[發(fā)明專利]用于電暈處理扁平材料的裝置和方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680014996.5
• 申請日: 2006-04-28
• 公開（公告）號: CN101171131A
• 公開（公告）日: 2008-04-30
• 發(fā)明（設計）人: J·瓊;B·施沃茨;O·特雷克爾;P·霍爾
• 申請（專利權）人: IST梅茨有限公司
• 主分類號: B41F23/00
• 分類號: B41F23/00;B29C59/10
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 李永波

1.用于電暈處理印張形扁平材料(30)的裝置，具有一個用于輸送扁平材料的可旋轉的輥形輸送電極(1)、一個在扁平材料(30)的處理間隙(31)限制下設置在輸送電極(1)對面的處理電極(2a，2b)、一個用于在處理電極(2a，2b)上施加高頻電壓的高壓電源(4)，并且具有設置在輸送電極(1)外殼一側上的用于棱邊接收扁平材料印張(30)的叼紙器(11)，其特征在于一個用于固定連續(xù)通過的扁平材料印張而構成的處理裝置(12)，在其中設置至少一個處理電極(2a，2b)，并且在其中在輸送方向(32)上看去在至少一個處理電極(2a，2b)的前面和后面設置鼓風機構(22，23)，通過它們使氣體介質(16，17)可以在位于處理間隙(31)里面的扁平材料(30)上面?zhèn)鲗В纱耸贡馄讲牧现辽僭谔幚黹g隙(31)區(qū)域中平面地頂靠在輸送電極(1)的外殼面上。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，在處理裝置(12)里面設置至少兩個長形延伸的處理電極(2a，2b)。

3.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，至少一個處理電極(2a，2b)設置在處理裝置(12)內部的電極室(18)里面。

4.如權利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，所述處理裝置(12)具有至少一個用于使氣體介質(16，17)輸送到處理間隙(31)的輸送通道(14，15)。

5.如權利要求1至4中任一項所述的裝置，其特征在于，在處理裝置(12)里面構成至少一個用于從處理間隙(31)抽吸氣體介質(20)的抽吸通道(19)。

6.如權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述抽吸通道(19)通過至少一個開孔(21)與電極室(18)的內室連接。

7.如權利要求5或6所述的裝置，其特征在于，所述輸送通道(14，15)的內壁限制抽吸通道(19)。

8.如權利要求1至7中任一項所述的裝置，其特征在于，所述處理電極(2a，2b)只在面對的扁平材料印張的表面上產(chǎn)生電暈處理，而頂靠在輸送電極(1)上的印張背面保持不處理。

9.如權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述鼓風機構(22，23)具有鼓風噴嘴(27，28)，它們使指向輸送電極的至少一個輸送通道(14，15)與處理間隙(31)連接。

10.如權利要求1至9中任一項所述的裝置，其特征在于，在至少一個處理電極(2a，2b)與電極室(18)壁體之間和/或在各個處理電極(2a，2b)之間構成開孔(23)或間隙(26)，通過它們可以使氣體介質從處理間隙(31)抽吸到處理室(19)的內室里面。

11.如權利要求1至10中任一項所述的裝置，其特征在于，所述鼓風機構(22，23)與輸送電極(1)外殼面間隔地固定并且配有用于通過叼紙器(11)的缺口(24，25)。

12.如權利要求11所述的裝置其特征在于，所述鼓風機構(22，23)在其指向輸送電極(1)的一側上具有缺口(24，25)，其中這樣設置和構成缺口(24，25)，使叼紙器(11)可以在輸送電極(1)旋轉時不改變處理間隙(31)高度地在處理裝置(12)下面通過。

13.如權利要求1至12中任一項所述的裝置，其特征在于，所述空氣間隙在處理間隙(31)里面具有1mm至2mm的高度，處理電極(2a，2b)與輸送電極(1)外殼面的間距(H)為5mm至10mm，優(yōu)選大于7mm。

14.如權利要求1至13中任一項所述的裝置，其特征在于，所述處理裝置(12)作為嵌入單元組合在印刷機里面。

15.如權利要求1至14中任一項所述的裝置，其特征在于，一個印刷機的對應印刷滾筒在第一印刷機構前面形成輸送電極(1)。

16.如權利要求1至15中任一項所述的裝置，其特征在于，對該裝置附設電源和控制裝置(29)，它具有一個發(fā)電機(9)、一個用于電極電壓(U)的脈沖發(fā)生器(6)、一個中斷控制器(5)、一個變壓器(4)以及用于控制印張輸送和用于控制和調節(jié)氣體泵(35，36)的控制和調節(jié)機構(39)。

17.如權利要求16所述的裝置，其特征在于，所述中斷控制器(5)與一個傳感器(3)連接，通過它可以檢測至少一個叼紙器(11)的位置。