[發明專利]用來制備具有再結晶立體紋理結構的鎳基半制品的方法及這種鎳基半制品的應用

無效

• 申請號: 200680008476.3
• 申請日: 2006-03-15
• 公開（公告）號: CN101142331A
• 公開（公告）日: 2008-03-12
• 發明（設計）人: 約爾格·艾克邁爾;迪特馬爾·澤爾布曼;霍斯特·文德羅克;伯恩哈德·霍爾茨阿普費爾
• 申請（專利權）人: 德累斯頓協會萊布尼茨固體材料研究所
• 主分類號: C22C19/03
• 分類號: C22C19/03;C22F1/10
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 郭國清;樊衛民

1.用來制備具有再結晶立體紋理結構的鎳基半制品的方法，其特征在于，首先以熔融冶金或粉末冶金法包括機械合金法制備起始半制品，其由工業純Ni或Ni-合金構成，其中在微合金區域中的Ag的添加量為至少10原子-ppm、最多1000原子-ppm，借助具有后接＞50％的厚度減少的冷加工成形的熱加工成形將該起始半制品加工成具有中間尺寸的帶材或扁形線材，將該半制品在500℃-850℃的溫度范圍內軟化退火并淬火，其中，對于較高的Ag-含量須有較高的溫度淬火，隨后令中間產品＞80％完全冷卻成形，最后實施再結晶的淬火處理以得到完好的立體紋理結構。

2.根據權利要求1的方法，其特征在于，最后的再結晶退火處理是在500℃至1200℃的溫度下與在鎳中的合金含量有關地進行的。

3.根據權利要求2的方法，其特征在于，最后的再結晶退火處理是在850℃的溫度下進行的。

4.根據權利要求1的方法，其特征在于，半制品在再結晶退火后或在再結晶退火期間出于立體紋理結構化了的NiO-層的外延生長的目的以＞90％的紋理結構的含量在氧化性的氣氛中得到熱處理。

5.根據權利要求1的半制品，其特征在于，將含有Mo和/或W和Ag-添加物的Ni-合金應用于起始半制品。

6.根據權利要求1至5所述的、具有再結晶立體紋理結構以及伸長了的晶粒形狀、并且呈條形或扁線形的鎳基半制品可用作具有高度微結構取向的物理-化學涂層的襯底。。

7.根據權利要求1至5所述的、具有再結晶立體紋理結構以及伸長了的晶粒形狀、并且呈條形或扁線形的鎳基半制品可用作制備線形或帶形高溫超導體的襯底。