[發(fā)明專(zhuān)利]由多孔基質(zhì)和金屬或金屬氧化物納米微粒組成的復(fù)合材料有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680006000.6 | 申請(qǐng)日: | 2006-02-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101128621A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-02-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅蘭·伯努瓦;莫娜·特雷蓋-德勒皮埃爾;瑪麗-路易斯·薩布吉 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 國(guó)家科研中心;法國(guó)國(guó)立奧爾良大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/48 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/48;C23C18/14;C23C16/04 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 王達(dá)佐;韓克飛 |
| 地址: | 法國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 法國(guó);FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多孔 基質(zhì) 金屬 氧化物 納米 微粒 組成 復(fù)合材料 | ||
1.制備復(fù)合材料的方法,所述方法包括用金屬納米微粒或金屬氧化物納米微粒的一種或多種前體溶液浸漬微孔或中孔固體材料,然后在所述形成基質(zhì)的材料中還原所述前體,所述方法的特征在于,在飽和蒸汽壓及所述前體溶液的回流下進(jìn)行浸漬,并且通過(guò)輻射分解進(jìn)行所述還原。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述前體溶液還含有氧化性自由基攔截劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,“攔截劑”/“前體金屬鹽”濃度之比不小于約103至104。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,“攔截劑”/“前體金屬鹽”濃度之比小于或等于約10-2至10-1。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述微孔或中孔材料選自二氧化硅、氧化鋁、沸石、諸如氧化鋯、氧化鈦的金屬氧化物及呈現(xiàn)中孔性的聚合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述微孔或中孔材料中孔在納米尺度的分布是無(wú)序的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述微孔或中孔材料中孔在納米尺度的分布是有序且任意定向的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述納米微粒前體選自下列金屬的化合物:Bi、Au、Ag、Ti、Mg、Al、Be、Mn、Zn、Cr、Cd、Co、Ni、Mo、Sn和Pb。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述納米微粒前體化合物為無(wú)機(jī)鹽、有機(jī)鹽或有機(jī)金屬化合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述無(wú)機(jī)鹽為硫酸鹽或高氯酸鹽。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述有機(jī)鹽為甲酸鹽或新癸酸鹽。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,所述前體為新癸酸鉍。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述前體化合物為選自二苯基鎂、二苯基鈹、三異丁基鋁、二環(huán)戊二烯基鉻、二環(huán)戊二烯基鈦、二環(huán)戊二烯基鎂、四羰基鈷、四羰基鎳、六羰基鉬、二丙基鎘、四烯丙基鋅及四丙基鉛的有機(jī)金屬化合物。
14.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述氧化性自由基攔截劑為伯醇、仲醇及甲酸堿金屬鹽。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,使用伽瑪射線源、X-射線源或加速器源進(jìn)行所述輻射分解還原。
16.由基質(zhì)和金屬或金屬氧化物的納米微粒組成的復(fù)合材料,所述基質(zhì)由平均孔隙尺寸小于1nm的微孔固體材料或平均孔隙尺寸為1nm至100nm的中孔固體材料構(gòu)成,所述材料的特征在于,所述基質(zhì)材料為無(wú)序的或有序且任意定向的,并且:
·當(dāng)所述基質(zhì)材料為有序且任意定向的時(shí),所述納米微粒的大小是單分散的,且占所述基質(zhì)材料所有孔隙體積的50%至67%;以及
·當(dāng)所述基質(zhì)材料為無(wú)序的時(shí),所述納米微粒的大小為單分散的,或與所述基質(zhì)材料的孔隙大小相同,且占所述基質(zhì)材料孔隙初始體積的至少50%。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的復(fù)合材料,其特征在于,所述固體基質(zhì)由選自二氧化硅、氧化鋁、沸石、諸如氧化鋯、氧化鈦的金屬氧化物及呈現(xiàn)中孔性的聚合物的材料構(gòu)成。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的復(fù)合材料,其特征在于,所述納米微粒由下列金屬:Bi、Au、Ag、Ti、Mg、Al、Be、Mn、Zn、Cr、Cd、Co、Ni、Mo、Sn、Pb或所述金屬之一的氧化物構(gòu)成。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的復(fù)合材料,其特征在于,所述基質(zhì)材料為中孔的并且所述納米微粒由鉍構(gòu)成。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的復(fù)合材料,其特征在于,所述基質(zhì)的微孔性為有序且定向的,為圓柱體通道的形式,并且所述納米微粒彼此接觸,與所述納米微粒間的真正空間相應(yīng)的殘余孔隙率為33%。
21.權(quán)利要求19所述的復(fù)合材料作為熱電材料的用途。
22.包含權(quán)利要求19所述的復(fù)合材料作為活性材料的低溫發(fā)生器。
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C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





