[發明專利]深鍋狀銅濺射靶及其制造方法有效
| 申請號： | 200680010000.3 | 申請日： | 2006-02-08 |
| 公開（公告）號： | CN101151398A | 公開（公告）日： | 2008-03-26 |
| 發明（設計）人： | 福島篤志;塚本志郎 | 申請（專利權）人： | 日礦金屬株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;H01L21/285;H01L21/28 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 | 代理人： | 樊衛民;郭國清 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 深鍋狀銅 濺射 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種通過模鍛制造的深鍋狀銅濺射靶，其特征在于，該深鍋狀靶內面的所有部位的維氏硬度Hv為70以上。
2.如權利要求1所述的深鍋狀銅濺射靶，其特征在于，與硬度Hv最高的部位相比，最低的部位的硬度差在±30％以內。
3.如權利要求1或2所述的深鍋狀銅濺射靶，其特征在于，靶組織中的平均結晶粒徑為65μm以下。
4.如權利要求1～3中任一項所述的深鍋狀銅濺射靶，其特征在于，最大平均結晶粒徑/最小平均結晶粒徑＜2.0。
5.如權利要求1～4中任一項所述的深鍋狀銅濺射靶，其特征在于，深鍋狀靶內部的面具備通過X射線衍射得到的(220)、(111)、(200)、(311)的結晶取向，該深鍋狀靶的受到腐蝕的面的結晶取向為(220)主取向。
6.如權利要求1～5中任一項所述的深鍋狀銅濺射靶，其特征在于，深鍋狀靶內部的面具備通過X射線衍射得到的(220)、(111)、(200)、(311)的結晶取向，該深鍋狀靶的受到腐蝕的面的(220)結晶取向的取向率為0.45％以上。
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