[發(fā)明專利]用于生產(chǎn)含有微細(xì)填料的硅氧烷組合物的方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680017522.6
• 申請(qǐng)日: 2006-05-11
• 公開（公告）號(hào): CN101180355A
• 公開（公告）日: 2008-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C·韋爾納;F·阿亨巴赫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 瓦克化學(xué)股份公司
• 主分類號(hào): C08K9/06
• 分類號(hào): C08K9/06
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 程大軍

1.一種用于生產(chǎn)包含表面處理的微細(xì)填料的硅氧烷組合物的方法，其中

(a)表面處理的微細(xì)填料(A)與聚有機(jī)硅氧烷(B)的混合在含2～10個(gè)硅原子且不含可水解或可縮合官能團(tuán)的低分子量有機(jī)硅化合物(C)的存在下進(jìn)行，或

(b)將包含表面處理的微細(xì)填料(A)與聚有機(jī)硅氧烷(B)的混合物與含2～10個(gè)硅原子且不含可水解或縮合官能團(tuán)的低分子量有機(jī)硅化合物(C)進(jìn)行均相混合，

并且基于低分子量有機(jī)硅化合物(C)，含有填料的硅氧烷組合物隨后去除低分子量有機(jī)硅化合物(C)到至少80％的程度，所述表面處理的微細(xì)填料(A)、聚有機(jī)硅氧烷(B)及有機(jī)硅化合物(C)各自可以是單一物質(zhì)或多種物質(zhì)的混合物。

2.權(quán)利要求1的方法，其中將總共5～150重量份的表面處理的微細(xì)填料(A)混入100重量份的聚有機(jī)硅氧烷(B)和0.01～30重量份的有機(jī)硅化合物(C)以及，如果需要，至多10重量份的其它組分的混合物中。

3.權(quán)利要求1或2的方法，其中將總共0.01～30重量份的有機(jī)硅化合物(C)混入100重量份的聚有機(jī)硅氧烷(B)和5～150重量份已在單獨(dú)工序中進(jìn)行表面處理的微細(xì)填料(A)的混合物中。

4.權(quán)利要求1-3之一的方法，其中所述表面處理的微細(xì)填料(A)由于表面處理而具有的碳含量為至少0.01～不大于20重量％，優(yōu)選為0.1～10重量％，特別優(yōu)選為0.5～5重量％。

5.權(quán)利要求1-4之一的方法，其中所述填料(A)的BET比表面積為至少50m²/g，優(yōu)選為100～800m²/g，特別優(yōu)選為150～400m²/g。

6.權(quán)利要求1-5之一的方法，其中所述填料(A)為熱解或沉淀二氧化硅，特別優(yōu)選熱解二氧化硅。

7.權(quán)利要求1-6之一的方法，其中所述聚有機(jī)硅氧烷(B)的聚合度為50～10?000，優(yōu)選100～5000，特別優(yōu)選100～2000。

8.權(quán)利要求1-3之一的方法，其中所述有機(jī)硅化合物(C)為含2～10個(gè)硅原子的線性、支鏈或環(huán)狀低聚硅氧烷，優(yōu)選六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、1，3-二乙烯基四甲基二硅氧烷、八甲基環(huán)四硅氧烷、十甲基環(huán)五硅氧烷或1，3，5，7-四乙烯基-1，3，5，7-四甲基環(huán)四硅氧烷，特別優(yōu)選六甲基二硅氧烷。

9.權(quán)利要求1-8之一的方法，其中所述表面處理的微細(xì)填料(A)已經(jīng)用選自通式(I)或(II)的硅烷和包括通式(III)的單元的有機(jī)聚硅氧烷的疏水劑進(jìn)行處理：

R¹_4-xSiA_x????(I)

(R¹₃Si)_yB????(II)

其中

R¹基為相同或不同的單價(jià)、未取代或鹵素取代的含1～12個(gè)碳原子的烴基，

A為鹵素、-OH、-OR²或-OCOR²，

B為-NR³_3-y，

R²基為相同或不同的含1～12個(gè)碳原子的單價(jià)烴基，

R³為氫原子或具有R¹的含義之一，

x為1、2或3，并且

y為1或2，

R⁴_zSiO_(4-z)/2????(III)，

其中

R⁴基為相同或不同的單價(jià)、未取代或鹵素取代的含1～12個(gè)碳原子的烴基；鹵原子；或羥基、-OR²或-OCOR²基，并且

z為1、2或3。