中的印刷頭滑架組件中的印刷頭組件的透視圖;
圖5是圖3中的致動(或驅動)組件和圖4中的印刷頭組件的分解圖;
圖6是圖5的致動組件和印刷頭組件的另外的更為詳盡的分解視圖;
圖7是圖3中所示的致動組件的透視圖;
圖8是圖7中所示的致動組件的另外的透視圖;
圖9是圖7中所示的致動組件的部分分解透視圖;
圖10是圖7中所示的致動組件的另外的部分分解透視圖;
圖11是印刷頭對準的示意圖;
圖12是印刷頭相位失準的示意圖;
圖13是印刷頭傾斜度失準和印刷頭傾斜度對準的示意圖;
圖14是本發明的印刷頭滑架框架的透視圖;
圖15是圖14中所示的印刷頭滑架框架的俯視圖;
圖16是圖14中所示的印刷頭滑架框架的分解透視圖;
圖17是圖14中所示的印刷頭滑架的透視圖,其中印刷頭滑架被拆下;
圖18是本發明的備選印刷頭滑架框架的透視圖;
圖19是圖18中所示的印刷頭滑架調節組件的透視分解圖;
圖20是圖19中所示的印刷頭滑架調節組件的另外的部分分解的透視圖;
圖21是圖20中所示的聯接(或耦合)部件的透視圖;
圖22是圖19中所示的印刷頭滑架調節組件的另外的部分分解的透視圖;
圖23是處于致動位置的圖18中所示的印刷頭滑架調節組件的透視圖;
圖24是圖18中所示的印刷頭滑架調節組件的一部分的透視圖;
圖25是備選的印刷頭滑架調節組件的示意圖;
圖26是備選的印刷頭滑架框架的透視圖;
圖27是圖26中的印刷頭滑架框架的俯視圖;
圖28是圖26中的印刷頭滑架框架的透視分解圖;
圖29是圖26中的印刷頭滑架框架的剖視圖;
圖30是本發明的備選印刷頭滑架框架的透視圖;
圖31是圖30中所示的印刷頭滑架框架的另外的透視圖;
圖32是圖30中所示的印刷頭滑架框架的一部分的透視圖;
圖33是非鄰接式印刷頭陣列的示意圖;
圖34是本發明備選的印刷頭陣列可變傾斜度設備的示意圖;
圖35是圖34中的印刷頭陣列可變傾斜度設備的局部示意圖;
圖36是圖34中的印刷頭陣列可變傾斜度設備的另外的局部示意圖;
圖37是圖1中所示的校準攝像機組件的透視圖;和
圖38是圖1中所示的機器觀察攝像機組件的透視圖。
??????????????????????具體實施方式
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于里特雷克斯公司,未經里特雷克斯公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
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G06F19-14 ..用于發展或進化的,例如:進化的保存區域決定或進化樹結構
G06F19-16 ..用于分子結構的,例如:結構排序,結構或功能關系,蛋白質折疊,結構域拓撲,用結構數據的藥靶,涉及二維或三維結構的
G06F19-18 ..用于功能性基因組學或蛋白質組學的,例如:基因型–表型關聯,不均衡連接,種群遺傳學,結合位置鑒定,變異發生,基因型或染色體組的注釋,蛋白質相互作用或蛋白質核酸的相互作用





