[發(fā)明專利]成像裝置及其中使用的透鏡陣列無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680009121.6 | 申請(qǐng)日: | 2006-03-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101147392A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山形道弘;岡山裕昭;樸一武;田中康弘;林謙一;伏見(jiàn)吉正;村田茂樹(shù);林孝行 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H04N5/225 | 分類號(hào): | H04N5/225 |
| 代理公司: | 上海市華誠(chéng)律師事務(wù)所 | 代理人: | 孫敬國(guó);張惠萍 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像 裝置 其中 使用 透鏡 陣列 | ||
1.一種成像裝置,其特征在于,該成像裝置包括:
透鏡陣列,其通過(guò)平行排列多個(gè)在至少一個(gè)表面上具有光焦度的透鏡元件構(gòu)成;和
圖像傳感器,其中具有所述各透鏡元件的光學(xué)系統(tǒng)所形成的光學(xué)圖像由每一個(gè)都具有多個(gè)光電轉(zhuǎn)換部的各個(gè)相互不同的成像區(qū)域所接收,從而光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換成電圖像信號(hào),其中
各透鏡元件和對(duì)應(yīng)于所述透鏡元件的所述成像區(qū)域構(gòu)成成像單元,各成像單元的成像區(qū)域面積不同。
2.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,其中位于所述圖像傳感器的最外圍部分的成像單元的成像區(qū)域的面積比位于圖像傳感器的中心部分的成像單元的成像區(qū)域的面積小。
3.如權(quán)利要求2所述的成像裝置,其特征在于,其中位于圖像傳感器的最外圍部分的成像單元具有設(shè)有平行于穿過(guò)所述對(duì)應(yīng)的成像區(qū)域中心的軸線的偏心對(duì)稱軸的透鏡元件。
4.如權(quán)利要求2所述的成像裝置,其特征在于,其中位于圖像傳感器的最外圍部分中的成像單元具有設(shè)有與穿過(guò)所述對(duì)應(yīng)的成像區(qū)域的中心的軸線相一致的對(duì)稱軸的透鏡元件。
5.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,其中成像單元具有其形狀通過(guò)以平行于對(duì)稱軸的平面切除軸對(duì)稱透鏡元件的一部分而獲得的透鏡元件。
6.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,其中成像單元具有軸對(duì)稱透鏡元件,該軸對(duì)稱透鏡元件配備具有大致內(nèi)切于方形成像區(qū)域的圓形形狀的軸對(duì)稱透鏡面。
7.如權(quán)利要求1所述的成像裝置,其特征在于,該成像裝置進(jìn)一步包括用于隔離每個(gè)成像單元的透鏡陣列與圖像傳感器之間的空間的隔離裝置。
8.如權(quán)利要求7所述的成像裝置,其特征在于,其中所述隔離裝置是一種隔離構(gòu)件,該隔離構(gòu)件與透鏡元件分離地設(shè)置,并且具有形成為對(duì)應(yīng)方形成像區(qū)域包圍所述各成像區(qū)域的格狀隔離部。
9.如權(quán)利要求7所述的成像裝置,其特征在于,其中所述隔離裝置為格狀槽部,該格狀槽部以與透鏡元件整體形成的方式形成,并且形成為包圍對(duì)應(yīng)于方形成像區(qū)域的各成像區(qū)域。
10.一種如權(quán)利要求1所述的成像裝置中使用的透鏡陣列。
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