[發(fā)明專利]具有陽光性能的涂層組成

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680009337.2
• 申請日: 2006-03-20
• 公開（公告）號: CN101146750A
• 公開（公告）日: 2008-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·J·芬雷;J·P·蒂爾;H·布海
• 申請（專利權(quán)）人: PPG工業(yè)俄亥俄公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 李帆

1.涂層組成，包括：

a.紅外反射層；

b.在紅外反射層上的底涂層；

c.在底涂層上的介電層；和

d.吸收層，其中吸收層可以在紅外反射層下或是在介電層上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中吸收層包括(a)在500nm處具有等于或小于1.0的折射系數(shù)的金屬和(b)在1000°K下具有大于或等于-100的ΔG°_f的材料的合金和/或混合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求2的涂層，其中在1000°K下具有大于或等于-100的ΔG°_f的材料選自錫、銦、銅、鋅及其混合物。

4.根據(jù)權(quán)利要求2的涂層，其中所述金屬是銀且所述材料是錫。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中吸收層包括一種或多種選自銅、錳、鈦、鈷、鐵和鉻的氧化物、氮化物和碳化物的材料及其混合物和合金。

6.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中吸收層包括一種或多種選自鎳、鈷、鉻、鋼和及氧化物和其混合物的材料。

7.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中使用選自CVD、噴霧熱解和MSVD的方法沉積吸收層。

8.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中吸收層具有20-300的厚度。

9.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中介電層包括選自金屬氧化物、金屬合金氧化物、氮化物、氧氮化物和其混合物的材料。

10.根據(jù)權(quán)利要求9的涂層，其中介電層包括選自鈦、鉿、鋯、鈮、鋅、鉍、鉛、銦、錫的氧化物和其混合物的金屬氧化物。

11.根據(jù)權(quán)利要求9的涂層，其中介電層包括范圍在10重量％-90重量％鋅和90重量％-10重量％錫的鋅/錫合金氧化物。

12.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其中紅外反射層包括選自銀、金和銅的材料。

13.根據(jù)權(quán)利要求1的涂層，其沉積在0.16英寸厚的透明玻璃基板上，其中從基板至少一側(cè)，基板具有小于或等于50％的Lta和等于或小于52的L^*。

14.涂覆的基板，包括：

a.基板；

b.在基板上的紅外反射層；

c.在紅外反射層上的底涂層；

d.在底涂層上的介電層；和

e.吸收層，其中吸收層可以在紅外反射層下或在介電層上。

15.根據(jù)權(quán)利要求14的涂覆的基板，其中吸收層包括(a)在500nm處具有等于或小于1.0折射系數(shù)的金屬和(b)在1000°K下具有大于或等于-100的ΔG°_f的材料的合金和/或混合物。

16.根據(jù)權(quán)利要求14的涂覆的基板，其中基板是玻璃。

17.形成涂層的方法，包括：

a.在基板上沉積紅外反射層；

b.在紅外反射層上沉積底涂層；

c.在底涂層上沉積介電層；和

d.沉積吸收層，

其中吸收層可沉積在紅外反射層下或在介電層上，且其中當(dāng)在0.16英寸厚的透明玻璃基板上沉積涂層時(shí)，從基板至少一側(cè)，基板具有小于或等于50％的Lta，等于或小于52的L*。

18.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，其中通過MSVD完成紅外反射層的沉積。

19.制備涂覆基板的方法，包括：

a.在基板上沉積包括在1000°K下具有大于或等于-100的ΔG°_f材料的第一介電層；

b.在第一介電層上沉積第一紅外反射層；

c.在第一紅外反射層上沉積第一底涂層；

d.在底涂層上沉積第二介電層；

e.在第二介電層上沉積第二紅外反射層；

f.在第二紅外反射層上沉積第二底涂層；

g.在第二底涂層上沉積氧阻擋層；和

h.加熱沉積的涂層使得金屬離子從至少一介電層擴(kuò)散到至少一紅外反射層中以形成吸收層。

20.根據(jù)權(quán)利要求19的方法，還包括在介電層之一和紅外反射層之一之間沉積阻隔層。