[發(fā)明專利]成像裝置及其中使用的透鏡陣列無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680009121.6 | 申請日: | 2006-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN101147392A | 公開(公告)日: | 2008-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 山形道弘;岡山裕昭;樸一武;田中康弘;林謙一;伏見吉正;村田茂樹;林孝行 | 申請(專利權(quán))人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H04N5/225 | 分類號: | H04N5/225 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務(wù)所 | 代理人: | 孫敬國;張惠萍 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像 裝置 其中 使用 透鏡 陣列 | ||
1.一種成像裝置,其特征在于,該成像裝置包括:
透鏡陣列,其通過平行排列多個在至少一個表面上具有光焦度的透鏡元件構(gòu)成;和
圖像傳感器,其中具有所述各透鏡元件的光學(xué)系統(tǒng)所形成的光學(xué)圖像由每一個都具有多個光電轉(zhuǎn)換部的各個相互不同的成像區(qū)域所接收,從而光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換成電圖像信號,其中
各透鏡元件和對應(yīng)于所述透鏡元件的所述成像區(qū)域構(gòu)成成像單元,各成像單元的成像區(qū)域面積不同。
2.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,其中位于所述圖像傳感器的最外圍部分的成像單元的成像區(qū)域的面積比位于圖像傳感器的中心部分的成像單元的成像區(qū)域的面積小。
3.如權(quán)利要求2所述的成像裝置,其特征在于,其中位于圖像傳感器的最外圍部分的成像單元具有設(shè)有平行于穿過所述對應(yīng)的成像區(qū)域中心的軸線的偏心對稱軸的透鏡元件。
4.如權(quán)利要求2所述的成像裝置,其特征在于,其中位于圖像傳感器的最外圍部分中的成像單元具有設(shè)有與穿過所述對應(yīng)的成像區(qū)域的中心的軸線相一致的對稱軸的透鏡元件。
5.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,其中成像單元具有其形狀通過以平行于對稱軸的平面切除軸對稱透鏡元件的一部分而獲得的透鏡元件。
6.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,其中成像單元具有軸對稱透鏡元件,該軸對稱透鏡元件配備具有大致內(nèi)切于方形成像區(qū)域的圓形形狀的軸對稱透鏡面。
7.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,該成像裝置進(jìn)一步包括用于隔離每個成像單元的透鏡陣列與圖像傳感器之間的空間的隔離裝置。
8.如權(quán)利要求7所述的成像裝置,其特征在于,其中所述隔離裝置是一種隔離構(gòu)件,該隔離構(gòu)件與透鏡元件分離地設(shè)置,并且具有形成為對應(yīng)方形成像區(qū)域包圍所述各成像區(qū)域的格狀隔離部。
9.如權(quán)利要求7所述的成像裝置,其特征在于,其中所述隔離裝置為格狀槽部,該格狀槽部以與透鏡元件整體形成的方式形成,并且形成為包圍對應(yīng)于方形成像區(qū)域的各成像區(qū)域。
10.一種如權(quán)利要求1所述的成像裝置中使用的透鏡陣列。
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