[發明專利]有機無機復合體

有效

• 申請號: 200680005174.0
• 申請日: 2006-02-16
• 公開（公告）號: CN101120055A
• 公開（公告）日: 2008-02-06
• 發明（設計）人: 木村信夫;芝田大干;長谷川一希
• 申請（專利權）人: 日本曹達株式會社
• 主分類號: C08L83/04
• 分類號: C08L83/04;C09D183/04
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司
• 代理人: 苗堃;左嘉勛

1.一種有機無機復合體，其特征在于，以式(I)：

R_nSiX_4-n???(I)

所示的有機硅化合物、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷或3-甲基丙 烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的縮合物作為主要成分，含有至少1種感應 250nm～310nm波長的光的感光化合物；所述感光化合物選自具有碳數 1～4的烷氧基或碳數1～4的酰氧基且金屬為鈦、鋯、鋁、硅、鍺、銦、 錫、鉭、鋅、鎢、或鉛的金屬螯合物的縮合物；其中式中R表示碳原子 直接鍵合于式中Si的碳數1～10的烷基或碳數2～10的烯基，X表示 碳數1～4的烷氧基，n表示1或2，當n為2時，R可以相同也可以不 同，當(4-n)為2以上時，X可以相同也可以不同；

所述有機無機復合體是利用250～310nm的波長的光的照射而形成 的。

2.根據權利要求1所述的有機無機復合體，其特征在于，所述金 屬螯合物的縮合物是，相對1摩爾金屬螯合物，用5～100摩爾的水而 水解生成的產物。

3.一種聚硅氧烷類薄膜，其特征在于，是以式(I)

R_nSiX_4-n???(I)

所示的有機硅化合物、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷或3-甲基丙 烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的縮合物作為主要成分、進一步含有至少1 種感應250nm～310nm波長的光的感光化合物的薄膜，所述感光化合物 選自具有碳數1～4的烷氧基或碳數1～4的酰氧基且金屬為鈦、鋯、鋁、 硅、鍺、銦、錫、鉭、鋅、鎢、或鉛的金屬螯合物的縮合物；通過照射 250nm～310nm波長的光，從膜表面向深度方向10nm的膜表面部分的 碳含量是，從膜背面向深度方向10nm的膜背面部分的碳含量的2～60 ％；其中式中R表示碳原子直接鍵合于式中Si的碳數1～10的烷基或 碳數2～10的烯基；X表示碳數1～4的烷氧基，n表示1或2，當n為 2時，R可以相同也可以不同，當(4-n)為2以上時，X可以相同也 可以不同。

4.一種有機無機復合體的制造方法，其特征在于，在選自具有碳 數1～4的烷氧基或碳數1～4的酰氧基且金屬為鈦、鋯、鋁、硅、鍺、 銦、錫、鉭、鋅、鎢、或鉛的金屬螯合物的縮合物中的至少1種感應 250nm～310nm波長的光的感光化合物的存在下，對式(I)

R_nSiX_4-n(I)

所示的有機硅化合物、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷或3-甲基丙 烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、和／或其縮合物照射250nm～310nm波長 的光；其中式中R表示碳原子直接鍵合于式中Si的碳數1～10的烷基 或碳數2～10的烯基，X表示碳數1～4的烷氧基，n表示1或2，當n 為2時，R可以相同也可以不同，當(4-n)為2以上時，X可以相同 也可以不同。