[發明專利]小型圖像投影模塊

無效

• 申請號: 200680005216.0
• 申請日: 2006-01-25
• 公開（公告）號: CN101563649A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: 德米特瑞·雅維德
• 申請（專利權）人: 訊寶科技公司
• 主分類號: G03B21/26
• 分類號: G03B21/26;G03B21/28;G03B21/00;G03B29/00;G03B23/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 蔣世迅

1.一種圖像投影模塊，用于投影沿互相正交的縱向和橫向延伸的二維圖像到投影平面上，包括：

支座；

非激光發光二極管陣列，在支座上沿縱向延伸，并在被激勵時，各個非激光發光二極管發射沿縱向和橫向發散的非準直光束；

在支座上的光學裝置，通過沿縱向聚焦該非準直光束和沿橫向準直該非準直光束，可以成像該二極管陣列到投影平面上作為沿縱向延伸的圖像線；

在支座上的掃描儀，用于沿橫向掃描圖像線，該圖像線有許多像素；和

連接到二極管陣列和掃描儀的控制器，用于激勵被選取的多個二極管并用被選取的多個二極管照明被選取的多個像素并使這些像素成為可見的而產生二維圖像；

其中該支座是印刷電路板；

其中發光二極管是邊緣發射發光二極管(EELED)，用于沿大致平行于電路板的光路發射非準直光束，每個邊緣發射發光二極管發射的非準直光束沿橫向是衍射受限的，而沿縱向是非衍射受限的。

2.按照權利要求1的圖像投影模塊，其中光學裝置包括：有橫向光焦度的準直透鏡，用于準直非準直光束；和有縱向光焦度的聚焦透鏡，用于聚焦非準直光束。

3.按照權利要求2的圖像投影模塊，其中每個透鏡是柱面透鏡。

4.按照權利要求2的圖像投影模塊，其中掃描儀包含可振蕩的掃描反射鏡，用于以掃描速率掃描圖像線。

5.按照權利要求1的圖像投影模塊，其中控制器包含激勵和去激勵裝置，用于激勵被選取的多個二極管以照明被選取的多個像素，和用于去激勵其他的二極管而不能照明其他的像素。

6.按照權利要求4的圖像投影模塊，其中EELED陣列、掃描反射鏡、準直透鏡和聚焦透鏡有橫向的高度，它們相對于電路板測量的高度不超過2mm。