[發(fā)明專利]打印頭維護站

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680021716.3
• 申請日: 2006-04-25
• 公開（公告）號: CN101263008A
• 公開（公告）日: 2008-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: D·阿爾伯塔利;R·D·塔夫;O·N·格拉切夫
• 申請（專利權(quán)）人: 里特雷克斯公司
• 主分類號: B41J2/165
• 分類號: B41J2/165
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 原紹輝;楊松齡

相關(guān)申請的交叉參考

[0001]本申請要求于2005年4月25日提交的臨時申請?zhí)枮?0/674,584，60/674,585，60/674,588，60/674,589，60/674,590，60/674,591，和60/674,592的美國臨時申請的益處。上述申請的公開內(nèi)容結(jié)合于此作為參考。

技術(shù)領(lǐng)域

[0002]本申請涉及到適于壓電式微沉積(PMD)設(shè)備的打印頭維護站。

發(fā)明背景

[0003]PMD過程用于在不污染基底或流體制造材料的情況下，在基底上沉積流體制造材料的液滴。相應(yīng)的，PMD過程在避免污染的清潔房間環(huán)境中尤其有利，諸如象制造聚合物發(fā)光二極管(PLED)，印刷電路板(PCB)，或液晶顯示器(LCD)。

[0004]PMD方法和系統(tǒng)通常結(jié)合PMD工具的使用，PMD工具包括用于在基底上沉積流體制造材料的打印頭以及包含多個獨立噴嘴的噴嘴組件。PMD頭與計算機數(shù)字控制系統(tǒng)鏈接起來用于制作圖案，也就是在基底預(yù)定的位置上精確地沉積流體制造材料的液滴，及用于獨立控制每個噴嘴。通常，PMD頭可包括多個打印頭陣列，并且設(shè)計成在結(jié)合用于在基底上形成微觀結(jié)構(gòu)的各種技術(shù)和方法而使用時，可提供高度的精度和正確度。

[0005]由于極其高的液滴沉積，在PMD的應(yīng)用中通常要求的定位精度，以及不同于圖形打印機中使用的那些噴墨流體的非傳統(tǒng)噴墨流體的使用，以前在其他噴墨打印領(lǐng)域使用的維護方法通常不能夠滿意地避免PMD應(yīng)用中的噴嘴故障。因此，需要改進(jìn)的設(shè)備來維護PMD頭的狀況。

發(fā)明內(nèi)容

[0006]本說明的教導(dǎo)包括使用具有精確動態(tài)控制能力和單一打印頭交互能力吸墨站，使用提供各種噴嘴維護操作模式和噴墨控制的罩蓋和裝填站，及使用以自動方式順序地與打印頭陣列交互的墨滴分析系統(tǒng)。

[0007]另一個特點是具有為不同流體和打印頭類型來構(gòu)造吸墨站的擦拭動作，以及在運動過程中調(diào)節(jié)諸如壓力、速度和垂直升起的變量。還在另一方面，在吸墨設(shè)備中包含單個吸墨站設(shè)備以修正單個打印頭故障。此外還提供滴霧移除系統(tǒng)，其作為廢物去除的一部分整合到罩蓋站中以使印刷的基底免受污染。打印頭的主動Z運動也是一個獨特的特點，其與維護系統(tǒng)相關(guān)，從而最優(yōu)化每一液體和打印頭類型使用的各項功能。

[0008]還有另一個特點是動態(tài)跟蹤系統(tǒng)及其元件，其用來維持吸墨和擦拭站的平整和完整及維持維護站各種元件的動態(tài)運動能力，上述元件與PMD系統(tǒng)的諸如墨滴分析和墨滴檢測組件相關(guān)。

[0009]本發(fā)明的另一個特點是可以用溶劑填充每一打印頭下方的局部液槽，并使溶劑與每一打印頭的噴嘴板保持一個精確的距離，以生成局部富含蒸汽的環(huán)境，從而阻止PMD液體內(nèi)部噴液的蒸發(fā)和濃度變化。也可以使用適于局部液槽結(jié)構(gòu)的合適材料，該局部液槽結(jié)構(gòu)中的液體到局部液槽結(jié)構(gòu)的接觸角小于20度。

附圖說明

[0010]為進(jìn)一步闡明上述內(nèi)容以及證明本發(fā)明教導(dǎo)的優(yōu)勢和特點，參照在附圖中所示的特定實施例進(jìn)行更具體的說明。應(yīng)該意識到這些附圖并不是對本發(fā)明教導(dǎo)范圍的限制。通過使用附圖，用附加的特征和細(xì)節(jié)來描述和解釋本發(fā)明的教導(dǎo)，其中：

[0011]圖1是結(jié)合本發(fā)明教導(dǎo)的維護站的壓電微沉積設(shè)備的透視圖；

[0012]圖2示出PMD設(shè)備的維護站的一個實施例的透視圖；

[0013]圖2A示出一個噴嘴板和一個打印頭；

[0014]圖3示出作為PMD設(shè)備子部件的液滴分析系統(tǒng)，其通過罩蓋站和托盤的運動允許與PMD設(shè)備的維護站結(jié)合進(jìn)行液滴分析；

[0015]圖4A是根據(jù)本發(fā)明教導(dǎo)的一個罩蓋站實施例的透視圖；

[0016]圖4B是根據(jù)本發(fā)明教導(dǎo)的在一個罩蓋站實施例中使用托盤的分解透視圖；

[0017]圖4C是根據(jù)本發(fā)明教導(dǎo)的在一個罩蓋站實施例中使用托盤的頂視圖；

[0018]圖4D是圖4B中所示托盤的橫斷面視圖；

[0019]圖5A示出根據(jù)本發(fā)明教導(dǎo)的一個吸墨站的透視圖；

[0020]圖5B是根據(jù)本發(fā)明教導(dǎo)的吸墨站的分解透視圖；以及

[0021]圖5C是根據(jù)本發(fā)明教導(dǎo)的吸墨站各種元件的透視圖。

具體實施方式

[0022]以下描述只是在本質(zhì)上進(jìn)行的示范性描述，而并不意旨限制本發(fā)明的教導(dǎo)、應(yīng)用或用途。