[發(fā)明專利]利用最大相干投影的高解析度彌散數(shù)據(jù)可視化

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680007862.0
• 申請(qǐng)日: 2006-03-10
• 公開（公告）號(hào): CN101384215A
• 公開（公告）日: 2009-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 范·J·韋登
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 通用醫(yī)療公司
• 主分類號(hào): A61B5/05
• 分類號(hào): A61B5/05
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 陳 煒

1.一種用于顯示彌散數(shù)據(jù)的設(shè)備，包括：

-用于獲取與所述彌散數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的方位密度函數(shù)的裝置；

-用于從與第一體素相關(guān)聯(lián)的方位密度函數(shù)中獲取一個(gè)第一方位矢量的裝置，其中，所述第一體素位于至少一個(gè)軌跡上；

-用于基于所述第一方位矢量來識(shí)別一個(gè)第二體素的裝置；

-用于從與所述第二體素相關(guān)聯(lián)的方位矢量集合中選擇一個(gè)第二方位矢量的裝置；

-用于基于所述第一、第二方位矢量之間的關(guān)系，確定是否沿著由所述第一、第二方位矢量所定義的路徑來建立一段軌跡的裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括：

-用于當(dāng)確定所述第一、第二方位矢量的關(guān)系與繼續(xù)該軌跡不一致時(shí)，結(jié)束該軌跡的裝置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括：

-用于沿著由所述第一、第二方位矢量所定義的路徑來定義軌跡部分的裝置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括：

-用于選擇關(guān)系以包括確定所述第一、第二方位矢量的方向差異，以及定義一個(gè)方向差異的閾值的裝置，則當(dāng)所述差異超過所述閾值時(shí)，終止該軌跡。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述用于選擇第二方位矢量的裝置還包括：

-用于從與所述第二體素相關(guān)聯(lián)的方位矢量集合中選擇一個(gè)最接近于與所述第一方位矢量平行的矢量的裝置。

6.一種用于顯示彌散數(shù)據(jù)的方法，其中，包括以下步驟：

-獲取與所述彌散數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的方位密度函數(shù)；

-從與第一體素相關(guān)聯(lián)的方位密度函數(shù)中獲取一個(gè)第一方位矢量，其中，所述第一體素位于至少一個(gè)軌跡上；

-基于所述第一方位矢量來確定一個(gè)第二體素；

-從與所述第二體素相關(guān)聯(lián)的方位矢量集合中選擇一個(gè)第二方位矢量；

-基于所述第一、第二方位矢量之間的關(guān)系，確定是否沿著由所述第一、第二方位矢量所定義的路徑來建立一段軌跡。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，還包括步驟：

-當(dāng)確定所述第一、第二方位矢量的關(guān)系與繼續(xù)該軌跡不一致時(shí)，結(jié)束該軌跡。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，還包括步驟：

-沿著由所述第一、第二方位矢量所定義的路徑來定義軌跡部分。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，還包括步驟：

-選擇關(guān)系以包括確定所述第一、第二方位矢量的方向差異，以及定義一個(gè)方向差異的閾值，則當(dāng)所述差異超過所述閾值時(shí)，終止該軌跡。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述選擇第二方位矢量的步驟包括：

-從與所述第二體素相關(guān)聯(lián)的方位矢量集合中選擇一個(gè)最接近于與所述第一方位矢量平行的矢量。

11.一種磁共振成像系統(tǒng)，包括：

-磁場(chǎng)源；

-探測(cè)子系統(tǒng)，用于探測(cè)為響應(yīng)所述磁場(chǎng)源的運(yùn)行而產(chǎn)生的電磁輻射；

-控制器，用于控制所述磁場(chǎng)源和所述探測(cè)子系統(tǒng)的運(yùn)行；

-處理子系統(tǒng)，用于基于所述探測(cè)子系統(tǒng)所提供的數(shù)據(jù)來生成彌散數(shù)據(jù)，該處理子系統(tǒng)配置用于：

-獲取與所述彌散數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的方位密度函數(shù)；

-從與第一體素相關(guān)聯(lián)的方位密度函數(shù)中獲取一個(gè)第一方位矢量，其中，所述第一體素位于至少一個(gè)軌跡上；

-基于所述第一方位矢量來確定一個(gè)第二體素；

-從與所述第二體素相關(guān)聯(lián)的方位矢量集合中選擇一個(gè)第二方位矢量；

-基于所述第一、第二方位矢量之間的關(guān)系，確定是否沿著由所述第一、第二方位矢量所定義的路徑來建立一段軌跡。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述處理子系統(tǒng)還配置用于：

-當(dāng)確定所述第一、第二方位矢量的關(guān)系與繼續(xù)該軌跡不一致時(shí)，結(jié)束該軌跡。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述處理子系統(tǒng)還配置用于：

-沿著由所述第一、第二方位矢量所定義的路徑來定義軌跡部分。