[發明專利]顯示裝置及其制造方法有效
| 申請號: | 200680005823.7 | 申請日: | 2006-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN101128766A | 公開(公告)日: | 2008-02-20 |
| 發明(設計)人: | N·W·哈古德;J·L·斯泰恩;T·T·布羅斯尼漢;J·甘德希;J·J·菲喬;R·S·佩恩;R·巴頓 | 申請(專利權)人: | 皮克斯特羅尼克斯公司 |
| 主分類號: | G02B26/02 | 分類號: | G02B26/02;G02B6/132;H04N5/74 |
| 代理公司: | 北京北翔知識產權代理有限公司 | 代理人: | 謝靜;楊勇 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種形成空間光調制器的方法,該空間光調制器包括由順性的梁支承的快門,該方法包括:
在一個基片上形成一個模子,其中該模子包括一個下水平表面、一個上水平表面和一個壁;
在該模子的該下水平表面和該壁上沉積一種梁材料;
去除沉積在該模子的下水平表面上的該梁材料,而保留大部分沉積在該模子的壁上的梁材料,以形成該順性的梁;
形成連接到該順性的梁上的快門;并且
去除該模子,從而釋放該快門和余留的梁材料。
2.如權利要求1所述的方法,其中該模子的下水平表面包括一個第一犧牲層的頂部。
3.如權利要求2所述的方法,其中去除該模子包括去除該第一犧牲層。
4.如權利要求2所述的方法,其中該模子的壁包括一個第二犧牲層。
5.如權利要求2所述的方法,其中去除該模子包括去除該第二犧牲層。
6.如權利要求1所述的方法,其中去除該梁材料包括對該梁材料施加一種各向異性蝕刻。
7.如權利要求6所述的方法,包括向該基片施加一個電位以控制該各向異性蝕刻的方向。
8.如權利要求1所述的方法,其中該梁材料的沉積把該梁材料連接到設置在該基片上的一個支撐點。
9.如權利要求1所述的方法,其中該梁材料的沉積把該梁材料連接到沉積在一層在該模子的下水平表面以下沉積的材料上的一個支撐點上。
10.如權利要求9所述的方法,其中該梁材料的沉積在該梁材料與該支撐點之間建立了一種電連接。
11.如權利要求1所述的方法,其中形成該快門包括在該模子的上水平表面上沉積一個快門層,使得該快門層連接到該梁材料。
12.如權利要求11所述的方法,其中該快門層包括非晶硅。
13.如權利要求11所述的方法,其中該快門層用不同于該梁材料的一種材料形成。
14.如權利要求11所述的方法,其中該快門層用與該梁材料相同的材料形成。
15.如權利要求14所述的方法,其中該梁材料與該快門層一起包括一個多層的復合物。
16.如權利要求15所述的方法,其中該復合物包括至少一層非晶硅和至少一層金屬。
17.如權利要求15所述的方法,其中該多層在該順性的梁中產生一種不平衡的應力層次。
18.如權利要求1所述的方法,其中該模子壁大體上正交于該基片。
19.如權利要求1所述的方法,其中該梁材料沉積在該模子的壁上以具有一種不到約2微米的厚度。
20.如權利要求1所述的方法,其中該梁材料沉積在該模子的壁上以具有一種不到約1.5微米的厚度。
21.如權利要求1所述的方法,其中該梁材料沉積在該模子的壁上以具有一種不到約1.0微米的厚度。
22.一種空間光調制器,包括:
確定一個平面的基片;
在該基片上方由一個順性的梁懸掛的一個快門,其中該順性的梁的橫剖視厚度在平行于該基片的平面的一個維度上不到約2微米。
23.如權利要求22所述的空間光調制器,其中該順性的梁的該尺寸不到約1.5微米。
24.如權利要求22所述的空間光調制器,其中該順性的梁的該尺寸不到約1微米。
25.一種制造顯示裝置的方法包括:
直接在一個大體上透明的基片上沉積一介電體材料層:
直接在該介電體材料的頂部沉積一金屬層:
在該金屬層中形成多個孔徑光闌;
在該金屬層的頂部形成一個控制矩陣;并且
在該控制矩陣的頂部并且與該控制矩陣電連通地形成多個調制光的快門組件,從而該控制矩陣控制該多個快門組件的光調制功能性。
26.如權利要求25所述的方法,其中該控制矩陣包括多個薄膜部件。
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