[發(fā)明專利]適用于去除蝕刻后的光致抗蝕劑和底部抗反射涂層的組合物

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680007314.8
• 申請(qǐng)日: 2006-01-09
• 公開（公告）號(hào): CN101137939A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大衛(wèi)·W·明賽克;王威華;大衛(wèi)·D·伯恩哈德;托馬斯·H·鮑姆;梅利莎·K·拉斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 高級(jí)技術(shù)材料公司
• 主分類號(hào): G03F7/30
• 分類號(hào): G03F7/30;G03F7/32;G03F7/42
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 王海川;樊衛(wèi)民

1.一種水基去除用組合物，該組合物適用于將光致抗蝕劑和/或底部抗反射涂層(BARC)材料從其所在的微電子裝置基片上去除，所述組合物包含在水性介質(zhì)中的至少一種離液序列高的溶質(zhì)和至少一種堿性鹽，其中該去除用組合物適用于將光致抗蝕劑和/或BARC材料從其所在的微電子裝置上去除。

2.權(quán)利要求1的組合物，基于組合物的總重量而言，包含如下的組分：

60.0％重量-98.0％重量??去離子水

1.0％重量-30.0％重量???離液序列高的溶質(zhì)；和

1.0％重量-10.0％重量???堿性鹽，

其中組合物的這些組分的重量百分比總計(jì)不超過(guò)100％重量。

3.權(quán)利要求1的組合物，其中該至少一種離液序列高的溶質(zhì)包括選自如下的離液序列高的物質(zhì)：尿素；氯化胍；2-、3-和4-氨基苯甲酸；2-、3-和4-硝基苯甲酸；2-、3-和4-茴香酸；2-、3-和4-氟-、氯-、溴-和碘-苯甲酸；2-、3-和4-甲硫基-苯甲酸；2，4-二氨基-6-甲基-1，3，5-三嗪；苯胺；2-、3-和4-甲硫基-苯胺；2-、3-和4-茴香胺；1，2-、1，3-和1，4-苯二胺；1，3，5-三嗪；蜜胺；乙酰胍胺；2，4-二氨基-6-苯基-1，3，5-三嗪；2-氯-4，6-二氨基-1，3，5-三嗪；2，4，6-三甲氧基-1，3，5-三嗪；2，4，6-三甲氧基-1，3，5-三嗪；2，4-二氨基-1，3，5-三嗪；2-氨基-1，3，5-三嗪；2-氨基-4-乙氧基-6-(甲氨基)-1，3，5-三嗪；2-甲氧基-4-甲基-6-(甲氨基)-1，3，5-三嗪；1，2，4-三唑；咪唑；2-巰基咪唑；2-巰基苯并咪唑；選自氯化物鹽、溴化物鹽、碘化物鹽、硝酸鹽、硫氰酸鹽、氯酸鹽和苯甲酸鹽的離液序列高的陰離子；及其組合。

4.權(quán)利要求3的組合物，其中與離液序列高的陰離子相關(guān)聯(lián)的陽(yáng)離子包括(NR¹R²R³R⁴)⁺，其中R¹、R²、R³和R⁴相互間可以是相同或不同的，各自獨(dú)立地選自氫和C₁-C₆烷基。

5.權(quán)利要求1的組合物，其中該至少一種離液序列高的溶質(zhì)包括原子或分子半徑大于或等于1.6的離液序列高的陰離子。

6.權(quán)利要求1的組合物，其中該至少一種離液序列高的溶質(zhì)包括尿素。

7.權(quán)利要求1的組合物，其中該至少一種堿性鹽包括(NR¹R²R³R⁴)OH，其中R¹、R²、R³和R⁴相互間可以是相同或不同的，各自獨(dú)立地選自氫和C₁-C₆烷基。

8.權(quán)利要求1的組合物，其具有的pH值大于約13。