[發明專利]用于離子束均勻性的柵格透明度和柵格孔圖案控制

有效

• 申請號: 200680010822.1
• 申請日: 2006-03-31
• 公開（公告）號: CN101495981A
• 公開（公告）日: 2009-07-29
• 發明（設計）人: 龜山育也;丹尼爾·E·西格弗里德
• 申請（專利權）人: 威科儀器有限公司
• 主分類號: G06F15/00
• 分類號: G06F15/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 章社杲;李丙林

1.一種用于產生用于束柵格的孔的改變圖案的設計方法，包括：

確定待被更改的用于束柵格的孔的初始圖案；

獲得用于所述束柵格的孔的所述初始圖案的變化系數；

基于孔的所述初始圖案，利用所述變化系數來產生用于 所述束柵格的孔的所述改變圖案。

2.根據權利要求1所述的設計方法，其中，所述變化系數是孔位 置變化系數或孔直徑變化系數中的一個或兩個。

3.根據權利要求1所述的設計方法，其中，所述獲得操作包括求 解微分方程。

4.根據權利要求1所述的設計方法，其中，所述獲得操作包括求 解以下微分方程中的一個或兩個：

dRdr=r×f(r)R×F(R),]]>其中，

r表示初始圖案孔位置的徑向座標；

f(r)表示初始柵格圖案的柵格透明度；

F(R)表示改變柵格圖案的柵格透明度；以及

R表示用于產生所述改變柵格圖案的所述變化系數，

或者

dXdx=h(x)H(X),]]>

其中，x表示初始圖案孔位置的卡迪爾座標，

h(x)表示初始柵格圖案的柵格透明度；

H(X)表示改變柵格圖案的柵格透明度；以及

X表示用于產生所述改變柵格圖案的所述變化系數。