[發明專利]氣體處理吸附-氧化體系無效
| 申請號: | 200680007662.5 | 申請日: | 2006-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN101137425A | 公開(公告)日: | 2008-03-05 |
| 發明(設計)人: | J·J·桑焦萬尼;N·O·勒姆科夫 | 申請(專利權)人: | 開利公司 |
| 主分類號: | B01D50/00 | 分類號: | B01D50/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 劉冬;李連濤 |
| 地址: | 美國康*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 處理 吸附 氧化 體系 | ||
1.一種氣體處理模塊,所述模塊包括:
彼此以流體連通方式布置的第一氣體凈化器和第二氣體凈化器,且當污染物的濃度大于或等于閾值濃度時第一氣體凈化器暫時保留至少一部分氣流中的污染物,且隨后當該濃度小于極限閾值時釋放至少一部分所保留的污染物到第二氣體凈化器。
2.權利要求1的模塊,其中在氣流輸入部分中污染物的濃度暫時超過閾值濃度期間,第一氣體凈化器和第二氣體凈化器維持氣流輸出部分中污染物的濃度在所選濃度范圍內。
3.權利要求2的模塊,其中第一氣體凈化器和第二氣體凈化器中的每一個不能單獨維持氣流輸出部分中污染物的濃度在所選濃度范圍內。
4.權利要求2的模塊,其中當閾值濃度暫時大于氣體凈化能力時,第一氣體凈化器暫時維持氣流中污染物的濃度低于第二氣體凈化器的氣體凈化能力以控制氣流輸出部分中的濃度。
5.權利要求1的模塊,其中當濃度小于閾值濃度時,第一氣體凈化器逐漸釋放所保留的污染物。
6.權利要求1的模塊,其中第一氣體凈化器包括吸附介質,第二氣體凈化器包括氧化反應器,且所述吸附介質吸附污染物以保留污染物且脫附污染物以釋放污染物到所述氧化反應器中。
7.權利要求1的模塊,其中第一氣體凈化器包括催化劑,第二氣體凈化器包括吸附介質,且所述催化劑吸附至少一部分污染物在催化劑表面上且將吸附部分的污染物化學轉化為其他化合物。
8.一種氣體處理模塊,所述氣體處理模塊包括:
吸附介質,當污染物濃度大于或等于閾值濃度時,吸附介質暫時保留至少一部分氣流中的污染物,且隨后當濃度小于閾值濃度時,吸附介質釋放至少一部分所保留的污染物;
與所述吸附介質流體連通的反應器,所述吸附介質與所述反應器合作以控制氣流輸出部分中污染物的濃度。
9.權利要求8的模塊,其中所述吸附介質包括多種不同類型的吸附介質。
10.權利要求9的模塊,其中所述多種不同類型的吸附介質包括沸石、活性碳、基于鈦的吸附介質、硅膠、活性粘土或基于鋁的吸附介質中的至少一種。
11.權利要求8的模塊,其中所述吸附介質和所述反應器集成在單一的整體結構中。
12.權利要求8的模塊,其中所述反應器具有一定的氣體凈化能力且閾值濃度超過了所述氣體凈化能力。
13.權利要求8的模塊,其中所述反應器包括接受所釋放的污染物且使至少一部分所釋放的污染物化學轉化的催化劑。
14.權利要求8的模塊,其中所述吸附介質布置在所述反應器下游,且所述吸附介質保留的所述保留的污染物接受自所述反應器。
15.權利要求8的模塊,其中當濃度小于閾值濃度時,所述吸附介質逐漸釋放所保留的污染物。
16.一種氣體處理的方法,所述方法包括:
當氣流輸入部分中污染物的濃度暫時超過閾值濃度時,控制氣流輸出部分中污染物的濃度。
17.權利要求16的方法,所述方法包括當氣流輸入部分中的濃度暫時大于或等于閾值濃度時暫時保留污染物,當該濃度小于閾值濃度時釋放所保留的污染物,并且維持輸出部分中污染物的濃度在所選濃度范圍內。
18.權利要求17的方法,所述方法包括逐漸釋放所保留的污染物且在所釋放的污染物進入氣流輸出部分之前使所釋放的污染物化學轉化。
19.權利要求16的方法,所述方法包括使污染物濃度的一部分化學轉化,暫時保留污染物濃度的剩余部分,隨后當濃度不超過閾值濃度時,釋放剩余部分以維持輸出部分中污染物的濃度在所選濃度范圍內。
20.權利要求16的方法,所述方法包括當閾值濃度超過氣流中的至少一個氣體凈化器的凈化能力時,控制氣流輸出部分中污染物的濃度。
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