[發明專利]仿鑲嵌裝飾品及其制造方法

有效

• 申請號: 200680014245.3
• 申請日: 2006-03-20
• 公開（公告）號: CN101166635A
• 公開（公告）日: 2008-04-23
• 發明（設計）人: 長島洋一
• 申請（專利權）人: 長島工藝株式會社
• 主分類號: B44C1/22
• 分類號: B44C1/22;B44C1/26
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 陶鳳波

1.一種仿鑲嵌裝飾品，其特征在于，在基體材料表面形成有激光加工的線狀刻紋，以所述線狀刻紋為界線劃分形成有第一裝飾面和第二裝飾面，在所述線狀刻紋的內面形成有覆蓋層。

2.如權利要求1所述的仿鑲嵌裝飾品，其特征在于，第一裝飾面及第二裝飾面各自都是利用液壓復制膜及金屬鍍膜中的任意一種而形成的。

3.如權利要求2所述的仿鑲嵌裝飾品，其特征在于，所述金屬鍍膜是電鍍、濺射、金屬蒸鍍、銀鏡反應涂裝及等離子體汽化當中的任意一種。

4.如權利要求1所述的仿鑲嵌裝飾品，其特征在于，所述線狀刻紋寬度為70～150微米。

5.如權利要求2所述的仿鑲嵌裝飾品，其特征在于，所述線狀刻紋寬度為70～150微米。

6.一種仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，在基體材料表面形成第一裝飾面，在用掩模材料全面掩蔽了該第一裝飾面之后，在所希望的界線上利用激光加工以自所述掩模材料到達所述基體材料內的形式來形成線狀刻紋，在所述線狀刻紋的內面形成覆蓋層，除掉被所述線狀刻紋劃分的任意一部分的所述掩模材料及第一裝飾面，在該除掉的所述基體材料面的部分形成第二裝飾面，除掉殘余的所述掩模材料使所述第一裝飾面露出來。

7.一種仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，在基體材料表面形成第一裝飾面，在用掩模材料全面掩蔽了該第一裝飾面之后，在所希望的界線上利用激光加工以自所述掩模材料到達所述基體材料內的形式來形成線狀刻紋，在所述線狀刻紋的內面形成覆蓋層，除掉被所述線狀刻紋劃分的任意一部分的所述掩模材料，在該除掉的第一裝飾面的部分上形成第二裝飾面，除掉殘余的所述掩模材料使所述第一裝飾面露出來。

8.一種仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，在基體材料表面用第一掩模材料進行掩蔽，在所述第一掩模材料上沿著所希望的界線利用激光加工以自所述第一掩模材料到達所述基體材料內的形式形成線狀刻紋，除掉被所述線狀刻紋劃分的任意一部分的所述第一掩模材料，在被除掉的所述基體材料表面及殘余的所述第一掩模材料上形成第一裝飾面，除掉所述第一掩模材料及所述第一掩模材料上的所述第一裝飾面，在殘余的所述第一裝飾面及所述基體材料表面上掩蔽第二掩模材料，在所述第二掩模材料及所述第一裝飾面上沿著所述線狀刻紋位置利用激光加工再一次形成到達所述基體材料內的線狀刻紋，在所述線狀刻紋內形成覆蓋層，保留所述第一裝飾面及所述第一裝飾面上的第二掩模材料、除掉殘余的所述第二掩模材料，使所述基體材料表面露出來，在所述第一裝飾面、所述線狀刻紋及露出來的所述基體材料表面上形成第二裝飾面，除掉所述第二掩模材料及所述第二掩模材料上的第二裝飾面使所述第一裝飾面和所述第二裝飾面形成齊平面。

9.如權利要求6所述的仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，第一裝飾面及第二裝飾面各自都是利用液壓復制膜及金屬鍍膜中的任意一種而形成的。

10.如權利要求7所述的仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，第一裝飾面及第二裝飾面各自都是利用液壓復制膜及金屬鍍膜中的任意一種而形成的。

11.如權利要求8所述的仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，第一裝飾面及第二裝飾面各自都是利用液壓復制膜及金屬鍍膜中的任意一種而形成的。

12.如權利要求9所述的仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，所述金屬鍍膜是利用電鍍、濺射、金屬蒸鍍、銀鏡反應涂裝及等離子體汽化當中的任意一種方法形成的。

13.如權利要求10所述的仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，所述金屬鍍膜是利用電鍍、濺射、金屬蒸鍍、銀鏡反應涂裝及等離子體汽化當中的任意一種方法形成的。

14.如權利要求11所述的仿鑲嵌裝飾品的制造方法，其特征在于，所述金屬鍍膜是利用電鍍、濺射、金屬蒸鍍、銀鏡反應涂裝及等離子體汽化當中的任意一種方法形成的。