[發明專利]氣體凈化器及氣體凈化方法有效
| 申請號: | 200680021966.7 | 申請日: | 2006-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN101203294A | 公開(公告)日: | 2008-06-18 |
| 發明(設計)人: | 中村守光;川井雅人 | 申請(專利權)人: | 大陽日酸株式會社 |
| 主分類號: | B01D53/04 | 分類號: | B01D53/04 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 | 代理人: | 徐江華;王珍仙 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 凈化器 凈化 方法 | ||
1.一種氣體凈化器,包括填充了氣體凈化劑的凈化器,其中,
將氣體送入所述凈化器,通過變溫吸附法去除氣體中的雜質;
確定氣體凈化劑的量A,使得該氣體凈化劑的量A的二分之一量所具有的雜質去除量與1個凈化工序中應凈化氣體中的雜質總量相等;
所述凈化器內填充的氣體凈化劑的量為所述量A或者量A以上。
2.根據權利要求1所述的氣體凈化器,其中,
在所述凈化器填充所述氣體凈化劑量A而形成氣體凈化劑層;
在該氣體凈化劑層的氣體的入口側或者出口側,進一步填充不大于0.4A的量的同種氣體凈化劑。
3.根據權利要求1所述的氣體凈化器,其中,
設定凈化工序時間為T、氣體凈化劑層的入口的氣體流速為u、氣體凈化劑的平衡吸附量為q、換算系數為α時,氣體凈化劑層的填充高度H由下式(1)確定:
H≥α·T·u/q…(1)。
4.根據權利要求1所述的氣體凈化器,其中,所述氣體凈化劑為吸附劑。
5.根據權利要求1所述的氣體凈化器,其中,所述氣體凈化劑為擔載了金屬的無機多孔物質。
6.根據權利要求4所述的氣體凈化器,其中,所述吸附劑的粒徑為1.7~5mm。
7.一種氣體凈化方法,其中,
使用權利要求1至6的任一項所述的氣體凈化器,通過變溫吸附法去除氣體中的雜質。
8.根據權利要求7所述的氣體凈化方法,其中,
所述氣體凈化劑是所述吸附劑時,所述氣體凈化劑層的入口的氣體的流速為0.25~0.4m/s。
9.根據權利要求7所述的氣體凈化方法,其中,
所述氣體凈化劑是所述吸附劑時,所述氣體凈化劑層的入口的氣體的溫度為5~45℃。
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