[發(fā)明專利]處理裝置、處理裝置的消耗部件的管理方法、處理系統(tǒng)、以及處理系統(tǒng)的消耗部件的管理方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680008277.2
• 申請日: 2006-01-19
• 公開（公告）號: CN101142660A
• 公開（公告）日: 2008-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 綠川良太郎
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/3065
• 分類號: H01L21/3065;H01J37/30
• 代理公司: 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 柳春雷

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及對設(shè)置在處理室內(nèi)的消耗部件進(jìn)行管理的處理裝置、處理裝置的消耗部件的管理方法、處理系統(tǒng)、以及處理系統(tǒng)的消耗部件的管理方法。

背景技術(shù)

例如等離子體處理裝置之類的處理裝置包括處理半導(dǎo)體晶片或液晶基板等的被處理基板的處理室。在設(shè)置于該處理室內(nèi)的部件中，存在通過由處理裝置的工作而在處理室內(nèi)以規(guī)定的處理條件(處理方法、清潔方法等)反復(fù)進(jìn)行處理，從而逐漸消耗的消耗部件。例如作為在等離子體處理裝置中的消耗部件，除了施加高頻電功率的上部電極的電極板之外，還可例舉出設(shè)置在被處理基板周圍的屏蔽環(huán)、聚焦環(huán)等。有時由于這些消耗部件的消耗量會給半導(dǎo)體晶片等的處理特性帶來影響。因此，需要以一定的定時替換消耗部件。

這樣的消耗部件與其使用狀況(例如使用時間或使用次數(shù))大致成比例地消耗。因此，根據(jù)消耗部件的使用狀況的累計值來預(yù)測該消耗部件的消耗量。例如，通過測量施加在電極板上的高頻電功率的放電時間(RF放電時間)作為消耗部件的使用時間，來預(yù)測消耗部件的消耗量，當(dāng)該RF放電時間超過規(guī)定的閾值時，通過自動地發(fā)出警報、或發(fā)出消耗部件的更換指示來對消耗部件進(jìn)行管理(例如參照專利文獻(xiàn)1、2)。

專利文獻(xiàn)1：日本專利文獻(xiàn)特開平11-121194號公報；

專利文獻(xiàn)2：日本專利文獻(xiàn)特開2003-31456號公報。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的問題

但是，在上述的處理裝置中，有時在一個處理室內(nèi)執(zhí)行處理條件不同的多個種類的處理。例如，在處理室內(nèi)進(jìn)行蝕刻等工序處理時，根據(jù)施加在半導(dǎo)體晶片上的工序處理的種類，處理條件(例如施加在電極板上的高頻電功率的大小或頻率、處理室內(nèi)的壓力、處理氣體的種類或流量等)也不同。

但是，由于當(dāng)處理條件不同時消耗部件的消耗進(jìn)展速度也發(fā)生變化，因此存在下面問題：當(dāng)在一個處理室內(nèi)執(zhí)行條件不同的多個種類的處理時，根據(jù)對各個種類的處理的執(zhí)行比率，消耗部件的消耗量的變化率也發(fā)生變化。

因此，如像以前那樣只是檢測RF放電時間來進(jìn)行監(jiān)視，則不能應(yīng)對由被執(zhí)行的處理的種類的不同而導(dǎo)致的消耗部件的消耗量的變化，從而不能準(zhǔn)確地預(yù)測消耗部件的消耗量。

例如，消耗部件的消耗進(jìn)展速度快的處理比消耗部件的消耗進(jìn)展速度慢的處理被執(zhí)行得越多，則實(shí)際消耗量比由RF放電時間預(yù)測的消耗大得越多，因此會比預(yù)測更快地消耗完，從而可能使消耗部件的更換指示過遲。因此會對被處理基板的處理特性帶來影響。

相反地，消耗部件的消耗進(jìn)展速度慢的處理比消耗部件的消耗進(jìn)展速度快的處理被執(zhí)行得越多，則由RF放電時間預(yù)測的消耗量比實(shí)際的消耗量大得越多，所以雖然實(shí)際上消耗部件還沒有消耗到更換時期，但是可能作出了該消耗部件的更換指示。因而不能恰當(dāng)?shù)剡M(jìn)行消耗部件的管理。

本發(fā)明是鑒于上述問題而做成的，其目的是提供一種處理裝置、處理裝置的消耗部件的管理方法、處理系統(tǒng)、處理系統(tǒng)的消耗部件的管理方法，在執(zhí)行處理條件不同的多個種類的處理時，也不限于各個處理的種類的執(zhí)行比率的變動，能準(zhǔn)確地預(yù)測消耗部件的消耗量，并能可靠地通知消耗部件的交換時期。

用于解決課題的手段

為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明的一些觀點(diǎn)，一種處理裝置，在設(shè)置消耗部件的處理室內(nèi)可執(zhí)行處理條件不同的多個種類的處理(例如對被處理基板的處理)，所述處理裝置的特征在于，包括：測量單元，按照在所述處理室內(nèi)執(zhí)行的所述處理的種類來測量所述消耗部件的使用狀況；存儲單元，存儲具有每個所述處理的種類的消耗系數(shù)的消耗系數(shù)信息；控制部，取得由所述測量單元測量的每個所述處理的種類的使用狀況，根據(jù)每個所述處理的種類的使用狀況和每個所述處理的種類的消耗系數(shù)來計算出所述消耗部件的消耗度，并根據(jù)計算出來的消耗度進(jìn)行所述消耗部件的管理處理。

為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明的另一觀點(diǎn)，提供了一種處理裝置的消耗部件的管理方法，所述處理裝置可在設(shè)置有消耗部件的處理室內(nèi)執(zhí)行處理條件不同的多個種類的處理(例如對被處理基板的處理)，所述處理裝置的消耗部件的管理方法的特征在于，包括：由測量單元測量按照在所述處理室內(nèi)執(zhí)行的所述處理的種類來測量所述消耗部件的使用狀況的步驟；以及取得由所述測量單元測量的每個所述處理的種類的使用狀況，并通過存儲在存儲單元的所述消耗部件的消耗系數(shù)信息取得每個所述處理種類的消耗系數(shù)，根據(jù)每個所述處理的種類的使用狀況和每個所述處理的種類的消耗系數(shù)計算出所述消耗部件的消耗度，并根據(jù)計算出來的消耗度進(jìn)行所述消耗部件的管理的步驟。