[發(fā)明專利]X射線成像設(shè)備和方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680015123.6
• 申請日: 2006-04-28
• 公開（公告）號: CN101170946A
• 公開（公告）日: 2008-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: T·普爾特
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: A61B6/12
• 分類號: A61B6/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 李亞非;譚祐祥

1.一種X射線成像設(shè)備，該X射線成像設(shè)備包括：

成像單元，其包括X射線源(2)和X射線探測器(4)，用于形成包括特有特征的對象(P)的一系列X射線圖像，

特征提取單元(6)，用于從所述系列X射線圖像提取所述特有特征，以及

控制單元(7)，其控制為形成所述系列的X射線圖像而對所述對象(P)進行輻照的X射線劑量，其是通過控制所述X射線源(2)使得第一批數(shù)量的圖像的每個X射線圖像的X射線劑量大于所述系列的其余數(shù)量的圖像來進行的。

2.如權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備，其中所述第一批數(shù)量在1至20，尤其在2至5的范圍。

3.如權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備，其中所述第一批數(shù)量占所述系列的總圖像數(shù)量的1％至10％的范圍，尤其為1％至2％的范圍。

4.如權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備，其中所述特有特征為在所述對象(P)內(nèi)定位的醫(yī)療工具(11)，尤其為支架(15)、導(dǎo)管(9)或?qū)Ыz(12)。

5.如權(quán)利要求4所述的X射線成像設(shè)備，其中所述醫(yī)療工具(11)具有可探測標(biāo)記(16、17、18)。

6.如權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備，其中所述控制單元(7)適合于控制所述X射線劑量，使得所述X射線劑量保持在較高的水平直到通過所述特征提取單元(6)已經(jīng)提取到所述特有特征。

7.如權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備，其中所述控制單元(7)適合于控制所述X射線劑量，使得對于所述第一批數(shù)量的圖像，每個圖像的X射線劑量被設(shè)定在高于正常水平20％至200％，尤其為50％至100％的范圍的高水平。

8.如權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備，其中所述控制單元(7)適合于控制所述X射線劑量，使得對于所述其余數(shù)量的圖像，每個圖像的X射線劑量被設(shè)定為正常水平的10％至90％，尤其為20％至50％的范圍的低水平。

9.如權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備，其中所述成像單元(2、4)適合于從固定投影方向形成一系列透視X射線圖像。

10.如權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備，其中所述特征提取單元(6)包括探測單元(61)，其用于自動地探測所述特有特征，尤其是附著到所述特有特征的至少一個標(biāo)記；以及，計算單元(62)，其用于從所述探測自動地得出所述特有特征的位置信息。

11.一種X射線成像方法，其包括以下步驟：

通過包括X射線源和X射線探測器的成像單元來形成包括特有特征的對象的一系列X射線圖像；

從所述系列X射線圖像提取所述特有特征；以及

通過控制所述X射線源使得第一批數(shù)量的圖像的每個X射線圖像的X射線劑量大于所述系列的其余數(shù)量的圖像從而控制為形成所述系列X射線圖像而對所述對象進行輻照的X射線劑量。

12.一種電腦程序，其包括程序代碼裝置，該程序代碼裝置用于當(dāng)所述電腦程序在電腦上運行時根據(jù)權(quán)利要求11中所主張的方法來控制如權(quán)利要求1所主張的X射線成像設(shè)備。