[發(fā)明專利]包括可拆卸光學(xué)產(chǎn)品的工件和制造該工件的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680005909.X
• 申請日: 2006-02-23
• 公開（公告）號: CN101128748A
• 公開（公告）日: 2008-02-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 亞里·魯圖
• 申請（專利權(quán)）人: 平塔維申公司
• 主分類號: G02B1/00
• 分類號: G02B1/00;B29D11/00
• 代理公司: 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 鄭立;車文

1.一種包括一個或者多個可拆卸的光學(xué)產(chǎn)品的工件，其特征在于，包括無縫集成的光學(xué)產(chǎn)品的所述工件涂覆有一個或者多個涂層，使得該涂覆過的工件的至少最上涂層具有至少莫氏2級硬度。

2.如權(quán)利要求1所述的工件，其特征在于，所述涂覆過的工件的最上涂層具有至少莫氏4級硬度，優(yōu)選具有至少莫氏6級硬度。

3.如權(quán)利要求1所述的工件，其特征在于，所述工件由塑料或者玻璃制成。

4.如權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述涂覆過的工件的厚度范圍是0.3mm-5mm，優(yōu)選是0.4mm-1.5mm，最優(yōu)選是0.7mm-1.2mm。

5.如權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，通過注射成形，優(yōu)選使用與在CD/DVD光盤生產(chǎn)中使用的相同的注射成形裝置制造待涂覆的工件。

6.如權(quán)利要求1-5中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述工件的形狀是圓形、橢圓形、三角形或者多邊形，優(yōu)選是圓形。

7.如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述光學(xué)產(chǎn)品是電信裝置、相機(jī)、GPS定位裝置、消費(fèi)電子裝置優(yōu)選是電信裝置的平面透鏡或者屏幕防護(hù)件。

8.如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述工件的表面已經(jīng)涂覆有一個或者多個漆層，優(yōu)選是硬漆層。

9.如權(quán)利要求8所述的工件，其特征在于，所述漆層的厚度范圍是750nm-50μm，優(yōu)選是1μm-15μm，最優(yōu)選是4μm-7μm。

10.如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述工件的表面已涂覆有一個或者多個金屬板，用于區(qū)分所述光學(xué)產(chǎn)品。

11.如權(quán)利要求10所述的工件，其特征在于，已通過利用激光燒蝕蒸發(fā)金屬形成一個或者多個金屬板，這樣形成的材料等離子體朝向工件的表面，因此產(chǎn)生金屬板。

12.如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述工件的表面已涂覆有一個或者多個金剛石層。

13.如權(quán)利要求12所述的工件，其特征在于，所述金剛石層的厚度范圍是1nm-3μm，優(yōu)選是20nm-500nm，最有利是30nm-300nm。

14.如權(quán)利要求12或13所述的工件，其特征在于，已通過利用激光燒蝕蒸發(fā)碳形成一個或者多個金剛石層，這樣形成的材料等離子體朝向工件的所述表面，因此產(chǎn)生金剛石層。

15.如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述工件的表面已涂覆有一個或者多個光催化層。

16.如權(quán)利要求15所述的工件，其特征在于，已通過利用激光燒蝕蒸發(fā)必需的金屬氧化物形成一個或者多個光催化層，這樣形成的材料等離子體朝向所述工件的所述表面，因此產(chǎn)生光催化層。

17.如權(quán)利要求15所述的工件，其特征在于，已在氧相中通過利用激光燒蝕蒸發(fā)必需的金屬形成一個或者多個光催化層，這樣形成的材料等離子體朝向工件的表面，因此產(chǎn)生光催化層。

18.如權(quán)利要求16或17所述的工件，其特征在于，所述金屬由鈦、鋅、銀、鐵、銅、鎢、硅、鉬、鍶或者它們的合金構(gòu)成。

19.如權(quán)利要求15所述的工件，其特征在于，所述光催化層的厚度范圍是1nm-1000nm，優(yōu)選是5nm-200nm，最有利是20nm-50nm。

20.如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述工件的表面已涂覆有一個或者多個提供UV保護(hù)的層。

21.如權(quán)利要求20所述的工件，其特征在于，已通過利用激光燒蝕蒸發(fā)必需的襯底形成一個或者多個產(chǎn)生UV保護(hù)的層，這樣形成的材料等離子體朝向工件的表面，因此產(chǎn)生提供UV保護(hù)的層。

22.如權(quán)利要求20所述的工件，其特征在于，所述提供UV保護(hù)的層的厚度范圍是1nm-1000nm，優(yōu)選是5nm-200nm，最有利是20nm-50nm。

23.如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的工件，其特征在于，所述工件的表面已涂覆有一個或者多個導(dǎo)光板。