[發明專利]曝光方法和工具

無效

• 申請號: 200680009658.2
• 申請日: 2006-01-30
• 公開（公告）號: CN101167018A
• 公開（公告）日: 2008-04-23
• 發明（設計）人: N·賽克斯;R·阿洛特
• 申請（專利權）人: 奧爾利康巴爾策斯涂料（英國）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉杰;王小衡

1.一種向基板上形成規則重復圖案的方法，包括步驟：

1)將抗蝕劑涂敷在待處理基板的表面上；

2)在所涂敷的抗蝕劑上壓印通過將所述抗蝕劑暴露于紫外(UV)光束而形成的圖案，致使該紫外光束穿過描繪該圖案的合適掩模并隨后穿過聚焦透鏡到該抗蝕劑上，從而引起該抗蝕劑中的化學變化，其中該化學變化使得該抗蝕劑更多或更少溶解于合適的顯影溶液；該壓印步驟實施如下：

(i)在重復的一系列離散曝光步驟中，使用僅代表基板總面積的小區域且相對于該光束和透鏡保持靜止的掩模，并在每個步驟使用紫外輻射的單一短脈沖來照射該掩模，該輻射脈沖在該基板上具有低于燒蝕該抗蝕劑的閾值的能量密度；以及

(ii)通過沿著與將形成于該基板上的結構的一條軸平行的方向移動該基板，并在該基板的移動距離等效于該基板上重復圖案的完整周期數的時刻激活該脈沖掩模照射光源，由此在基板表面的完整區域上重復該一系列離散曝光步驟，從而形成包括多個像素的完整結構；

3)使用顯影劑處理該曝光的抗蝕劑以致使曝光區域(對于正抗蝕劑)或未曝光區域(對于負抗蝕劑)溶解，且隨后通過顯影劑溶液將其清洗掉以展現由剩余抗蝕劑形成的圖案；

4)使用除去無抗蝕劑區域內的基板的合適化學蝕刻溶液、反應等離子體、或者研磨粒子來處理該基板；以及

5)使用合適溶劑從基板除去剩余抗蝕劑以留下成品的圖案化基板。

2.如權利要求1所述的方法，其中在該壓印階段，沿與該基板移動方向平行的方向在該基板的照射區域的尺寸足以在穿過該照射區域下方的基板后提供：使該抗蝕劑的每個部分接收到充分數目的輻射脈沖，以便特定照射區域上紫外輻射的組合劑量足以完全曝光該照射區域。

3.如前述權利要求任一項所述的方法，其中該壓印階段利用光學投影系統將該掩模圖案轉移到該基板上。

4.如前述權利要求任一項所述的方法，其中該掩模與該基板上完整圖案的小區域的尺寸相同，且在該壓印階段期間，該掩模通過附著到樣品架而保持緊密鄰近該基板，其中通過從該樣品架發射的空氣流，使得該樣品架浮置在該移動基板表面之上。

5.如前述權利要求任一項所述的方法，其中該紫外光源為準分子激光器。

6.如前述權利要求任一項所述的方法，其中在該壓印階段期間，該基板上將被曝光的區域的邊緣通過靠近該掩模表面定位的可移動刀片來限定。

7.如前述權利要求1至6任一項所述的方法，其中在該壓印階段期間，該基板在一系列平行的帶中被曝光，且在該帶交疊的區域，紫外輻射的照射劑量通過物理定形與該掃描方向平行的該照射束的兩側來控制。

8.如前述權利要求1至6任一項所述的方法，其中在該壓印階段期間，該基板在一系列平行的帶中被曝光，且在該帶交疊的區域，紫外輻射的照射劑量通過使用附加掩模來控制，該附加掩模沿著與基板掃描方向垂直的方向具有變化的透射分布。

9.一種掃描曝光工具，用于實施如前述權利要求任一項所述的方法。

10.一種通過如前述權利要求1-8任一項所述的方法而形成的產品。