[發明專利]鍍有鋯的鋼板及使用此鋼板制造的化學裝置組件

無效

• 申請號: 200680007290.6
• 申請日: 2006-03-09
• 公開（公告）號: CN101142339A
• 公開（公告）日: 2008-03-12
• 發明（設計）人: 恩斯特·托迪諾;伊曼紐·克爾伯特
• 申請（專利權）人: 法商卡朋羅蘭化工設備股份有限公司
• 主分類號: C22F1/16
• 分類號: C22F1/16;B23K35/00;B23K1/19;B32B15/01
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司
• 代理人: 徐金國;梁揮

1.一種含鍍層組合件的制造方法，例如制造一具有鋯或鋯合金鍍層的化學裝置元件或核裝置元件的方法，其中該鍍層組合件包含一鋼支撐部與至少一鋯或鋯合金鍍層，該方法包括有下列步驟：

(a)形成一初始組合件，該初始組合件包含一鋼支撐部、一鋯或鋯合金鍍層以及至少一硬焊材料；其中，該鋼支撐部通常為一鋼板；該鋯或者鋯合金鍍層為一薄片，其尺寸類似該鋼板的尺寸；該硬焊材料為一包含銀和銅的合金，位于該鋼支撐部與該鋯或鋯合金鍍層之間；

(b)嵌入該初始組合件至一具有一可控大氣的硬焊室中；

(c)形成一可控大氣于該硬焊室中；以及

(d)再加熱該初始組合件至一溫度，該溫度至少等于該硬焊材料的熔化溫度，進而結合該鋯或鋯合金鍍層至該鋼支撐部；

該方法的特征在于，在形成該初始組合件之前，沉積一鈦或鈦合金層于該鋯或鋯合金鍍層上，進而其鍍有鈦或鈦合金的表面與該硬焊材料接觸。

2.如權利要求1所述的含鍍層組合件的制造方法，其特征在于，該鋯合金鍍層的厚度小于5毫米，較佳小于2毫米，以及甚至更佳的是小于1毫米。

3.如權利要求1或2所述的含鍍層組合件的制造方法，其特征在于，該鈦或鈦合金層沉積于該鋯或鋯合金鍍層上，進而該鈦或鈦合金層的厚度值可低于50微米，并且較佳的是介于1至10微米之間，更佳是2至7微米甚至是3至6微米之間。

4.如權利要求1所述的含鍍層組合件的制造方法，其特征在于，該鈦或鈦合金層通過一陰極濺鍍而沉積于該鋯或鋯合金鍍層上，其中該鋯或鋯合金鍍層的表面較佳的是預先經過洗凈、去油污以及離子清洗。

5.如權利要求1所述的含鍍層組合件的制造方法，其特征在于，包含銀和銅的該硬焊材料選至二元合金、銀-銅-鋅的三元合金、銀-銅-鋅-錫的四元合金或者銀-銅-鋅-鎘的四元合金，其中該二元合金的組成類似于銀含量為67％至75％范圍的共晶成分。

6.如權利要求1所述的含鍍層組合件的制造方法，其特征在于，該硬焊材料以帶狀或一網狀形式放置于該鋼支撐部與該鋯或鋯合金鍍層之間。

7.如權利要求1所述的含鍍層組合件的制造方法，其特征在于，該初始組合件嵌入一硬焊室，該硬焊室為真空，且其中建立有10^-3至10^-1帕之間的壓力。

8.如權利要求1所述的含鍍層組合件的制造方法，其特征在于，該硬焊材料包含有錫或鋅，并且該初始組合件嵌入具有一可控大氣的該硬焊室中，該可控大氣通常為氬、氮或者一氬-氮混合物，且該可控大氣的壓力介于5×10³至5×10⁴帕之間。

9.如權利要求1所述的含鍍層組合件的制造方法，其特征在于，該初始組合件在硬焊過程中承受至少等于0.1毫帕的噴鍍壓力。

10.一種鋯或鋯合金片，其特征在于，于該鋯或鋯合金片的其中一表面上鍍有一鈦或鈦合金層，該鈦或鈦合金層的厚度介于2至10微米之間，較佳是2至7微米之間，以及甚至更佳的是3至6微米之間。

11.一種鍍有鈦或鈦合金層的鋯或鋯合金片的制造方法，其特征在于，沉積該鈦或鈦合金層通過：

一腔室內的陰極濺鍍，其中該腔室配備有一陰極磁控管且處于10^-4至10^-2托的壓力范圍下；或者

真空環境下的等離子槍，

最好是該鋯或鋯合金片的表面預先經過洗凈、去油污以及或經離子清洗。

12.一種鍍有鋯或鋯合金層的鋼板，該鋼板包含有一鋼支撐層，其厚度較佳位于1至50毫米之間；一中間鈦或鈦合金層，其厚度位于2至10微米之間，較佳為2至7微米，以及更佳的是3至6微米；以及一鋯或鋯合金層，其厚度較佳為小于5毫米，較佳小于1毫米，或者甚至小于0.5毫米，并且可能小于或等于0.3毫米。