[發明專利]改性基材及改性基材的制造方法有效
| 申請號: | 200680010447.0 | 申請日: | 2006-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN101151303A | 公開(公告)日: | 2008-03-26 |
| 發明(設計)人: | 荒木美帆;上野良之;菅谷博之 | 申請(專利權)人: | 東麗株式會社 |
| 主分類號: | C08J7/00 | 分類號: | C08J7/00;A61L31/00;A61L33/00;A61M1/18;B01D65/02;B01D69/08;B01D71/40;D06M10/00;D06M13/144;D06M101/26 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 改性 基材 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及即使長期保管也老化少的改性基材及其制造方法。即,可很好地適用于醫療用具、水處理用分離膜、生物實驗相關器具、生物反應器、分子馬達、蛋白質芯片、DNA芯片、生物傳感器、或分析設備部件、防污用薄膜、防污用樹脂等。其中,對于在放射線滅菌后也長期需要血液適合性的醫療用具可很適合地使用。即,可很好地適用于人造腎臟等的血液凈化用組件。
背景技術
人造血管、醫用導管(catheter)、血液袋、接觸透鏡、眼內透鏡、人造腎臟等與體液接觸的醫療用具要求高度的血液適合性。而且,醫療用具的血液適合性在直到實際使用為止的期間不發生老化、改性也很重要。
很多的醫療用具需要滅菌,近年從殘留毒性少、簡便的觀點考慮,大多采用放射線滅菌法。而放射線滅菌為高能量處理,因此引起醫療用具的構成材料的老化、改性成為問題。例如,人們知道為了對分離膜賦予血液適合性而摻混的聚乙烯吡咯烷酮由于受放射線照射而引起的過度的交聯、改性,其效果降低(專利文獻1)。
曾公開了為了抑制放射線滅菌時的改性而浸滲焦亞硫酸鈉等的抗氧化劑溶液的方法(專利文獻2)。還公開了使甘油共存來進行γ射線滅菌的方法(專利文獻3)、使聚丙二醇等二元醇共存來進行γ射線滅菌的方法(專利文獻4)。此外,還公開了通過使抗血栓性少的材料中共存親水性高分子和抗氧化劑,并進行放射線照射,從而一邊抑制親水性高分子的過度的改性,一邊使之與材料接枝的方法(專利文獻5)。
這些添加劑均是以抑制放射線照射時的改性為目的,對于滅菌處理后的隨時間經過的穩定性卻沒有任何涉及。在放射線滅菌的場合,由于在滅菌后也殘留少量的自由基,所以擔心的是在長期保管中醫療用具的構成材料發生改性,血液適合性降低。即,即使能夠抑制放射線滅菌時的醫療用具的老化、改性,在實際使用時也可引起血液適合性受到損害。
另一方面,關于放射線照射后的醫療用具的穩定性,曾公開了在血液凈化器中使膜中所含有的自由基量在一定值以下的方法(專利文獻6)。這是除去在放射線照射后可成為自由基發生源的膜表面的過剩的親水性高分子的方法。然而,在除去所述過剩的親水性高分子后,某種程度的親水性高分子殘留于表面,因此不能避免殘留自由基的影響。
另外,還公開了在紡絲原液中添加螯合劑,以避免在血液凈化膜的膜制造工序中混入制品中的微量重金屬成為自由基發生的原因(專利文獻7,8)。然而,不能避免的是:由于放射線的高能量,使得在膜上直接產生自由基、由于從周圍的水分子產生的羥基自由基而生成自由基。
即,這些方法均是抑制由放射線照射而引起的自由基發生的方法,由于不是抗自由基性強的材料,因此很難說是本質的解決對策。與此相對,即期望開發:沒有上述的由長期保管所導致的血液適合性降低,并且即使照射數倍的滅菌劑量的放射線的場合,也顯示良好的血液適合性的、抗自由基性強的血液適合性材料。
專利文獻1:特開平9-323031號公報
專利文獻2:日本專利2754203號公報
專利文獻3:日本專利2672051號公報
專利文獻4:日本專利3107983號公報
專利文獻5:特再WO?04-018085號公報
專利文獻6:特開2000-296318號公報
專利文獻7:特開2005-334319號公報
專利文獻8:特開2005-342411號公報
發明內容
本發明是提供改進所述現有技術的缺點,即使長期保管也不損害血液適合性的材料及其制造方法的發明。
本發明者們為了完成上述課題而反復潛心研究,結果完成了本發明。即,本發明通過下述的(1)~(16)的方案實現。
(1)一種改性基材的制造方法,其特征在于,在一元醇水溶液、或者、對于單體或其聚合物單元在結合有羥基的碳間具有1個以上的碳原子的二元以上、且分子量小于2000的醇水溶液與基材接觸的狀態下,對基材進行放射線照射。
(2)如(1)所述的改性基材的制造方法,其特征在于,上述醇為三元以下的醇。
(3)如(1)或(2)所述的改性基材的制造方法,其特征在于,上述基材含有含酯基的聚合物。
(4)如(1)~(3)的任一項所述的改性基材的制造方法,其特征在于,上述醇水溶液的濃度為0.0001重量%~40重量%。
(5)如(1)~(4)的任一項所述的改性基材的制造方法,其特征在于,上述醇水溶液中和/或上述基材中實質上不含有水溶性高分子。
(6)如(1)~(5)的任一項所述的改性基材的制造方法,其特征在于,上述含酯基的聚合物是甲基丙烯酸系聚合物。
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