[發(fā)明專(zhuān)利]漫射薄膜的設(shè)計(jì)方法及制造方法以及利用其得到的漫射薄膜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680005443.3
• 申請(qǐng)日: 2006-02-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101124495A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 遠(yuǎn)藤俊明;竹田明彥;巖崎修
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 富士膠片株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G02B5/02
• 分類(lèi)號(hào): G02B5/02;G06F17/50
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 朱丹

1.一種漫射薄膜的設(shè)計(jì)方法，其是在透明支撐體上具有光漫射層、用于使入射的光漫射而射出的漫射薄膜的設(shè)計(jì)方法，其中，包括：

特定所述光漫射層中含有的、具有互不相同的粒徑分布的多種粒子組的步驟；

設(shè)定所述光漫射層中的所述多種粒子組的空間填充率的步驟；

算出能夠得到所述空間填充率的所述多種粒子組各自的配合比率的步驟。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)計(jì)方法，其中，

利用粒子組優(yōu)化算出所述配合比率。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)計(jì)方法，其中，

將所述空間填充率設(shè)定在70％以上90％以下的范圍內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項(xiàng)所述的設(shè)計(jì)方法，其中，

所述配合比率通過(guò)包括如下所述的工序的計(jì)算法算出：

配合比率設(shè)定工序，其設(shè)定所述配合比率的初值；

空間設(shè)定工序，其設(shè)定用于配置所述多種粒子組的各粒子的假想空間；

粒子配置工序，其在所述空間分別不規(guī)則地配置所述多種粒子組的各粒子；

填充率算出工序，其在所述空間內(nèi)配置能所述多種粒子組的全部粒子時(shí)縮小所述空間，在縮小的空間執(zhí)行所述粒子配置工序，在所述空間內(nèi)不能配置所述多種粒子組的全部粒子時(shí)，由最后填滿(mǎn)粒子時(shí)的空間的體積算出所述多種粒子組的填充率；

判斷工序，其判斷通過(guò)所述填充率算出工序算出的填充率是否與所述空間填充率一致，在不一致的情況下，更新所述配合比率的初值，以被更新的配合比率執(zhí)行所述空間設(shè)定工序。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任意一項(xiàng)所述的設(shè)計(jì)方法，其中，還包括：

算出并設(shè)定由所述多種粒子組的各粒徑分布的平均及離散、和分別用二項(xiàng)式分布近似所述多種粒子組的粒徑分布時(shí)的各常數(shù)構(gòu)成的參數(shù)的任意一個(gè)的步驟。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任意一項(xiàng)所述的設(shè)計(jì)方法，其中，

所述多種粒子組為具有光透過(guò)性的高分子。

7.一種漫射薄膜的設(shè)計(jì)方法，其是在透明支撐體上具有光漫射層、用于使入射的光漫射而射出的漫射薄膜的設(shè)計(jì)方法，其中，包括：

設(shè)定所述光漫射層中含有的粒子組的空間填充率的步驟；

算出選自由所述粒子組的粒徑分布的平均及離散、和分別用二項(xiàng)式分布近似所述粒子組的粒徑分布時(shí)的所述二項(xiàng)式分布的各常數(shù)構(gòu)成的組中的參數(shù)的任意一個(gè)，以得到所述空間填充率的步驟；

使用具有通過(guò)該參數(shù)特定的粒徑分布的粒子組設(shè)計(jì)所述光漫射層的步驟。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)計(jì)方法，其中，

利用粒子組優(yōu)化算出所述參數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的設(shè)計(jì)方法，其中，

將所述空間填充率設(shè)定在70％以上90％以下的范圍內(nèi)。

10.一種漫射薄膜的制造方法，其是在透明支撐體上具有光漫射層、用于使入射的光漫射而射出的漫射薄膜的制造方法，其中，

準(zhǔn)備所述光漫射層中含有的具有互不相同的粒徑分布的多種粒子組和所述透明支撐體，

算出所述多種粒子組的配合比率，以使所述光漫射層中的所述多粒子的空間填充率成為規(guī)定的空間填充率，

在所述透明支撐體上離散并附著以算出的配合比率配合的所述多種粒子組，在所述透明支撐體上形成所述光漫射層。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的漫射薄膜的制造方法，其中，

利用粒子組優(yōu)化算出所述配合比率。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的制造方法，其中，

將所述規(guī)定的空間填充率設(shè)定在70％以上90％以下的范圍內(nèi)。