[發明專利]耐腐蝕性金屬化膜和其制造方法無效
| 申請號: | 200680018183.3 | 申請日: | 2006-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN101184615A | 公開(公告)日: | 2008-05-21 |
| 發明(設計)人: | 邁克爾·A·約翰遜 | 申請(專利權)人: | 3M創新有限公司 |
| 主分類號: | B32B15/08 | 分類號: | B32B15/08;C09J7/00 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 郇春艷;郭國清 |
| 地址: | 美國明*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 腐蝕性 金屬化 制造 方法 | ||
1.一種耐腐蝕性金屬化膜,其包括:
具有第一表面的聚合物底層;
與所述聚合物底層的第一表面相鄰的金屬層;和
與所述金屬層相鄰的聚合物保護層,所述保護層具有與所述金屬層接觸的第二表面;
其中所述第一和第二表面(i)具有相似的表面電荷,和(ii)共同為所述金屬層提供耐腐蝕性。
2.如權利要求1所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述金屬層是具有不連續導電率的視覺連續層。
3.如權利要求1或2所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述金屬層其導電率小于約10姆歐。
4.如權利要求1~3任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述金屬層其表面電阻率至少約3歐姆/cm2。
5.如權利要求1~4任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述第一和第二表面具有:(i)在第一和第二表面上的酸性官能團,(ii)在第一和第二表面上的堿性官能團,(iii)電暈放電或輝光放電表面處理,(iv)(i)和(iii),或(v)(ii)和(iii)。
6.如權利要求1~5任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物底層包括其上具有酸性官能團的至少一種聚合物或添加劑,所述聚合物保護層包括其上具有酸性官能團的至少一種聚合物或添加劑。
7.如權利要求1~6任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物保護層包括聚氨酯、其上含有羧基的聚合物或共聚物、聚烯烴、乙烯/醋酸乙烯酯/酸三元共聚物、離聚物、用一種或多種含有酸性或堿性官能團的添加劑摻雜的聚合物、或其任何組合;和所述聚合物底層包括聚氨酯、其上含有羧基的聚合物或共聚物、聚烯烴、乙烯/醋酸乙烯酯/酸三元共聚物、離聚物、具有酸性或堿性官能團的聚合物、用一種或多種含有酸性或堿性官能團的添加劑摻雜的聚合物、或其任何組合。
8.如權利要求1~7任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物保護層包括光學透明層,其包括聚氨酯或其上含有羧基的聚合物或共聚物;和所述聚合物底層包括具有酸性官能團的聚合物、具有酸性官能團的添加劑或其任何組合。
9.如權利要求1~8任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物底層包括乙烯丙烯酸共聚物、乙烯/醋酸乙烯酯/酸三元共聚物、聚氨酯或其任何組合。
10.如權利要求1~8任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物底層包括與所述金屬層相對的外部粘合劑表面。
11.如權利要求1~10任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物底層包括壓敏粘合劑層。
12.如權利要求1~8任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物底層、所述聚合物保護層或二者均包括至少一種聚合物和巰基-官能化的硅烷或苯并三唑中的至少一種。
13.如權利要求1~8任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物保護層包括至少一種聚合物和巰基-官能的硅烷或苯并三唑中的至少一種。
14.如權利要求1~13任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述第一表面和第二表面均具有總的正表面電荷。
15.如權利要求1~5和7任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述第一表面和第二表面均具有總的負表面電荷。
16.如權利要求1~15任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述金屬層包括金屬材料區域,所述區域沿所述第二表面連接到鍵合位置,其中所述鍵合位置相應于沿所述聚合物保護層的第二表面的官能團或處理的表面區域。
17.如權利要求1~16任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物底層、所述聚合物保護層或二者是交聯的。
18.如權利要求1~17任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物底層、所述聚合物保護層或二者包括水性聚合材料。
19.如權利要求1~18任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述聚合物保護層包括至少一種聚合物和至少一種硅樹脂潤濕劑。
20.如權利要求1~19任一項所述的耐腐蝕性金屬化膜,其中所述金屬層包括銦、鋁、錫、不銹鋼、銅、銀、金、鉻、鎳、其合金、或其任何組合。
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