[發明專利]平面或基本為平面的發光結構無效
| 申請號: | 200680005732.3 | 申請日: | 2006-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN101189407A | 公開(公告)日: | 2008-05-28 |
| 發明(設計)人: | X·方東;T·貝爾廷-穆羅;G·奧代;張經維 | 申請(專利權)人: | 法國圣-戈班玻璃公司 |
| 主分類號: | E06B9/24 | 分類號: | E06B9/24 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 韓宏 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平面 基本 發光 結構 | ||
1.一種發光結構(1000、2000、3000、4000、5000),包括:
-具有相互面對的主面(21到32)并構成內部空間(10)的兩個壁(2、3);
-位于所述內部空間中的光源(6到7’)和用于所述源的電源(4、5);
所述結構具有至少一個基本透明的部分或全透明的部分用以形成至少一個進光孔,所述結構能通過至少一個所述主面(21到32)的至少一個發光區域來照明;
-具有反射可見光的反射表面(109、203)且與所述發光區域的至少一部分相對放置的元件(100、200),
其特征在于,所述元件是可開關的,所述反射表面能在至少一個區域成為基本透明表面(203)或全透明表面,反之亦然。
2.如權利要求1所述的發光結構(1000到5000),其特征在于,所述反射表面(109、203)位于所述內部空間(10)的外側。
3.如權利要求1或2所述的發光結構(2000),其特征在于,具有所述反射表面(203)的所述可開關元件(2000)在約550nm處具有30%或更低的外部反射因子,優選地在垂直入射情況下具有30%或更低的外部光反射率RL1。
4.如前述權利要求中任意一項所述的發光結構(1000到5000),其特征在于,它包括用于調整所述反射表面的反射水平的裝置。
5.如權利要求中4所述的發光結構(1000到5000),其特征在于,所述第一和所述第二發光區域分別與所述面(21到32)關聯,而且所述照明是不對稱的。
6.如前述權利要求中任意一項所述的發光結構(1000到5000),其特征在于,所述可開關元件(100、200)和所述光源(6到7’)能獨立工作。
7.如前述權利要求中任意一項所述的發光結構(2000),其特征在于,所述結構包括至少全不透明且優選地發光的外圍區域(60)。
8.如前述權利要求中任意一項所述的發光結構(1000到5000),其特征在于,至少在構成所述進光孔的部分中,所述結構具有20%或更高的光透射率TL。
9.如前述權利要求中任意一項所述的發光結構(1000),其特征在于,所述發光區域基本覆蓋所述面(22、32),且優選地提供均勻照明。
10.如前述權利要求中任意一項所述的發光結構(1000),其特征在于,所述可開關元件(100)包括可逆電化學鏡。
11.如權利要求10所述的發光結構(1000),其特征在于,所述可逆電化學鏡(100)按順序包括:
-第一基片(107);
-第一成核位置(105);
-電解液(104);
-第二成核位置(103);
-第二基片(101);以及
-在所述第一和第二成核位置之間的金屬材料原子(M+),
所述第一成核位置充分遠離所述金屬材料,以通過電子沉積形成所述透明表面,所述第二成核位置充分靠近所述金屬材料,以通過電子沉積形成所述反射表面(109)。
12.如前述權利要求中任意一項所述的發光結構(2000),其特征在于,所述可開關元件(200)包括多層結構,所述多層結構包括基于金屬氫化物、稀土氫化物或包含鎳和鎂的合金的活動層(203)、具有所述反射表面的所述活動層(203)能通過氣體(205)的保留或單價離子的遷移而成為透明的。
13.如權利要求12所述的發光結構(2000),其特征在于,所述多層結構可以按順序包括:
-基于金屬或稀土氫化物的所述活動層(203);
-鈀層(204);
-電解層(204’);以及
-氧化鎢層(205)。
14.如權利要求12或13所述的發光結構(2000),其特征在于,所述反射表面(203)位于所述內部空間(10)的外側,與所述內部空間最近。
15.如前述權利要求中任意一項所述的發光結構(1000到5000),其特征在于,所述光源包括光致發光材料(6到7’)。
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