[發(fā)明專利]光學薄膜的制造方法、和使用由這樣的制造方法制得的光學薄膜的圖像顯示裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680006472.1
• 申請日: 2006-01-30
• 公開（公告）號: CN101133347A
• 公開（公告）日: 2008-02-27
• 發(fā)明（設計）人: 梅本清司;川本育郎;武田健太郎
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;B05D7/24;B32B7/02;B32B27/28;B32B27/34;G02F1/13363
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李香蘭

1.一種光學薄膜的制造方法，含有：

在經(jīng)取向處理的基材上涂布含有液晶材料的涂布液的工序；

在該液晶材料顯示液晶相的溫度下對該被涂布的液晶材料進行處理而使其取向，在該基材表面形成第一光學補償層的工序；

將在該基板表面形成的該第一光學補償層轉印至透明保護薄膜(T)的表面的工序；

在透明保護薄膜(T)的表面層合偏振鏡的工序；和

在該第一光學補償層的表面形成第二光學補償層的工序；

該偏振鏡與該第一光學補償層互相隔著透明保護薄膜(T)而配置成相反側；

該第一光學補償層是以該第一光學補償層的慢軸與該偏振鏡的吸收軸所成角度成為+17°～+27°或-17°～-27°的方式形成；

該第二光學補償層是以該第二光學補償層的慢軸與該偏振鏡的吸收軸所成角度成為+85°～+95°的方式形成。

2.如權利要求1的制造方法，其中，

上述液晶材料含有聚合性單體及/或交聯(lián)性單體，上述液晶材料的取向工序還包括進行聚合處理及/或交聯(lián)處理。

3.如權利要求2的制造方法，其中，

上述聚合處理及/或交聯(lián)處理利用加熱或光照射而進行。

4.如權利要求1～3中任意一項所述的制造方法，其中，

上述第二光學補償層形成為其Nz系數(shù)為1.2≤Nz≤2。

5.如權利要求1～4中任意一項所述的制造方法，其中，

上述在第一光學補償層表面形成第二光學補償層的工序包括：

在基材片的表面涂布含有從聚酰亞胺、聚酰胺、聚醚酮、聚酰胺酰亞胺及聚酯酰亞胺所組成的組中選擇的至少一者的聚合物的涂布液的工序；

使該涂布液干燥而在該基材片表面形成聚合物層的工序；

針對每一該基材片對該聚合物層進行加熱及拉伸，在該基材片上形成該第二光學補償層的工序；

將在該基材片上形成的第二光學補償層貼附至該第一光學補償層的表面的工序；以及

將該基材片從該第二光學補償層剝離的工序。

6.如權利要求5所述的制造方法，其中，

于在上述基材片上形成上述第二光學補償層的工序中，針對每一該基材片以1.2倍～3倍的拉伸倍率對上述聚合物層進行拉伸。

7.如權利要求5或者6所述的制造方法，其中，

于在上述基材片上形成上述第二光學補償層的工序中，針對每一該基材片沿寬度方向對上述聚合物層進行拉伸。

8.如權利要求1～7中任意一項所述的制造方法，其中，

上述第二光學補償層的厚度為1μm～10μm。

9.如權利要求1～8中任意一項所述的制造方法，其中，

上述第一光學補償層為λ/2板。

10.如權利要求1～9中任意一項所述的制造方法，其中，

上述第二光學補償層為λ/4板。

11.一種光學薄膜，是由權利要求1～10中任意一項所述的制造方法而得到的。

12.一種圖像顯示裝置，其含有權利要求11所述的光學薄膜。