[發明專利]基于定制的微棱鏡膜的物品和防偽裝置

有效

• 申請號: 200680007779.3
• 申請日: 2006-03-07
• 公開（公告）號: CN101137514A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: L·G·康曼德;C·J·伊斯特爾;R·伊舍伍德
• 申請（專利權）人: 德拉魯國際有限公司
• 主分類號: B42D15/00
• 分類號: B42D15/00;G02B5/04;G02B5/124;B44F1/10
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司
• 代理人: 謝靜;楊勇

1.一種防偽裝置，包括至少兩個區域，每個區域包括限定基本平坦的刻面的陣列的棱鏡表面結構，其中每個區域當被以至少一個第一觀察角度觀察時由于全內反射而形成反射器，當被以至少一個第二觀察角度觀察時是透明的，并且其中一個區域的所述至少一個第一觀察角度與另一區域的至少一個第一觀察角度不同。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述這些區域設置在基本透明的層的兩側。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中所述棱鏡表面結構的棱鏡的刻面在背離襯底的方向上朝向彼此變尖。

4.根據權利要求2或3所述的裝置，其中所述這些區域橫向偏移，使得在至少一個觀察角度，一個區域為另一區域提供反射背景。

5.根據權利要求2或3所述的裝置，其中所述這些區域部分重疊。

6.根據權利要求2至5中任一項所述的裝置，其中所述襯底包括層壓片，該層壓片包括：第一層，用于提供第一棱鏡表面結構；和，第二層，用于提供第二表面棱鏡結構，以及在這兩層之間的層壓粘合物。

7.根據權利要求1所述的裝置，其中所述棱鏡表面結構的棱鏡的刻面在相同的意義上朝向彼此變尖。

8.根據權利要求7所述的裝置，其中所述這些區域是基本共面的，形成在基本透明的層的相同側。

9.根據權利要求7或8所述的裝置，其中每個區域由一組基本平行的、線形棱鏡結構形成，一個陣列的邊線相對于另一陣列的邊線有角度地偏移。

10.根據權利要求9所述的裝置，其中一個陣列的邊線與另一陣列的邊線垂直。

11.根據權利要求1所述的裝置，其中在基本透明的層的一側設置均質的棱鏡陣列并且在該層的相反側設置控制棱鏡結構陣列，使得所述區域通過該控制棱鏡結構陣列的改變或通過選擇沒有該控制棱鏡結構陣列來限定。

12.根據權利要求11所述的裝置，其中每個控制棱鏡結構陣列包括鋸齒結構。

13.根據權利要求11或12所述的裝置，其中一個或多個所述控制棱鏡結構陣列限定一個圖像。

14.根據權利要求11至13中任一項所述的裝置，其中所述控制棱鏡結構陣列由一個均質棱鏡結構的相應部分形成，該均質棱鏡結構選擇性地設置有具有規定折射率的涂層。

15.根據權利要求11至13中任一項所述的裝置，其中所述控制棱鏡結構陣列由一個均質棱鏡結構的相應部分形成，該均質棱鏡結構選擇性地設置有折射率匹配涂層。

16.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中所述棱鏡表面結構包括基本平坦的刻面的規則陣列。

17.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中在至少一個觀察角度，由一個或多個所述棱鏡表面結構限定的陣列或每個陣列是基本透明的或全反射的。

18.根據權利要求1所述的裝置，其中一個棱鏡陣列被與涂層相結合設置，使得所述這些區域通過該涂層或棱鏡陣列的折射率的變化來限定。

19.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中一個或多個所述陣列被形成為基本平行的刻面的線形陣列。

20.根據權利要求19所述的裝置，其中平行刻面之間的條距在1-100微米的范圍內，優選地在5-40微米的范圍內。

21.根據權利要求19所述的裝置，其中所述刻面相對于襯底以大體45°的角度延伸，并且其中相鄰刻面之間的夾角是大體90°。

22.根據權利要求1-17中任一項所述的裝置，其中一個或多個所述陣列被形成為二維棱鏡結構。

23.根據權利要求22所述的裝置，其中所述二維棱鏡結構包括規則的四面體陣列或方棱錐體陣列。

24.根據權利要求23所述的裝置，其中所述刻面跨度為1-100微米，更優選地跨度為5-40微米。

25.根據權利要求23所述的裝置，其中所述刻面相對于襯底以45°的角度延伸，并且其中相鄰刻面之間的夾角是大體90°。