[發明專利]電磁波屏蔽層積體及使用了該層積體的顯示裝置

無效

• 申請號: 200680005496.5
• 申請日: 2006-02-23
• 公開（公告）號: CN101124863A
• 公開（公告）日: 2008-02-13
• 發明（設計）人: 森本保;川崎正人;賦舩昌宏;柳澤享
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00;G09F9/00;B32B9/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 沙永生

技術領域

本發明涉及在基材上層積了多個層的電磁波屏蔽層積體及具備該電磁波屏蔽層積體的顯示裝置。

背景技術

從等離子顯示器(PDP)的發光面放射出電磁波。該電磁波會對其附近的電器產生影響，有時會導致誤操作。因此，已知以往以屏蔽電磁波為目的在發光面的前面設置于玻璃等基材上被覆了透明導電膜(電磁波屏蔽膜)的部件。

此外，提出了以下的(1)～(3)這樣的層積體。(1)從基材側開始交替層疊了總計2n+1(n為正整數)層的含有1種以上的金屬的以氧化鋅為主成分的氧化物層和以銀為主成分的金屬層的層積體(參照專利文獻1)，(2)從基材側開始交替層疊了由氧化鈦形成的氧化物層和以銀為主成分的金屬層的層積體(參照專利文獻2)，(3)從基材側開始依次層疊了由氧化鈮形成的氧化物層、以銀為主成分的金屬層、由氧化銦-氧化錫形成的氧化物層、以銀為主成分的金屬層和由氧化鈮形成的氧化物層的層積體(參照專利文獻3)。

通常要求該電磁波屏蔽膜具備高可見光透射率和低電阻值。氧化物層和金屬層交替層疊的電磁波屏蔽膜中，為了降低電阻值，已知有增加金屬層的層疊數或加厚金屬層的方法。

專利文獻1：國際公開第98/13850號文本

專利文獻2：日本專利特開2000-246831號公報

專利文獻3：韓國專利申請公開第2003-93734號

發明的揭示

上述專利文獻1所述的現有技術中，為了改善金屬層的銀的耐濕性，在銀中添加了鈀。因此存在電阻值增大的問題。此外，如果為了降低電阻值而增加金屬層的層疊數，則存在可見光透射率下降的問題。

此外，上述專利文獻2、3所述的現有技術中，作為氧化物層使用了折射率高的材料氧化鈦或氧化鈮。如果使用氧化鈦、氧化鈮這樣的折射率高的材料，則具有即使層疊數增加透過率的下降幅度也較小的優點。但是，氧化鈦或氧化鈮與銀直接接觸的層積體存在耐濕性劣化的問題。通過在銀中加入鈀雖然可提高耐濕性，但有電阻值增大的問題。

本發明鑒于上述現有技術存在的問題，提供具有高可見光透射率的同時具有低電阻值及高耐濕性的低成本的電磁波屏蔽層積體及使用了該層積體的顯示裝置。

本發明的電磁波屏蔽層積體是在透明基材上設置有電磁波屏蔽膜的電磁波屏蔽層積體，其特征在于，前述電磁波屏蔽膜從前述基材側開始依次具備由折射率在2.0以上的金屬氧化物形成的第1高折射率層、含有氧化鋅和氧化鈦作為主成分的第1氧化物層、以銀為主成分的導電層及由折射率在2.0以上的金屬氧化物形成的第2高折射率層。

較好的是前述電磁波屏蔽膜在前述導電層和前述第2高折射率層之間具有第2氧化物層。

較好的是前述第2氧化物層是以氧化鋅為主成分的層、以氧化銦和氧化錫為主成分的層、以氧化銦和氧化鈰為主成分的層或者以氧化錫為主成分的層。

較好的是前述第1及第2高折射率層的至少一方為以氧化鈮或氧化鈦為主成分的層。

較好的是前述導電層為由含有金及/或鉍的銀合金形成的層或由銀單體形成的層。

較好的是從前述基材側開始層疊了3層以上的前述電磁波屏蔽膜。

本發明的電磁波屏蔽層積體的另一形態是在透明基材上層疊了2層以上的電磁波屏蔽膜的電磁波屏蔽層積體，其特征在于，前述電磁波屏蔽膜從前述基材側開始依次具備由折射率在2.0以上的金屬氧化物形成的第1高折射率層、以氧化鋅和氧化鈦為主成分的第1氧化物層、以銀為主成分的導電層及由折射率在2.0以上的金屬氧化物形成的第2高折射率層，前述第1高折射率層和前述第2高折射率層的組成相同，在相鄰的前述電磁波屏蔽膜間直接連接的前述第1高折射率層和前述第2高折射率層是均一的1個層。

較好的是前述各電磁波屏蔽膜在前述導電層和前述第2高折射率層間具有第2氧化物層。

較好的是前述第1及第2高折射率層的至少一方為以氧化鈮或氧化鈦為主成分的層。

本發明的顯示裝置的特征在于，具備用于顯示圖像的顯示畫面和被設置于該顯示畫面的目視側的本發明的電磁波屏蔽層積體。

本發明的電磁波屏蔽層積體及顯示裝置是具有高可見光透射率的同時具有低電阻值及高耐濕性的低成本的電磁波屏蔽層積體及使用了該層積體的顯示裝置。

附圖的簡單說明

圖1為表示本發明的電磁波屏蔽層積體的一例的截面示意圖。

圖2為表示等離子顯示器用保護板的一例的截面示意圖。

圖3為表示實施例1、2及比較例1的等離子顯示器用保護板的透射光譜的圖。